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大面积等离子体源离子运动行为及均匀性控制研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第13-28页
    1.1 研究背景第13页
    1.2 PIII&D 技术的发展及研究现状第13-19页
    1.3 大面积等离子体源及批量处理研究现状第19-23页
    1.4 等离子体模拟的理论模型和研究现状第23-26页
    1.5 主要研究内容及意义第26-28页
第2章 大面积气体等离子体源设计及工艺研究第28-39页
    2.1 引言第28页
    2.2 大面积气体等离子体源设计第28-29页
    2.3 大面积脉冲辉光放电气体等离子体源装置建立第29-31页
    2.4 低压脉冲辉光放电内表面气体离子注入与沉积工艺研究第31-35页
    2.5 高压脉冲辉光放电内表面气体离子注入与沉积工艺研究第35-38页
    2.6 本章小结第38-39页
第3章 大面积金属等离子体源设计及粒子运动控制第39-64页
    3.1 引言第39页
    3.2 大面积金属等离子体源设计第39-43页
        3.2.1 直射叠加型金属等离子体系统设计第40-41页
        3.2.2 绕射叠加型金属等离子体系统设计第41-43页
    3.3 大面积金属等离子体粒子模拟模型建立第43-50页
    3.4 外部磁场对金属等离子体带电粒子微观运动行为的影响第50-52页
    3.5 外部磁场对金属等离子体带电粒子宏观运动行为的影响第52-63页
        3.5.1 外部磁场对直射叠加系统带电粒子宏观运动行为的影响第52-58页
        3.5.2 外部磁场对绕射叠加系统带电粒子宏观运动行为的影响第58-63页
    3.6 本章小结第63-64页
第4章 直射叠加型大面积金属等离子体源离子运动行为及均匀性控制第64-88页
    4.1 引言第64页
    4.2 直射叠加型大面积金属等离子体源的建立第64-67页
    4.3 金属等离子体均匀性测量方法第67-71页
    4.4 粒子束流及弧源间距对大面积金属等离子体均匀性的影响第71-81页
    4.5 过滤器参数对大面积金属等离子体均匀性的影响第81-87页
        4.5.1 磁场电流大小对离子电流密度分布的影响第81-84页
        4.5.2 过滤叶片倾角对离子电流密度分布的影响第84-85页
        4.5.3 过滤叶片间距对离子电流密度分布的影响第85-86页
        4.5.4 过滤叶片宽度对离子电流密度分布的影响第86-87页
    4.6 本章小结第87-88页
第5章 绕射叠加型大面积金属等离子体源离子运动行为及均匀性控制第88-118页
    5.1 引言第88页
    5.2 绕射叠加型大面积金属等离子体源建立第88-93页
    5.3 外部磁场强度对粒子运动行为及密度分布均匀性的影响第93-106页
        5.3.1 外部磁场强度对粒子运动行为的影响第93-99页
        5.3.2 外部磁场强度对粒子密度分布的影响第99-102页
        5.3.3 外部磁场强度对离子电流密度分布的影响第102-106页
    5.4 零件形状对粒子密度分布均匀性的影响第106-114页
    5.5 系统结构尺寸对粒子运动行为及密度分布均匀性的影响第114-117页
        5.5.1 脉冲阴极真空弧源间距对离子电流密度分布的影响第114-115页
        5.5.2 磁场螺线圈长度对离子电流密度分布的影响第115-116页
        5.5.3 螺线圈距离阴极真空弧源大小对离子电流密度分布的影响第116-117页
    5.6 本章小结第117-118页
第6章 大面积 PIII&D 处理装置的研制第118-129页
    6.1 引言第118页
    6.2 大面积 PIII&D 处理装置结构功能设计第118-120页
    6.3 脉冲阴极真空弧放电系统设计第120-121页
    6.4 高压脉冲电源及信号控制系统的设计第121-124页
    6.5 大面积 PIII&D 处理装置沉积均匀性研究第124-127页
    6.6 本章小结第127-129页
结论第129-130页
创新点第130页
展望第130-132页
参考文献第132-141页
攻读学位期间发表的论文及其它成果第141-143页
致谢第143-144页
个人简历第144页

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