| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第14-24页 |
| 1.1 纳米科技与纳米材料 | 第14-17页 |
| 1.1.1 纳米粉体材料 | 第14-15页 |
| 1.1.2 纳米复合材料 | 第15页 |
| 1.1.3 纳米晶体薄膜 | 第15-16页 |
| 1.1.4 纳米纤维 | 第16-17页 |
| 1.2 化学镀 | 第17-20页 |
| 1.2.1 化学镀和微观结构 | 第17-18页 |
| 1.2.2 化学镀膜形成机制 | 第18-19页 |
| 1.2.3 化学镀膜和基底之间的联系 | 第19-20页 |
| 1.3 纳米化学镀 | 第20-22页 |
| 1.3.1 纳米化学镀研究现状 | 第20-21页 |
| 1.3.2 纳米化学镀层的结构及性能特点 | 第21-22页 |
| 1.3.3 纳米化学镀层粒子分散性 | 第22页 |
| 1.3.4 纳米化学镀发展趋势 | 第22页 |
| 1.4 研究目的和主要内容 | 第22-24页 |
| 1.4.1 研究目的 | 第22-23页 |
| 1.4.2 研究的主要内容 | 第23-24页 |
| 第2章 Cu-Sn-B纳米膜及合金粉末的基础工艺研究 | 第24-43页 |
| 2.1 引言 | 第24页 |
| 2.2 实验装置 | 第24-25页 |
| 2.3 实验设备 | 第25页 |
| 2.4 工艺流程 | 第25-26页 |
| 2.5 实验步骤 | 第26-28页 |
| 2.5.1 基底前处理 | 第26页 |
| 2.5.2 镀液成分及配制 | 第26-27页 |
| 2.5.3 施镀 | 第27页 |
| 2.5.4 镀后处理 | 第27-28页 |
| 2.6 实验方法 | 第28-30页 |
| 2.6.1 正交试验优化工艺的筛选 | 第28-30页 |
| 2.7 氧化铝基底上Cu-Sn-B纳米镀层的表征 | 第30-34页 |
| 2.7.1 正交试验设计中各组实验的镀速 | 第30-31页 |
| 2.7.2 正交试验设计中各组实验的镀层结构 | 第31页 |
| 2.7.3 正交试验设计中各组实验的镀层形貌 | 第31-34页 |
| 2.8 铜基底上Cu-Sn-B纳米镀层的表征 | 第34-38页 |
| 2.8.1 正交试验设计中各组实验的镀速 | 第34-35页 |
| 2.8.2 正交试验设计中各组实验的镀层结构 | 第35页 |
| 2.8.3 正交试验设计中各组实验的镀层形貌 | 第35-38页 |
| 2.9 Cu-Sn-B纳米粉末的表征 | 第38-42页 |
| 2.9.1 正交试验设计中各组实验的纳米粉末结构 | 第38-39页 |
| 2.9.2 正交试验设计中各组实验的纳米粉末形貌 | 第39-42页 |
| 2.10 小结 | 第42-43页 |
| 第3章 氧化铝基底Cu-Sn-B纳米化学镀层的制备与表征 | 第43-60页 |
| 3.1 引言 | 第43页 |
| 3.2 硫酸铜浓度对镀层的影响 | 第43-47页 |
| 3.2.1 实验条件 | 第43-44页 |
| 3.2.2 CuSO_4浓度对镀速的影响 | 第44-45页 |
| 3.2.3 CuSO_4浓度对镀层结构的影响 | 第45页 |
| 3.2.4 CuSO_4浓度对镀层形貌的影响 | 第45-47页 |
| 3.3 锡酸钠浓度对镀层的影响 | 第47-52页 |
| 3.3.1 实验条件 | 第47-48页 |
| 3.3.2 Na_2SnO_3浓度对镀速的影响 | 第48-49页 |
| 3.3.3 Na_2SnO_3浓度对镀层结构的影响 | 第49页 |
| 3.3.4 Na_2SnO_3浓度对镀层形貌的影响 | 第49-52页 |
| 3.4 柠檬酸钠浓度对镀层的影响 | 第52-55页 |
| 3.4.1 实验条件 | 第52-53页 |
| 3.4.2 Na_3C_6H_5O_7浓度对镀速的影响 | 第53-54页 |
| 3.4.3 Na_3C_6H_5O_7浓度对镀层结构的影响 | 第54页 |
| 3.4.4 Na_3C_6H_5O_7浓度对镀层形貌的影响 | 第54-55页 |
| 3.5 硼氢化钠浓度对镀层的影响 | 第55-59页 |
| 3.5.1 实验条件 | 第55-56页 |
| 3.5.2 NaBH_4浓度对镀速的影响 | 第56-57页 |
| 3.5.3 NaBH_4浓度对镀层结构的影响 | 第57页 |
| 3.5.4 NaBH_4浓度对镀层形貌的影响 | 第57-59页 |
| 3.6 小结 | 第59-60页 |
