| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第13-53页 |
| 1.1 引言 | 第13-14页 |
| 1.2 二维半导体材料的构建 | 第14-26页 |
| 1.2.1 二维半导体材料的结构特征 | 第14-17页 |
| 1.2.2 二维半导体材料的合成和表征 | 第17-23页 |
| 1.2.3 二维半导体材料的结构调控 | 第23-26页 |
| 1.3 二维半导体材料在光电驱动催化领域研究进展 | 第26-35页 |
| 1.3.1 二维半导体材料在电催化水分解中的应用 | 第26-31页 |
| 1.3.2 二维半导体材料在光催化二氧化碳还原中的应用 | 第31-35页 |
| 1.4 二维半导体材料光催化二氧化碳还原中的微观动力学研究 | 第35-46页 |
| 1.4.1 光催化二氧化碳还原中的机理研究 | 第36-40页 |
| 1.4.2 原位表征技术在探究反应过程中的应用 | 第40-44页 |
| 1.4.3 过渡态理论计算在研究动力学特征中的应用 | 第44-46页 |
| 1.5 本论文的选题背景和研究内容 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-53页 |
| 第2章 富含双氧空位的二维薄片实现稳健的电解水性能 | 第53-69页 |
| 2.1 引言 | 第53-54页 |
| 2.2 实验部分 | 第54-56页 |
| 2.2.1 样品制备 | 第54页 |
| 2.2.2 产物表征 | 第54-55页 |
| 2.2.3 电化学性能测试 | 第55页 |
| 2.2.4 计算方法 | 第55页 |
| 2.2.5 正电子湮没谱 | 第55-56页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第56-66页 |
| 2.3.1 N掺杂MoO_3单层纳米片的合成机理及表征 | 第56-59页 |
| 2.3.2 未掺杂MoO_3单层纳米片的表征 | 第59-61页 |
| 2.3.3 双氧空位的表征 | 第61-63页 |
| 2.3.4 电催化产氢性能 | 第63-66页 |
| 2.4 本章小结 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-69页 |
| 第3章 镍掺杂对光催化二氧化碳还原选择性的调控及机理研究 | 第69-89页 |
| 3.1 引言 | 第69-70页 |
| 3.2 实验部分 | 第70-73页 |
| 3.2.1 样品制备 | 第71页 |
| 3.2.2 样品表征 | 第71-72页 |
| 3.2.3 表面光电压谱测量 | 第72页 |
| 3.2.4 光催化二氧化碳还原测试 | 第72页 |
| 3.2.5 密度泛函理论计算 | 第72-73页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第73-85页 |
| 3.3.1 镍掺杂ZnCo_2O_4原子级厚度二维薄片的表征 | 第73-78页 |
| 3.3.2 适合光催化二氧化碳还原的能带结构 | 第78-79页 |
| 3.3.3 载流子分离和化学吸附 | 第79-81页 |
| 3.3.4 光催化二氧化碳还原性能 | 第81-82页 |
| 3.3.5 还原过程中间体及反应机理推测 | 第82-85页 |
| 3.4 本章小结 | 第85-87页 |
| 参考文献 | 第87-89页 |
| 第4章 局域单原子掺杂二维材料的光催化二氧化碳还原研究 | 第89-109页 |
| 4.1 引言 | 第89-92页 |
| 4.2 实验部分 | 第92-94页 |
| 4.2.1 样品制备 | 第92页 |
| 4.2.2 样品表征 | 第92-93页 |
| 4.2.3 表面光电压谱测量 | 第93页 |
| 4.2.4 荧光寿命谱 | 第93页 |
| 4.2.5 光催化二氧化碳还原测试 | 第93-94页 |
| 4.2.6 密度泛函理论计算 | 第94页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第94-105页 |
| 4.3.1 铈单原子掺杂ZnGa_2O_4原子级厚度二维薄片的表征 | 第94-100页 |
| 4.3.2 能带结构和光催化性能 | 第100-101页 |
| 4.3.3 载流子行为和化学吸附 | 第101-103页 |
| 4.3.4 还原过程中间体及反应动力学计算 | 第103-105页 |
| 4.4 本章小结 | 第105-107页 |
| 参考文献 | 第107-109页 |
| 第5章 总结及展望 | 第109-115页 |
| 5.1 全文总结 | 第109-110页 |
| 5.2 展望 | 第110-113页 |
| 参考文献 | 第113-115页 |
| 攻读博士期间发表的学术论文 | 第115-117页 |
| 致谢 | 第117-118页 |
