| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 文献综述 | 第10-21页 |
| 1.1 萤石资源状况 | 第10-14页 |
| 1.1.1 萤石及其应用 | 第10-11页 |
| 1.1.2 世界萤石资源储量及矿产资源分布 | 第11页 |
| 1.1.3 我国萤石资源概况 | 第11-12页 |
| 1.1.4 萤石产品的质量要求 | 第12-14页 |
| 1.2 萤石矿浮选研究现状 | 第14-18页 |
| 1.2.1 捕收剂研究现状 | 第14-17页 |
| 1.2.2 抑制剂研究现状 | 第17-18页 |
| 1.3 萤石与方解石分离研究现状 | 第18-20页 |
| 1.3.1 萤石与方解石分离机理研究 | 第18-19页 |
| 1.3.2 萤石与方解石分离实践进展 | 第19-20页 |
| 1.4 本论文的研究内容和意义 | 第20-21页 |
| 1.4.1 研究意义 | 第20页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第20-21页 |
| 2 试验样品、药剂、设备及研究方法 | 第21-26页 |
| 2.1 试验样品的制备 | 第21-22页 |
| 2.1.1 单矿物试样的制备 | 第21-22页 |
| 2.1.2 实际矿石样品制备 | 第22页 |
| 2.2 试验药剂与仪器设备 | 第22-24页 |
| 2.2.1 试验药剂 | 第22-23页 |
| 2.2.2 仪器设备 | 第23-24页 |
| 2.3 研究方法 | 第24-26页 |
| 2.3.1 浮选试验 | 第24页 |
| 2.3.2 接触角测量 | 第24-25页 |
| 2.3.3 矿物表面动电位测试 | 第25页 |
| 2.3.4 红外光谱分析 | 第25-26页 |
| 3 萤石与方解石的浮选行为研究 | 第26-36页 |
| 3.1 捕收剂对萤石、方解石可浮性的影响 | 第26-28页 |
| 3.1.1 油酸钠对萤石、方解石可浮性的影响 | 第26-27页 |
| 3.1.2 DW-1对萤石、方解石可浮性的影响 | 第27-28页 |
| 3.2 在DW-1浮选体系下,无机抑制剂对萤石、方解石可浮性的影响 | 第28-31页 |
| 3.2.1 水玻璃对萤石和方解石可浮性的影响 | 第28-29页 |
| 3.2.2 焦磷酸钠对萤石和方解石可浮性的影响 | 第29-30页 |
| 3.2.3 三聚磷酸钠对萤石和方解石可浮性的影响 | 第30-31页 |
| 3.3 在DW-1浮选体系下,有机抑制剂对萤石、方解石可浮性的影响 | 第31-35页 |
| 3.3.1 单宁对萤石和方解石可浮性的影响 | 第32-33页 |
| 3.3.2 CMC对萤石和方解石可浮性的影响 | 第33-34页 |
| 3.3.3 腐植酸钠对萤石和方解石可浮性的影响 | 第34-35页 |
| 3.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 4 萤石和方解石的浮选分离机理 | 第36-57页 |
| 4.1 浮选药剂对萤石和方解石矿物表面润湿性的影响 | 第36-41页 |
| 4.1.1 pH对矿物表面润湿性的影响 | 第36-39页 |
| 4.1.2 单宁用量对矿物表面润湿性的影响 | 第39-40页 |
| 4.1.3 DW-1用量对矿物表面润湿性的影响 | 第40-41页 |
| 4.2 浮选药剂对萤石和方解石矿物表面电性的影响 | 第41-45页 |
| 4.2.1 pH对矿物表面电性的影响 | 第41-44页 |
| 4.2.2 单宁用量对矿物表面电性的影响 | 第44-45页 |
| 4.2.3 DW-1用量对矿物表面电性的影响 | 第45页 |
| 4.3 单宁与萤石和方解石的作用方式 | 第45-50页 |
| 4.3.1 萤石与方解石的红外光谱分析 | 第46-48页 |
| 4.3.2 单宁在方解石上的吸附模型 | 第48-50页 |
| 4.4 矿物浮选溶液化学研究 | 第50-55页 |
| 4.4.1 矿物的溶解及浮选意义 | 第50-53页 |
| 4.4.2 CaF_2与CaCO_3表面的相互转化 | 第53-55页 |
| 4.5 本章小结 | 第55-57页 |
| 5 实际矿石浮选试验研究 | 第57-63页 |
| 5.1 矿物性质及分选工艺 | 第57-59页 |
| 5.1.1 目的矿物性质 | 第57-58页 |
| 5.1.2 主要脉石矿物性质 | 第58-59页 |
| 5.2 粗选试验 | 第59-60页 |
| 5.3 闭路试验 | 第60-62页 |
| 5.4 本章小结 | 第62-63页 |
| 6 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 攻读硕士学位期间主要研究成果 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
