摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-27页 |
1.1 MWW族分子筛的研究进展 | 第11-16页 |
1.1.1 MWW族分子筛概述 | 第11页 |
1.1.2 MWW族分子筛的结构 | 第11-13页 |
1.1.3 MWW族分子筛的合成研究 | 第13页 |
1.1.4 MWW族分子筛的合成影响因素 | 第13-14页 |
1.1.5 MWW族分子筛的应用 | 第14-16页 |
1.2 MCM-49 的制备方法 | 第16-19页 |
1.2.1 引言 | 第16-17页 |
1.2.2 MCM-49 的静态合成 | 第17页 |
1.2.3 MCM-49 的动态合成 | 第17-18页 |
1.2.4 MCM-49 动态合成与静态合成的比较 | 第18-19页 |
1.3 MCM-49 的应用 | 第19-21页 |
1.3.1 引言 | 第19-20页 |
1.3.2 催化甲烷芳构化 | 第20页 |
1.3.3 催化正构十二烷裂解 | 第20页 |
1.3.4 催化LDPE降解 | 第20-21页 |
1.3.5 制备二甲醚 | 第21页 |
1.4 常用模板剂 | 第21-25页 |
1.4.1 引言 | 第21-22页 |
1.4.2 模板剂的作用 | 第22-23页 |
1.4.3 MWW族几种常用的模板剂 | 第23-25页 |
1.5 研究工作设想 | 第25-26页 |
1.6 预期研究成果及创新点 | 第26-27页 |
第二章 实验部分 | 第27-31页 |
2.1 实验试剂及实验仪器 | 第27页 |
2.1.1 实验试剂 | 第27页 |
2.1.2 实验仪器 | 第27页 |
2.2 实验步骤 | 第27-28页 |
2.2.1 MCM-49 原粉的制备 | 第27-28页 |
2.2.2 MCM-49 原粉的焙烧 | 第28页 |
2.2.3 沸石H交换 | 第28页 |
2.3 表征方法 | 第28-31页 |
2.3.1 X-射线衍射(XRD)分析 | 第28页 |
2.3.2 扫描电镜(SEM)表征 | 第28页 |
2.3.3 红外酸性测定(FT-IR) | 第28-29页 |
2.3.4 比表面积及孔结构分析(S.V.D) | 第29页 |
2.3.5 氨气程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第29-31页 |
第三章 MCM-49 分子筛的制备 | 第31-41页 |
3.1 前言 | 第31页 |
3.2 实验部分 | 第31-35页 |
3.2.1 模板剂的选择 | 第31-32页 |
3.2.2 正交实验优化凝胶配比 | 第32-34页 |
3.2.3 按照优化设计制备MCM-49 | 第34-35页 |
3.3 最优条件下的产品表征及分析 | 第35-39页 |
3.3.1 X-射线衍射(XRD) | 第35页 |
3.3.2 扫描电镜(SEM) | 第35-36页 |
3.3.3 比表面积及孔结构分析(S.V.D) | 第36-38页 |
3.3.4 分子筛酸性分布 | 第38-39页 |
3.4 本章小结 | 第39-41页 |
第四章 MCM-49 合成的影响因素探究 | 第41-63页 |
4.1 模板剂用量的考察 | 第41-47页 |
4.1.1 控制模板剂用量合成MCM-49 | 第41页 |
4.1.2 表征结果及分析 | 第41-46页 |
4.1.3 模板剂用量对MCM-49 的合成影响 | 第46-47页 |
4.2 晶化时间的考察 | 第47-50页 |
4.2.1 晶化时间的控制 | 第47-48页 |
4.2.2 产品结晶度的分析 | 第48-49页 |
4.2.3 MCM-49 的晶化过程及晶化时间对其合成的影响 | 第49-50页 |
4.3 晶种添加量的考察 | 第50-57页 |
4.3.1 晶种的引入 | 第50-51页 |
4.3.2 表征结果及分析 | 第51-56页 |
4.3.3 晶种添加量对MCM-49 的合成影响 | 第56-57页 |
4.4 液体硅溶胶晶粒度的考察 | 第57-63页 |
4.4.1 小晶粒度硅溶胶合成MCM-49 的可行性探究 | 第57-59页 |
4.4.2 不同硅溶胶制备的MCM-49 的表征及分析 | 第59-62页 |
4.4.3 不同晶粒度的硅溶对MCM-49 的合成影响 | 第62-63页 |
第五章 结论 | 第63-65页 |
参考文献 | 第65-71页 |
致谢 | 第71-73页 |
攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第73页 |