| 摘要 | 第5-8页 |
| ABSTRACT | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第16-42页 |
| 1.1 引言 | 第16页 |
| 1.2 光谱响应智能材料概述 | 第16-24页 |
| 1.2.1 热调制光谱响应材料 | 第16-18页 |
| 1.2.2 光调制光谱响应材料 | 第18-19页 |
| 1.2.3 压调制光谱响应材料 | 第19-21页 |
| 1.2.4 磁调制光谱响应材料 | 第21-22页 |
| 1.2.5 电调制光谱响应材料 | 第22-23页 |
| 1.2.6 光电调制光谱响应材料 | 第23-24页 |
| 1.3 电调制光谱响应材料概述 | 第24-30页 |
| 1.3.1 电调制光谱响应材料的发展 | 第25-26页 |
| 1.3.2 电调制光谱响应材料分类 | 第26-30页 |
| 1.3.2.1 无机电调制光谱响应材料 | 第26-28页 |
| 1.3.2.2 有机电调制光谱响应智能材料 | 第28-30页 |
| 1.4 电调制光谱响应器件概述 | 第30-40页 |
| 1.4.1 电调制光谱响应智能器件结构 | 第31-33页 |
| 1.4.1.1 透明导电层 | 第31页 |
| 1.4.1.2 电致变色层 | 第31-32页 |
| 1.4.1.3 离子导电层 | 第32-33页 |
| 1.4.1.4 离子存储层 | 第33页 |
| 1.4.2 基于电沉积的电调制光谱响应器件 | 第33-35页 |
| 1.4.3 电调制光谱响应智能器件性能 | 第35-37页 |
| 1.4.3.1 响应速度 | 第36页 |
| 1.4.3.2 对比度 | 第36页 |
| 1.4.3.3 着色效率 | 第36-37页 |
| 1.4.3.4 循环稳定性 | 第37页 |
| 1.4.3.5 记忆效应 | 第37页 |
| 1.4.4 电调制光谱响应器件应用 | 第37-40页 |
| 1.4.4.1 智能窗户 | 第38页 |
| 1.4.4.2 电致变色显示器 | 第38-39页 |
| 1.4.4.3 汽车防眩后视镜 | 第39页 |
| 1.4.4.4 其他应用 | 第39-40页 |
| 1.5 本文的主要研究工作 | 第40-42页 |
| 第二章 实验方法与原理 | 第42-50页 |
| 2.1 实验方法 | 第42-45页 |
| 2.1.1 旋转涂布镀膜技术 | 第42-43页 |
| 2.1.2 浸渍提拉镀膜技术 | 第43-44页 |
| 2.1.3 基于模板的成膜技术 | 第44-45页 |
| 2.2 实验原料 | 第45-46页 |
| 2.3 表征方法 | 第46-50页 |
| 2.3.1 X射线衍射技术 | 第46页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜技术 | 第46-47页 |
| 2.3.3 原子力显微镜技术 | 第47-48页 |
| 2.3.4 电化学测量系统 | 第48-49页 |
| 2.3.5 紫外-可见光谱技术 | 第49-50页 |
| 第三章 旋转涂布二氧化钛薄膜基电调制光谱响应智能材料及器件研究 | 第50-95页 |
| 3.1 引言 | 第50-51页 |
| 3.2 实验部分 | 第51-52页 |
| 3.2.1 凝胶电解质制备 | 第51页 |
| 3.2.2 二氧化钛薄膜制备 | 第51-52页 |
| 3.2.3 电调制光谱响应智能器件组装 | 第52页 |
| 3.2.4 二氧化钛薄膜及电调制光谱响应智能器件表征 | 第52页 |
| 3.3 凝胶电解质电化学性能分析 | 第52-55页 |
| 3.4 二氧化钛纳米颗粒粒径对电调制光谱响应智能器件的性能影响 | 第55-71页 |
| 3.4.1 二氧化钛纳米颗粒粒径对二氧化钛薄膜结构的影响 | 第56-58页 |
| 3.4.2 二氧化钛纳米颗粒粒径对二氧化钛薄膜形貌的影响 | 第58-62页 |
| 3.4.3 二氧化钛纳米颗粒粒径对电调制光谱响应智能器件性能的影响 | 第62-71页 |
| 3.5 旋转涂布速率对电调制光谱响应智能器件的性能影响 | 第71-79页 |
| 3.5.1 旋转涂布速率对二氧化钛薄膜形貌结构的影响 | 第71-74页 |
| 3.5.2 旋转涂布速率对电调制光谱响应智能器件性能的影响 | 第74-79页 |
