| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 1. 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 研究背景 | 第9页 |
| 1.2 光学表面薄膜微结构制备方法简介 | 第9-10页 |
| 1.3 薄膜微结构的研究现状 | 第10-14页 |
| 1.4 论文研究内容和论文结构 | 第14-15页 |
| 1.5 本章小结 | 第15-16页 |
| 2. 技术原理简介 | 第16-21页 |
| 2.1 单点金刚石技术 | 第16-17页 |
| 2.2 纳米压印技术 | 第17-19页 |
| 2.3 PECVD镀膜技术 | 第19页 |
| 2.4 ICP刻蚀技术 | 第19-20页 |
| 2.5 本章小结 | 第20-21页 |
| 3. 二维薄膜微结构的制备与研究 | 第21-40页 |
| 3.1 PECVD法镀制具有稳定厚度的单层和多层薄膜 | 第21-28页 |
| 3.1.1 硅基底上镀制氧化硅、氮氧化硅和氮化硅薄膜 | 第21-23页 |
| 3.1.2 硫化锌基底上镀制氧化硅薄膜 | 第23-27页 |
| 3.1.3 PECVD镀制多层渐变折射率薄膜实验 | 第27-28页 |
| 3.2 薄膜上制作二维微结构 | 第28-39页 |
| 3.2.1 单点金刚石加工法制备薄膜微结构 | 第28-30页 |
| 3.2.2 纳米压印法制备薄膜微结构 | 第30-35页 |
| 3.2.3 在薄膜上刻蚀微结构 | 第35-39页 |
| 3.3 本章小结 | 第39-40页 |
| 4. 金字塔型薄膜微结构的制备与研究 | 第40-62页 |
| 4.1 三维薄膜微结构的制备 | 第40-46页 |
| 4.1.1 单点金刚石技术制备金字塔结构模具 | 第40-43页 |
| 4.1.2 PDMS软膜的制作 | 第43页 |
| 4.1.3 涂胶并压印图形 | 第43-44页 |
| 4.1.4 刻蚀转移图形 | 第44-45页 |
| 4.1.5 结论与偏差分析 | 第45-46页 |
| 4.2 改进后三维薄膜微结构的制备 | 第46-61页 |
| 4.2.1 利用单点金刚石技术制作模具 | 第49-51页 |
| 4.2.2 纳米压印技术将微结构复制于压印胶上 | 第51-55页 |
| 4.2.3 等离子体刻蚀技术将图形转移至薄膜上 | 第55页 |
| 4.2.4 光学特性的检测及分析 | 第55-56页 |
| 4.2.5 理论分析 | 第56-61页 |
| 4.3 本章小结 | 第61-62页 |
| 5. 总结与展望 | 第62-65页 |
| 5.1 总结 | 第62-63页 |
| 5.2 展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |