摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
1 绪论 | 第8-21页 |
1.1 六方氮化硼研究背景 | 第8-12页 |
1.2 六方氮化硼的制备方法 | 第12-14页 |
1.3 其它二维晶体材料 | 第14-18页 |
1.4 本论文主要研究内容 | 第18-21页 |
2 六方氮化硼表面纳米结构制备及表征技术 | 第21-29页 |
2.1 引言 | 第21页 |
2.2 六方氮化硼表面纳米结构制备基础 | 第21-23页 |
2.3 六方氮化硼表面纳米结构表征技术 | 第23-28页 |
2.4 本章小结 | 第28-29页 |
3 六方氮化硼表面纳米槽的制备及其特性研究 | 第29-47页 |
3.1 六方氮化硼表面纳米槽制备的意义 | 第29-30页 |
3.2 六方氮化硼表面纳米槽的制备工艺流程及影响因素 | 第30-33页 |
3.3 还原氛围下六方氮化硼表面纳米槽的制备 | 第33-40页 |
3.4 氧化氛围下六方氮化硼表面纳米槽的制备 | 第40-46页 |
3.5 本章小结 | 第46-47页 |
4 六方氮化硼表面气泡的制备及其特性研究 | 第47-59页 |
4.1 六方氮化硼表面气泡的研究意义 | 第47-48页 |
4.2 六方氮化硼表面气泡的制备工艺流程及影响因素 | 第48-54页 |
4.3 六方氮化硼表面气泡的实验结果及表征 | 第54-58页 |
4.4 本章小结 | 第58-59页 |
5 总结与展望 | 第59-61页 |
5.1 工作总结 | 第59页 |
5.2 工作展望 | 第59-61页 |
致谢 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-66页 |