| 3.6 前驱体溶液浓度对电调制光谱响应智能器件的性能影响 | 第79-86页 |
| 3.6.1 前驱体溶液浓度对二氧化钛薄膜形貌结构的影响 | 第80-81页 |
| 3.6.2 前驱体溶液浓度对电调制光谱响应智能器件性能的影响 | 第81-86页 |
| 3.7 旋转涂布次数对电调制光谱响应智能器件的性能影响 | 第86-93页 |
| 3.7.1 旋转涂布次数对二氧化钛薄膜形貌结构的影响 | 第86-88页 |
| 3.7.2 旋转涂布次数对电调制光谱响应智能器件性能的影响 | 第88-93页 |
| 3.8 本章小结 | 第93-95页 |
| 第四章 浸渍提拉二氧化钛薄膜基电调制光谱响应智能器件的制备及性能研究 | 第95-135页 |
| 4.1 引言 | 第95页 |
| 4.2 实验部分 | 第95-97页 |
| 4.2.1 凝胶电解质制备 | 第95-96页 |
| 4.2.2 二氧化钛薄膜制备 | 第96页 |
| 4.2.3 电调制光谱响应智能器件组装 | 第96-97页 |
| 4.2.4 二氧化钛薄膜及电调制光谱响应智能器件表征 | 第97页 |
| 4.3 浸渍提拉二氧化钛薄膜基电调制光谱响应智能器件研究 | 第97-98页 |
| 4.4 二氧化钛纳米颗粒粒径对电调制光谱响应智能器件的性能影响 | 第98-112页 |
| 4.4.1 二氧化钛纳米颗粒粒径对二氧化钛薄膜结构的影响 | 第98-101页 |
| 4.4.2 二氧化钛纳米颗粒粒径对二氧化钛薄膜形貌的影响 | 第101-104页 |
| 4.4.3 二氧化钛纳米颗粒粒径对电调制光谱响应智能器件性能的影响 | 第104-112页 |
| 4.5 浸渍提拉速率对电调制光谱响应智能器件的性能影响 | 第112-119页 |
| 4.5.1 浸渍提拉速率对二氧化钛薄膜形貌结构的影响 | 第113-115页 |
| 4.5.2 浸渍提拉速率对电调制光谱响应智能器件性能的影响 | 第115-119页 |
| 4.6 前驱体溶液浓度对电调制光谱响应智能器件的性能影响 | 第119-126页 |
| 4.6.1 前驱体溶液浓度对二氧化钛薄膜形貌结构的影响 | 第120-122页 |
| 4.6.2 前驱体溶液浓度对电调制光谱响应智能器件性能的影响 | 第122-126页 |
| 4.7 浸渍提拉次数对电调制光谱响应智能器件的性能影响 | 第126-133页 |
| 4.7.1 浸渍提拉次数对二氧化钛薄膜形貌结构的影响 | 第126-129页 |
| 4.7.2 浸渍提拉次数对电调制光谱响应智能器件性能的影响 | 第129-133页 |
| 4.8 本章小结 | 第133-135页 |
| 第五章 多孔二氧化钛薄膜基电调制光谱响应智能材料及器件的制备研究 | 第135-153页 |
| 5.1 引言 | 第135页 |
| 5.2 实验部分 | 第135-137页 |
| 5.2.1 凝胶电解质制备 | 第135-136页 |
| 5.2.2 聚苯乙烯微球模板制备 | 第136页 |
| 5.2.3 二氧化钛薄膜制备 | 第136页 |
| 5.2.4 电调制光谱响应智能器件组装 | 第136-137页 |
| 5.2.5 二氧化钛薄膜及电调制光谱响应智能器件表征 | 第137页 |
| 5.3 多孔二氧化钛薄膜形貌 | 第137-143页 |
| 5.4 多孔二氧化钛薄膜基电调制光谱响应智能器件研究 | 第143-152页 |
| 5.4.1 多孔二氧化钛薄膜基电调制光谱响应智能器件对比度研究 | 第143-145页 |
| 5.4.2 多孔二氧化钛薄膜基电调制光谱响应智能器件响应速度研究 | 第145-147页 |
| 5.4.3 多孔二氧化钛薄膜基电调制光谱响应智能器件着色效率研究 | 第147页 |
| 5.4.4 多孔二氧化钛薄膜基电调制光谱响应智能器件记忆效应研究 | 第147-148页 |
| 5.4.5 多孔二氧化钛薄膜基电调制光谱响应智能器件循环寿命研究 | 第148-151页 |
| 5.4.6 多孔二氧化钛薄膜循环后形貌结构研究 | 第151-152页 |
| 5.5 本章小结 | 第152-153页 |
| 第六章 结论与展望 | 第153-157页 |
| 6.1 结论 | 第153-155页 |
| 6.2 展望 | 第155-157页 |
| 致谢 | 第157-158页 |
| 参考文献 | 第158-178页 |
| 攻读博士学位期间取得的成果 | 第178-179页 |
