| 中文摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 综述 | 第9-27页 |
| 1.1 半金属材料 | 第9页 |
| 1.2 Heusler 合金及其基本性质 | 第9-25页 |
| 1.2.1 Fe_3Si 的基本性质 | 第12-19页 |
| 1.2.2 掺杂 Fe_3Si 的基本性质 | 第19-25页 |
| 1.3 Fe_3Si Heusler 合金的制备和表征 | 第25页 |
| 1.4 存在的问题 | 第25-26页 |
| 1.5 本论文的工作 | 第26-27页 |
| 第二章 薄膜制备、结构表征与物性测量 | 第27-36页 |
| 2.1 薄膜制备 | 第27-28页 |
| 2.2 结构表征 | 第28-32页 |
| 2.2.1 表面形貌测量仪（台阶仪） | 第28-29页 |
| 2.2.2 X 射线衍射 | 第29-30页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜 | 第30-31页 |
| 2.2.4 能量色散 X 射线光谱仪 | 第31页 |
| 2.2.5 透射电子显微镜 | 第31-32页 |
| 2.2.6 选区电子衍射 | 第32页 |
| 2.3 物性测量 | 第32-36页 |
| 2.3.1 振动样品磁强计 | 第32-33页 |
| 2.3.2 物理性质测量系统 | 第33页 |
| 2.3.3 超导量子干涉仪–振动样品磁强计 | 第33-34页 |
| 2.3.4 磁光克尔效应 | 第34-36页 |
| 第三章 多晶Fe_3Si 合金的结构、磁性和电输运特性 | 第36-51页 |
| 3.1 多晶 Fe_3Si 薄膜的结构 | 第36-40页 |
| 3.1.1 Fe–Si 原子比的优化 | 第36-37页 |
| 3.1.2 Fe_3Si 生长温度的优化 | 第37-39页 |
| 3.1.3 多晶 Fe_3Si 薄膜的高分辨透射电镜分析 | 第39-40页 |
| 3.2 多晶 Fe_3Si 薄膜的性质 | 第40-50页 |
| 3.2.1 多晶 Fe_3Si 薄膜的电阻率 | 第40-42页 |
| 3.2.2 多晶 Fe_3Si 薄膜的反常霍尔效应 | 第42-46页 |
| 3.2.3 多晶 Fe_3Si 薄膜的平面霍尔效应 | 第46-47页 |
| 3.2.4 多晶 Fe_3Si 薄膜的各向异性磁电阻 | 第47-48页 |
| 3.2.5 多晶 Fe_3Si 薄膜的磁电阻 | 第48-50页 |
| 3.3 本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 外延Fe_3Si 薄膜的结构、磁性和电输运特性 | 第51-73页 |
| 4.1 不同取向 Fe_3Si 薄膜的结构 | 第51-56页 |
| 4.2 Fe_3Si 外延薄膜的电输运特性 | 第56-67页 |
| 4.3 其它基底上 Fe_3Si 薄膜的结构和性质 | 第67-69页 |
| 4.4 Fe_3Si/Ge 的结构和性质 | 第69-71页 |
| 4.5 本章小结 | 第71-73页 |
| 第五章 结论 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-86页 |
| 攻读硕士学位期间完成的学术论文 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87页 |
