| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 研究意义及背景 | 第11-12页 |
| 1.2 壁虎脚掌刚毛的研究概况 | 第12-15页 |
| 1.3 仿壁虎碳纳米管干黏附材料的研究概况 | 第15-22页 |
| 1.3.1 碳纳米管阵列中单根碳管的纳米尺度黏附 | 第16-18页 |
| 1.3.2 碳纳米管阵列的纳米尺度黏附力 | 第18页 |
| 1.3.3 碳纳米管阵列的宏观黏附力 | 第18-19页 |
| 1.3.4 碳纳米管阵列图案化 | 第19-20页 |
| 1.3.5 分层碳纳米管阵列 | 第20-22页 |
| 1.3.6 碳纳米管阵列的自清洁性能 | 第22页 |
| 1.4 研究方法及主要内容 | 第22-24页 |
| 第二章 碳纳米管阵列的常压制备工艺 | 第24-40页 |
| 2.1 引言 | 第24页 |
| 2.2 化学气相沉积法（CVD） | 第24-25页 |
| 2.3 碳纳米管阵列的生长机理 | 第25-27页 |
| 2.4 实验 | 第27-29页 |
| 2.4.1 实验材料及设备 | 第27页 |
| 2.4.2 催化剂制备 | 第27-28页 |
| 2.4.3 化学气相沉积工艺参数设定 | 第28页 |
| 2.4.4 测试设备及方法 | 第28-29页 |
| 2.5 结果与讨论 | 第29-38页 |
| 2.5.1 碳纳米管阵列的宏观形貌观察 | 第29-31页 |
| 2.5.2 氢气预处理对碳纳米管生长状况的影响 | 第31-33页 |
| 2.5.3 沉积时间对碳纳米管生长状况的影响 | 第33-34页 |
| 2.5.4 生长基底对碳纳米管生长情况的影响 | 第34-37页 |
| 2.5.5 碳纳米管的常压最优制备工艺分析 | 第37-38页 |
| 2.6 本章小结 | 第38-40页 |
| 第三章 高质量碳纳米管阵列的低压制备工艺 | 第40-49页 |
| 3.1 引言 | 第40-41页 |
| 3.2 实验内容 | 第41页 |
| 3.2.1 低压化学气相沉积工艺设计 | 第41页 |
| 3.2.2 测试设备及方法 | 第41页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第41-47页 |
| 3.3.1 VACNTs生长速率分析 | 第41-42页 |
| 3.3.2 催化剂形貌分析 | 第42-44页 |
| 3.3.3 VACNTs的形貌分析 | 第44-46页 |
| 3.3.4 VACNTs的缺陷和质量分析 | 第46-47页 |
| 3.4 本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 氢气浓度对碳纳米管黏附性能的影响 | 第49-59页 |
| 4.1 引言 | 第49页 |
| 4.2 反应气氛对VACNTs生长影响的研究概况 | 第49-50页 |
| 4.3 实验内容 | 第50-51页 |
| 4.3.1 化学气相沉积工艺设计 | 第50页 |
| 4.3.2 测试设备及方法 | 第50-51页 |
| 4.4 实验结果与分析 | 第51-58页 |
| 4.4.1 氢气比例对VACNTs形貌的影响 | 第51-55页 |
| 4.4.2 氢气比例对VA-CNTs缺陷和质量的影响 | 第55页 |
| 4.4.3 氢气比例对VACNTs黏附性能的影响机理 | 第55-57页 |
| 4.4.4 VACNTs的黏附性能测试 | 第57-58页 |
| 4.5 本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 总结与展望 | 第59-61页 |
| 5.1 总结 | 第59-60页 |
| 5.2 创新点 | 第60页 |
| 5.3 展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第70页 |