摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第13-28页 |
1.1 研究背景 | 第13页 |
1.2 PIII&D 技术的发展及研究现状 | 第13-19页 |
1.3 大面积等离子体源及批量处理研究现状 | 第19-23页 |
1.4 等离子体模拟的理论模型和研究现状 | 第23-26页 |
1.5 主要研究内容及意义 | 第26-28页 |
第2章 大面积气体等离子体源设计及工艺研究 | 第28-39页 |
2.1 引言 | 第28页 |
2.2 大面积气体等离子体源设计 | 第28-29页 |
2.3 大面积脉冲辉光放电气体等离子体源装置建立 | 第29-31页 |
2.4 低压脉冲辉光放电内表面气体离子注入与沉积工艺研究 | 第31-35页 |
2.5 高压脉冲辉光放电内表面气体离子注入与沉积工艺研究 | 第35-38页 |
2.6 本章小结 | 第38-39页 |
第3章 大面积金属等离子体源设计及粒子运动控制 | 第39-64页 |
3.1 引言 | 第39页 |
3.2 大面积金属等离子体源设计 | 第39-43页 |
3.2.1 直射叠加型金属等离子体系统设计 | 第40-41页 |
3.2.2 绕射叠加型金属等离子体系统设计 | 第41-43页 |
3.3 大面积金属等离子体粒子模拟模型建立 | 第43-50页 |
3.4 外部磁场对金属等离子体带电粒子微观运动行为的影响 | 第50-52页 |
3.5 外部磁场对金属等离子体带电粒子宏观运动行为的影响 | 第52-63页 |
3.5.1 外部磁场对直射叠加系统带电粒子宏观运动行为的影响 | 第52-58页 |
3.5.2 外部磁场对绕射叠加系统带电粒子宏观运动行为的影响 | 第58-63页 |
3.6 本章小结 | 第63-64页 |
第4章 直射叠加型大面积金属等离子体源离子运动行为及均匀性控制 | 第64-88页 |
4.1 引言 | 第64页 |
4.2 直射叠加型大面积金属等离子体源的建立 | 第64-67页 |
4.3 金属等离子体均匀性测量方法 | 第67-71页 |
4.4 粒子束流及弧源间距对大面积金属等离子体均匀性的影响 | 第71-81页 |
4.5 过滤器参数对大面积金属等离子体均匀性的影响 | 第81-87页 |
4.5.1 磁场电流大小对离子电流密度分布的影响 | 第81-84页 |
4.5.2 过滤叶片倾角对离子电流密度分布的影响 | 第84-85页 |
4.5.3 过滤叶片间距对离子电流密度分布的影响 | 第85-86页 |
4.5.4 过滤叶片宽度对离子电流密度分布的影响 | 第86-87页 |
4.6 本章小结 | 第87-88页 |
第5章 绕射叠加型大面积金属等离子体源离子运动行为及均匀性控制 | 第88-118页 |
5.1 引言 | 第88页 |
5.2 绕射叠加型大面积金属等离子体源建立 | 第88-93页 |
5.3 外部磁场强度对粒子运动行为及密度分布均匀性的影响 | 第93-106页 |
5.3.1 外部磁场强度对粒子运动行为的影响 | 第93-99页 |
5.3.2 外部磁场强度对粒子密度分布的影响 | 第99-102页 |
5.3.3 外部磁场强度对离子电流密度分布的影响 | 第102-106页 |
5.4 零件形状对粒子密度分布均匀性的影响 | 第106-114页 |
5.5 系统结构尺寸对粒子运动行为及密度分布均匀性的影响 | 第114-117页 |
5.5.1 脉冲阴极真空弧源间距对离子电流密度分布的影响 | 第114-115页 |
5.5.2 磁场螺线圈长度对离子电流密度分布的影响 | 第115-116页 |
5.5.3 螺线圈距离阴极真空弧源大小对离子电流密度分布的影响 | 第116-117页 |
5.6 本章小结 | 第117-118页 |
第6章 大面积 PIII&D 处理装置的研制 | 第118-129页 |
6.1 引言 | 第118页 |
6.2 大面积 PIII&D 处理装置结构功能设计 | 第118-120页 |
6.3 脉冲阴极真空弧放电系统设计 | 第120-121页 |
6.4 高压脉冲电源及信号控制系统的设计 | 第121-124页 |
6.5 大面积 PIII&D 处理装置沉积均匀性研究 | 第124-127页 |
6.6 本章小结 | 第127-129页 |
结论 | 第129-130页 |
创新点 | 第130页 |
展望 | 第130-132页 |
参考文献 | 第132-141页 |
攻读学位期间发表的论文及其它成果 | 第141-143页 |
致谢 | 第143-144页 |
个人简历 | 第144页 |