| 第4章 铜基底上Cu-Sn-B纳米化学镀层的制备与表征 | 第60-74页 |
| 4.1 引言 | 第60页 |
| 4.2 硫酸铜浓度对镀层的影响 | 第60-63页 |
| 4.2.1 实验条件 | 第60-61页 |
| 4.2.2 CuSO_4浓度对镀速的影响 | 第61-62页 |
| 4.2.3 CuSO_4浓度对镀层结构的影响 | 第62页 |
| 4.2.4 CuSO_4浓度对镀层形貌的影响 | 第62-63页 |
| 4.3 锡酸钠浓度对镀层的影响 | 第63-66页 |
| 4.3.1 实验条件 | 第63-64页 |
| 4.3.2 Na_2SnO_3浓度对镀速的影响 | 第64-65页 |
| 4.3.3 Na_2SnO_3浓度对镀层结构的影响 | 第65页 |
| 4.3.4 Na_2SnO_3浓度对镀层形貌的影响 | 第65-66页 |
| 4.4 柠檬酸钠浓度对镀层的影响 | 第66-69页 |
| 4.4.1 实验条件 | 第66-67页 |
| 4.4.2 Na_3C_6H_5O_7浓度对镀速的影响 | 第67-68页 |
| 4.4.3 Na_3C_6H_5O_7浓度对镀层结构的影响 | 第68页 |
| 4.4.4 Na_3C_6H_5O_7浓度对镀层形貌的影响 | 第68-69页 |
| 4.5 硼氢化钠浓度对镀层的影响 | 第69-72页 |
| 4.5.1 实验条件 | 第69-70页 |
| 4.5.2 NaBH_4浓度对镀速的影响 | 第70-71页 |
| 4.5.3 NaBH_4浓度对镀层结构的影响 | 第71页 |
| 4.5.4 NaBH_4浓度对镀层形貌的影响 | 第71-72页 |
| 4.6 小结 | 第72-74页 |
| 第5章 Cu-Sn-B合金粉末的制备与表征 | 第74-84页 |
| 5.1 引言 | 第74页 |
| 5.2 硫酸铜浓度对Cu-Sn-B纳米合金粉末的影响 | 第74-77页 |
| 5.2.1 实验条件 | 第74-75页 |
| 5.2.2 CuSO_4浓度对纳米合金粉末结构的影响 | 第75-76页 |
| 5.2.3 CuSO_4浓度对纳米合金粉末形貌的影响 | 第76-77页 |
| 5.3 锡酸钠浓度对Cu-Sn-B纳米合金粉末的影响 | 第77-79页 |
| 5.3.1 实验条件 | 第77页 |
| 5.3.2 Na_2SnO_3浓度对镀层结构的影响 | 第77-78页 |
| 5.3.3 Na_2SnO_3浓度对镀层形貌的影响 | 第78-79页 |
| 5.4 柠檬酸钠浓度对Cu-Sn-B纳米合金粉末的影响 | 第79-81页 |
| 5.4.1 实验条件 | 第79页 |
| 5.4.2 Na_3C_6H_5O_7浓度对纳米合金粉末结构的影响 | 第79-80页 |
| 5.4.3 Na_3C_6H_5O_7浓度对纳米合金粉末形貌的影响 | 第80-81页 |
| 5.5 硼氢化钠浓度对Cu-Sn-B纳米合金粉末的影响 | 第81-83页 |
| 5.5.1 实验条件 | 第81页 |
| 5.5.2 NaBH_4浓度对纳米合金粉末结构的影响 | 第81-82页 |
| 5.5.3 NaBH_4浓度对纳米合金粉末形貌的影响 | 第82-83页 |
| 5.6 小结 | 第83-84页 |
| 第6章 不同方法、不同因素对结果影响 | 第84-94页 |
| 6.1 引言 | 第84页 |
| 6.2 纳米化学镀Cu-Sn-B膜与纳米合金粉末的对比 | 第84-87页 |
| 6.2.1 纳米化学镀Cu-Sn-B膜与纳米合金粉末结构的对比 | 第84-85页 |
| 6.2.2 纳米化学镀Cu-Sn-B膜与纳米合金粉末形貌的对比 | 第85-87页 |
| 6.3 不同施镀工艺对铜基底纳米化学镀Cu-Sn-B膜的影响 | 第87-88页 |
| 6.4 不同工艺对纳米合金Cu-Sn-B粉末结果的影响 | 第88-89页 |
| 6.5 氧化铝基底和铜基底同成分下镀速对比 | 第89-92页 |
| 6.5.1 不同基底CuSO_4浓度对镀速的影响 | 第90页 |
| 6.5.2 不同基底Na_2SnO_3浓度对镀速的影响 | 第90-91页 |
| 6.5.3 不同基底Na_3C_6H_5O_7浓度对镀速的影响 | 第91-92页 |
| 6.5.4 不同基底NaBH_4浓度对镀速的影响 | 第92页 |
| 6.6 小结 | 第92-94页 |
| 第7章 结论及展望 | 第94-96页 |
| 7.1 结论 | 第94-95页 |
| 7.2 展望 | 第95-96页 |
| 参考文献 | 第96-102页 |
| 作者在攻读学位期间申请的发明专利 | 第102-103页 |
| 致谢 | 第103页 |
