二阶光栅分布反馈半导体激光器的研制
摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-11页 |
第1章 绪论 | 第11-18页 |
·半导体激光器研究趋势 | 第11-12页 |
·二阶DFB-LD 的发展概述 | 第12-15页 |
·二阶DFB-LD 的理论研究方法 | 第15-17页 |
·本文的研究工作 | 第17-18页 |
第2章 二阶DFB-LD的分析与结构设计 | 第18-41页 |
·二阶DFB-LD 的工作原理及类型 | 第18-25页 |
·二阶DFB-LD的工作原理 | 第18-20页 |
·二阶DFB-LD的类型 | 第20-25页 |
·SEDFB-LD 的介绍 | 第25-28页 |
·宽条型二阶DFB-LD 介绍 | 第28-30页 |
·二阶DFB-LD 的结构设计 | 第30-39页 |
·结构设计的目的 | 第30-32页 |
·阵列相干的实现方法介绍 | 第32-35页 |
·基于SEDFB-LD实现阵列相干的设计方案 | 第35-38页 |
·改善半导体激光器横模特性的设计方案 | 第38-39页 |
·本章小结 | 第39-41页 |
第3章 二阶DFB-LD的理论分析和数值模拟 | 第41-54页 |
·二阶DFB-LD 的耦合模理论 | 第41-46页 |
·DFB-LD的耦合模理论分析 | 第41-43页 |
·修正的耦合模理论 | 第43-45页 |
·二阶DFB-LD的模式特性 | 第45-46页 |
·二阶DFB-LD的出光特性 | 第46-47页 |
·特定结构二阶DFB-LD的模拟结果 | 第47-53页 |
·本章小结 | 第53-54页 |
第4章 二阶DFB-LD的制作 | 第54-64页 |
·二阶金属光栅DFB-LD的制作工艺 | 第54-57页 |
·光栅的制作技术 | 第57-60页 |
·光刻技术 | 第58-60页 |
·刻蚀技术 | 第60页 |
·制作均匀光栅的实验 | 第60-63页 |
·全息光刻技术介绍 | 第61-62页 |
·均匀光栅的制作 | 第62-63页 |
·本章小结 | 第63-64页 |
第5章 结论 | 第64-67页 |
·全文总结 | 第64-66页 |
·本文创新点 | 第66页 |
·工作建议与展望 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-71页 |
在校期间学术成果情况 | 第71-72页 |
指导教师及作者简介 | 第72-73页 |
致谢 | 第73页 |