| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第16-19页 |
| 1.1 氧化锌的基本性质 | 第16页 |
| 1.2 金属掺杂的氧化锌 | 第16-17页 |
| 1.3 氧化锌基薄膜的研究现状 | 第17-18页 |
| 1.4 研究的目的及意义 | 第18页 |
| 1.5 本文的研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 ZnO薄膜的制备与表征 | 第19-24页 |
| 2.1 ZnO薄膜的制备方法 | 第19-20页 |
| 2.2 ZnO薄膜的表征方法 | 第20-24页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第20-21页 |
| 2.2.2 紫外可见近红外(UV-VIS-NIR)分光光度计 | 第21-22页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜(SEM)及能量色散X射线光谱仪(EDX) | 第22-23页 |
| 2.2.4 四探针电阻率测试仪 | 第23-24页 |
| 第三章 ZnO薄膜的制备及其特性研究 | 第24-32页 |
| 3.1 ZnO薄膜的制备 | 第24-32页 |
| 3.1.1 不同参数制备的ZnO薄膜的结构特性 | 第25-29页 |
| 3.1.2 不同参数制备的ZnO薄膜的电学特性 | 第29-30页 |
| 3.1.3 最佳条件下制备的ZnO薄膜的特性 | 第30-32页 |
| 第四章 金属掺杂ZnO薄膜的制备及其特性研究 | 第32-54页 |
| 4.1 Y:ZnO薄膜的制备及特性 | 第32-39页 |
| 4.1.1 Y:ZnO薄膜的制备 | 第32-33页 |
| 4.1.2 Y:ZnO薄膜的结构特性 | 第33-34页 |
| 4.1.3 Y:ZnO薄膜的表面形貌及元素组成 | 第34-37页 |
| 4.1.4 Y:ZnO薄膜的电学性质 | 第37-38页 |
| 4.1.5 Y:ZnO薄膜的光学性质 | 第38-39页 |
| 4.2 V:ZnO薄膜的制备及特性 | 第39-46页 |
| 4.2.1 V:ZnO薄膜的制备 | 第39-40页 |
| 4.2.2 V:ZnO薄膜的结构特性 | 第40-41页 |
| 4.2.3 V:ZnO薄膜的表面形貌及元素组成 4.2.3 V:ZnO薄膜的表面形貌及元素组成 | 第41-44页 |
| 4.2.4 V:ZnO薄膜的电学性质 | 第44-45页 |
| 4.2.5 V:ZnO薄膜的光学性质 | 第45-46页 |
| 4.3 Cu-Mn:ZnO薄膜的制备及特性 | 第46-54页 |
| 4.3.1 Cu-Mn:ZnO薄膜的制备 | 第46-47页 |
| 4.3.2 Cu-Mn:ZnO薄膜的结构特性 | 第47-48页 |
| 4.3.3 Cu-Mn:ZnO薄膜的表面形貌及元素组成 | 第48-51页 |
| 4.3.4 Cu-Mn:ZnO薄膜的电学性质 | 第51-52页 |
| 4.3.5 Cu-Mn:ZnO薄膜的光学性质 | 第52-54页 |
| 第五章 结论 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 致谢 | 第62-64页 |
| 附录: 攻读硕士期间发表的文章 | 第64页 |
