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微弧氧化膜层生长机理及影响因素的研究

摘要第5-6页
Abstract第6页
第1章 绪论第9-19页
    1.1 概述第9-10页
    1.2 微弧氧化技术第10-11页
    1.3 MAO 的应用第11-12页
    1.4 MAO 的历史以及机理研究现状第12-17页
    1.5 本文的主要研究内容第17-19页
第2章 实验设备和研究方法第19-23页
    2.1 试样选材及前处理第19页
        2.1.1 基体材料第19页
        2.1.2 试样准备第19页
    2.2 实验设备第19页
    2.3 实验方法第19-22页
        2.3.1 MAO 膜层制备第19-20页
        2.3.2 电压采集第20页
        2.3.3 火花形貌记录第20页
        2.3.4 膜层剥离第20-21页
        2.3.5 形貌和元素分析第21页
        2.3.6 DSC 分析第21-22页
        2.3.7 XRD 分析第22页
    2.4 本章小结第22-23页
第3章 MAO 膜层生长机理第23-39页
    3.1 电压和弧光变化第23页
    3.2 膜层厚度变化第23-24页
    3.3 表面形貌和元素分析第24-26页
    3.4 断面形貌和元素分析第26-27页
    3.5 膜层/基体界面形貌和元素分析第27-32页
    3.6 掰断面形貌分析第32-34页
    3.7 膜层内孔洞全貌第34-35页
    3.8 膜层击穿放电模型第35-37页
    3.9 本章小结第37-39页
第4章 MAO 膜层的物相研究第39-49页
    4.1 MAO 膜层的物相组成第39-41页
    4.2 MAO 膜层中非晶相的研究第41-47页
        4.2.1 非晶相的 DSC 分析第41-43页
        4.2.2 非晶相组成的分析第43-45页
        4.2.3 非晶相在膜层中的分布第45-47页
    4.3 本章小结第47-49页
第5章 超声波处理对 MAO 膜层中莫来石形成的影响第49-57页
    5.1 NA_2SIO_3浓度对传统 MAO 膜层中 SI 含量的影响第49-52页
    5.2 NA_2SIO_3浓度对传统 MAO 膜层莫来石含量的影响第52-53页
    5.3 超声波辅助 MAO 膜层中 SI 含量的影响第53-55页
    5.4 超声波对 MAO 膜层中莫来石含量的影响第55-56页
    5.5 本章小结第56-57页
结论第57-58页
参考文献第58-63页
攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果第63-64页
致谢第64-65页
作者简介第65页

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