| 摘要 | 第2-3页 |
| abstract | 第3页 |
| 第一章 绪论 | 第6-14页 |
| 1.1 铁电材料 | 第6-8页 |
| 1.1.1 铁电体 | 第6-7页 |
| 1.1.2 钛酸钡(BaTiO_3) | 第7-8页 |
| 1.2 新型存储器 | 第8页 |
| 1.3 铁电阻变存储 | 第8-9页 |
| 1.3.1 铁电存储器 | 第8-9页 |
| 1.3.2 铁电阻变存储器 | 第9页 |
| 1.4 铁电二极管研究现状 | 第9-12页 |
| 1.5 本论文研究目的、意义及章节安排 | 第12-14页 |
| 第二章 样品制备技术及测试方法 | 第14-20页 |
| 2.1 薄膜制备方法 | 第14-15页 |
| 2.1.1 脉冲激光沉积技术 | 第14-15页 |
| 2.1.2 磁控溅射技术 | 第15页 |
| 2.2 样品表征方法 | 第15-17页 |
| 2.2.1 X射线衍射技术 | 第15-16页 |
| 2.2.2 X射线反射技术 | 第16页 |
| 2.2.3 原子力显微镜 | 第16-17页 |
| 2.3 性能测试方法 | 第17-20页 |
| 2.3.1 阻变测试 | 第17-18页 |
| 2.3.2 铁电性能 | 第18-20页 |
| 第三章 氧化物薄膜制备及优化 | 第20-34页 |
| 3.1 衬底处理 | 第20页 |
| 3.2 靶材制备 | 第20-22页 |
| 3.3 SrRuO_3薄膜生长条件优化 | 第22-28页 |
| 3.3.1 氧分压对SrRuO_3薄膜质量影响 | 第22-23页 |
| 3.3.2 衬底温度对SrRuO_3薄膜质量影响 | 第23-24页 |
| 3.3.3 激光能量密度对SrRuO_3薄膜质量影响 | 第24-25页 |
| 3.3.4 激光频率对SrRuO_3薄膜质量影响 | 第25-26页 |
| 3.3.5 SrRuO_3薄膜厚度测定及物相表征 | 第26-28页 |
| 3.4 BaTiO_3/SrRuO_3/SrTiO_3异质结构生长条件优化 | 第28-33页 |
| 3.4.1 BaTiO_3/SrTiO_3异质结构制备 | 第28-29页 |
| 3.4.2 BaTiO_3/SrRuO_3/SrTiO_3生长氧分压及温度优化 | 第29-31页 |
| 3.4.3 BaTiO_3生长激光频率影响 | 第31-32页 |
| 3.4.4 BaTiO_3薄膜厚度测定 | 第32-33页 |
| 3.5 顶电极的生长 | 第33-34页 |
| 第四章 BaTiO_3铁电二极管阻变性能探索 | 第34-40页 |
| 4.1 不同厚度BaTiO_3铁电二极管的阻变特性 | 第34-37页 |
| 4.1.1 底电极测试 | 第34-35页 |
| 4.1.2 初态测试 | 第35页 |
| 4.1.3 J-V回滞曲线 | 第35-37页 |
| 4.2 不同厚度BaTiO_3铁电二极管阻变机制探索 | 第37-40页 |
| 4.2.1 初态分析 | 第37-38页 |
| 4.2.2 J-V曲线分析 | 第38-40页 |
| 第五章 离子掺杂对BaTiO_3铁电二极管的性能优化 | 第40-50页 |
| 5.1 掺杂BaTiO_3铁电二极管的制备 | 第40-41页 |
| 5.2 铁电性能研究 | 第41页 |
| 5.3 阻变特性测试 | 第41-43页 |
| 5.4 阻变机制探索 | 第43-48页 |
| 5.4.1 顶电极面积对开关态电阻的影响 | 第43-44页 |
| 5.4.2 J-V曲线拟合和能带结构分析 | 第44-46页 |
| 5.4.3 低温阻变特性 | 第46-48页 |
| 5.5 器件翻转特性 | 第48-50页 |
| 第六章 结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 攻读学位期间研究成果 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
