RF-PECVD法制备碳纳米管的工艺研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| ·碳纳米管的历史 | 第9-10页 |
| ·碳纳米管的结构和特性 | 第10-12页 |
| ·碳纳米管的结构 | 第10-12页 |
| ·碳纳米管的特性 | 第12页 |
| ·碳纳米管的制备方法 | 第12-15页 |
| ·电弧法 | 第12-14页 |
| ·激光蒸发法 | 第14页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第14-15页 |
| ·本课题的意义及主要内容 | 第15-17页 |
| 第二章 碳纳米管的制备工艺及表征方法 | 第17-23页 |
| ·多功能磁控和离子束联合溅射系统制备催化剂 | 第17-19页 |
| ·磁控溅射(MS)技术制备镍膜催化剂 | 第17-18页 |
| ·离子束溅射法(IBD)制备铁膜催化剂 | 第18-19页 |
| ·PECVD 法制备碳纳米管 | 第19-21页 |
| ·碳纳米管的表征方法 | 第21-23页 |
| ·碳纳米管的扫描电镜(SEM)表征方法 | 第21-22页 |
| ·碳纳米管的透射电镜(TEM)表征方法 | 第22页 |
| ·拉曼(Raman)光谱表征方法 | 第22-23页 |
| 第三章 碳纳米管薄膜的实验与测试 | 第23-28页 |
| ·实验设备 | 第23-25页 |
| ·多功能磁控与离子束联合溅射沉积系统 | 第23-24页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积系统 | 第24-25页 |
| ·实验步骤 | 第25-27页 |
| ·衬底清洗 | 第25页 |
| ·催化剂制备过程 | 第25-26页 |
| ·碳纳米管的制备过程 | 第26-27页 |
| ·测试手段 | 第27-28页 |
| 第四章 硅衬底上生长的碳纳米管薄膜结构特性研究 | 第28-46页 |
| ·镍催化剂上生长的碳纳米管的特性 | 第28-31页 |
| ·碳纳米管的SEM 分析 | 第28-30页 |
| ·碳纳米管的Raman 分析 | 第30-31页 |
| ·铁催化剂上生长的碳纳米管的特性 | 第31-46页 |
| ·碳纳米管的SEM 分析 | 第31-39页 |
| ·碳纳米管的TEM 分析 | 第39-42页 |
| ·碳纳米管的Raman 分析 | 第42-44页 |
| ·碳纳米管的电子衍射图谱分析 | 第44-46页 |
| 第五章 铜衬底上制备碳纳米管薄膜工艺初探 | 第46-48页 |
| ·碳纳米管的SEM 分析 | 第46-47页 |
| ·碳纳米管的Raman 分析 | 第47-48页 |
| 第六章 全文总结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-52页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
