V型热解火焰法合成定向碳纳米管阵列的实验方法研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| ·课题背景及研究的目的和意义 | 第10-11页 |
| ·碳纳米管简介 | 第11-14页 |
| ·碳纳米管的结构及其分类 | 第11-12页 |
| ·碳纳米管的性质及应用 | 第12-13页 |
| ·碳纳米管的制备方法 | 第13-14页 |
| ·碳纳米管阵列制备的研究现状 | 第14-18页 |
| ·后处理法制备定向纳米管阵列 | 第14-15页 |
| ·直接法制备定向纳米管阵列 | 第15-18页 |
| ·本课题研究的内容 | 第18-19页 |
| ·本章小结 | 第19-20页 |
| 第2章 V型热解火焰实验系统及实验方法 | 第20-29页 |
| ·引言 | 第20页 |
| ·实验系统构成及其特点 | 第20-22页 |
| ·实验系统构成 | 第20-21页 |
| ·实验系统的特点 | 第21-22页 |
| ·实验原料的选取及分析 | 第22-24页 |
| ·碳源CO | 第22页 |
| ·辅助气体H_2 | 第22-23页 |
| ·稀释剂He | 第23页 |
| ·催化剂五羰基铁(Fe(CO)_5) | 第23-24页 |
| ·氧炔焰 | 第24页 |
| ·实验方法及改进 | 第24-26页 |
| ·实验方法 | 第24-25页 |
| ·实验方法改进 | 第25-26页 |
| ·实验结果分析方法 | 第26-28页 |
| ·SEM表征 | 第26-27页 |
| ·TEM表征 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章:涂覆法制备定向碳纳米管阵列及结果分析 | 第29-33页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·实验方法及内容 | 第29-30页 |
| ·实验结果及分析 | 第30-32页 |
| ·外部物理涂覆 | 第30页 |
| ·内部热解涂覆 | 第30-31页 |
| ·取样基板不同的影响 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第4章:电场诱导法制备定向碳纳米管阵列及结果分析 | 第33-50页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·实验方法及内容 | 第33-35页 |
| ·电场的引入 | 第33-34页 |
| ·实验过程 | 第34-35页 |
| ·实验结果及分析 | 第35-43页 |
| ·静电场引入方式的影响 | 第35-40页 |
| ·偏置电压大小的影响 | 第40-43页 |
| ·静电场对碳纳米管微观结构的影响 | 第43-44页 |
| ·不同取样的时间下碳纳米管的生长形貌 | 第44-47页 |
| ·电场诱导法制备定向生长碳纳米管阵列的机理分析 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第5章:磁控溅射法制备碳纳米管阵列及结果分析 | 第50-59页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·磁控溅射镀膜技术简介 | 第50-51页 |
| ·实验方法及内容 | 第51-53页 |
| ·催化剂衬底的制备 | 第51-52页 |
| ·实验过程 | 第52-53页 |
| ·实验结果及分析 | 第53-57页 |
| ·Al层的作用 | 第53页 |
| ·温度的影响 | 第53-57页 |
| ·三种不同方法的比较 | 第57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第6章:结论与展望 | 第59-61页 |
| ·结论 | 第59-60页 |
| ·展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第64-65页 |
| 攻读硕士学位期间参加的科研工作 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
