摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第9-20页 |
1.1 晶硅太阳能电池的研究意义及研究进展 | 第9-10页 |
1.2 晶硅太阳能电池简介 | 第10-13页 |
1.2.1 晶硅太阳能电池机构及原理简介 | 第10-11页 |
1.2.2 晶硅太阳能电池的基本制造工艺简介 | 第11-13页 |
1.3 黑硅及黑硅太阳能电池简介 | 第13-18页 |
1.3.1 黑硅及黑硅太阳能电池的研究背景 | 第13-14页 |
1.3.2 黑硅的制备工艺 | 第14-18页 |
1.4 黑硅表面钝化机理及研究进展 | 第18-19页 |
1.5 研究内容 | 第19-20页 |
第2章 实验方法、性能表征及原理 | 第20-27页 |
2.1 主要设备及化学试剂 | 第20页 |
2.2 实验方法 | 第20-23页 |
2.2.1 黑硅的制备 | 第21-22页 |
2.2.2 ITO/BFO复合薄膜的制备 | 第22-23页 |
2.3 性能表征 | 第23-27页 |
2.3.1 表征设备 | 第23页 |
2.3.2 扫描电子显微镜 | 第23-24页 |
2.3.3 紫外-可见分光光度计 | 第24页 |
2.3.4 XRD | 第24页 |
2.3.5 拉曼光谱 | 第24-25页 |
2.3.6 霍尔效应 | 第25页 |
2.3.7 铁电性能研究 | 第25-26页 |
2.3.8 太阳能电池电流-电压测试 | 第26-27页 |
第3章 MACE法制备黑硅工艺及工艺研究 | 第27-37页 |
3.1 引言 | 第27页 |
3.2 制备工艺 | 第27-28页 |
3.3 AgNO_3浓度对黑硅性能的影响 | 第28-30页 |
3.4 H_2O_2浓度对黑硅性能的影响 | 第30-32页 |
3.5 AgNO_3沉积时间对黑硅性能的影响 | 第32-34页 |
3.6 HF/H_2O_2刻蚀时间对黑硅性能的影响 | 第34-36页 |
3.7 小结 | 第36-37页 |
第4章 ITO/BFO复合薄膜的制备工艺及性能研究 | 第37-52页 |
4.1 引言 | 第37页 |
4.2 制备工艺 | 第37-38页 |
4.3 ITO薄膜的制备 | 第38-39页 |
4.4 制备工艺参数对BFO膜性能的影响 | 第39-51页 |
4.4.1 溅射气压对BFO薄膜性能的影响 | 第39-44页 |
4.4.2 沉积时间对BFO薄膜性能的影响 | 第44-48页 |
4.4.3 氧气含量对BFO薄膜性能的影响 | 第48-51页 |
4.5 小结 | 第51-52页 |
第5章 ITO/BFO复合薄膜对黑硅太阳能电池的影响 | 第52-58页 |
5.1 引言 | 第52页 |
5.2 电池制备 | 第52-53页 |
5.2.1 黑硅微纳米结构的制备 | 第52页 |
5.2.2 ITO/BFO复合薄膜的制备 | 第52页 |
5.2.3 上、下电极的制备 | 第52-53页 |
5.3 电池性能表征 | 第53-56页 |
5.3.1 ITO/BFO薄膜对黑硅电池光电性能影响 | 第53-54页 |
5.3.2 黑硅太阳能电池的I-V测试 | 第54-56页 |
5.4 小结 | 第56-58页 |
结论 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-64页 |
致谢 | 第64页 |