中文摘要 | 第5-8页 |
英文摘要 | 第8-10页 |
目录 | 第11-13页 |
第一章 铁电薄膜概述及其光学性质研究方法 | 第13-34页 |
1.1 铁电体及铁电薄膜基本概念 | 第13-19页 |
1.1.1 铁电体物理学以及铁电相变的宏观微观理论 | 第13-18页 |
1.1.2 铁电薄膜 | 第18-19页 |
1.2 显微拉曼、光致发光光谱及其仪器介绍 | 第19-29页 |
1.2.1 显微拉曼(micro-Raman)光谱介绍 | 第19-25页 |
1.2.1.1 Raman 散射的基本原理 | 第19-23页 |
1.2.1.2 Raman 散射的选择定则 | 第23页 |
1.2.1.3 Raman 散射光谱技术的发展 | 第23-24页 |
1.2.1.4 Raman散射光谱的应用 | 第24-25页 |
1.2.2 光致发光光谱介绍 | 第25-27页 |
1.2.3 发光光谱和显微拉曼(micro-Raman)光谱的仪器介绍 | 第27-29页 |
1.3 椭圆偏振及其仪器介绍 | 第29-31页 |
1.4 原子力显微镜及其仪器介绍 | 第31-33页 |
参考文献 | 第33-34页 |
第二章 铁电薄膜 STO 光学性质研究现状 | 第34-55页 |
2.1 引言 | 第34-35页 |
2.2 铁电薄膜STO 中的晶格振动与退火图像 | 第35-44页 |
2.3 铁电薄膜STO 的发光光谱简介 | 第44-50页 |
参考文献 | 第50-55页 |
第三章 MBE生长STO超薄膜:退火温度对相变温度的影响 | 第55-70页 |
3.1 引言 | 第55-56页 |
3.2 MBE 生长 STO 薄膜的实验和测试方法 | 第56页 |
3.2.1 生长、退火实验 | 第56页 |
3.2.2 测试方法 | 第56页 |
3.3 晶格振动和相变温度 | 第56-61页 |
3.4 退火温度和热应变 | 第61-63页 |
3.5 热应变和相变温度 | 第63-66页 |
3.6 小结 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-70页 |
第四章 MBE 生长 STO 超薄膜:光致发光机制探究 | 第70-83页 |
4.1 引言 | 第70-71页 |
4.2 MBE 生长的 STO 薄膜的测试方法 | 第71页 |
4.3 变温PL 光谱特性和带边辐射(NBE)分析 | 第71-76页 |
4.4 退火温度和表面状态 | 第76-81页 |
4.5 小结 | 第81-82页 |
参考文献 | 第82-83页 |
第五章 总结 | 第83-85页 |
致谢 | 第85-86页 |
攻读硕士学位期间发表的论文及获得的奖励 | 第86页 |