摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第1章 绪论 | 第12-34页 |
1.1 高温合金概况 | 第12-18页 |
1.1.1 国外高温合金的发展 | 第12-14页 |
1.1.2 中国高温合金简介 | 第14-18页 |
1.2 GH4169合金 | 第18-27页 |
1.2.1 GH4169合金概述 | 第18-23页 |
1.2.2 GH4169合金的力学性能 | 第23-27页 |
1.2.3 GH4169合金面临的问题 | 第27页 |
1.3 静电场概述 | 第27-32页 |
1.3.1 材料与能量 | 第27-28页 |
1.3.2 静电场对材料的影响 | 第28-31页 |
1.3.3 静电场应用的发展现状及未来应用展望 | 第31-32页 |
1.4 本论文的主要内容、目的和意义 | 第32-34页 |
第2章 静电场作用下GH4169合金缺陷的演化行为 | 第34-44页 |
2.1 引言 | 第34页 |
2.2 试验材料及方法 | 第34-35页 |
2.3 试验结果与讨论 | 第35-41页 |
2.3.1 时效温度对空位的影响 | 第35-39页 |
2.3.2 静电场强度对空位的影响 | 第39-41页 |
2.4 本章小结 | 第41-44页 |
第3章 静电场作用下GH4169合金溶质原子迁移行为 | 第44-60页 |
3.1 引言 | 第44-45页 |
3.2 试验材料及方法 | 第45-46页 |
3.3 试验结果 | 第46-50页 |
3.3.1 静电场处理后GH4169合金溶质原子的分布 | 第46-47页 |
3.3.2 不同温度时效GH4169合金中γ'相和γ"相形貌 | 第47-50页 |
3.4 结果与讨论 | 第50-57页 |
3.4.1 试验样品中的电场分布 | 第50-52页 |
3.4.2 静电场作用下原子在基体中的偏聚行为 | 第52-53页 |
3.4.3 静电场时效作用下的GH4169合金局部强化 | 第53-57页 |
3.5 本章小结 | 第57-60页 |
第4章 GH4169合金γ'和γ"相在静电场时效作用下的粗化行为 | 第60-72页 |
4.1 引言 | 第60页 |
4.2 试验材料及方法 | 第60-62页 |
4.3 试验结果 | 第62-66页 |
4.3.1 常规时效γ'和γ"相长大激活能定量分析 | 第62-65页 |
4.3.2 电场时效γ'和γ"相长大激活能定量分析 | 第65-66页 |
4.4 分析和讨论 | 第66-71页 |
4.4.1 基体中Al和Nb原子在电场作用下扩散速率的定量分析 | 第66-68页 |
4.4.2 电场诱发的空位变化对析出相长大的影响 | 第68-71页 |
4.5 本章小结 | 第71-72页 |
第5章 静电场时效GH4169合金的拉伸变形行为 | 第72-98页 |
5.1 引言 | 第72-73页 |
5.2 试验材料及方法 | 第73-75页 |
5.3 结果与讨论 | 第75-97页 |
5.3.1 静电场时效GH4169合金室温拉伸的晶粒碎化行为 | 第75-82页 |
5.3.2 GH4169合金的室温拉伸性能分析 | 第82-88页 |
5.3.3 GH4169合金的动态应变时效行为 | 第88-97页 |
5.4 本章小结 | 第97-98页 |
第6章 结论 | 第98-100页 |
参考文献 | 第100-116页 |
创新点 | 第116-118页 |
研究工作展望 | 第118-120页 |
博士期间发表论文目录 | 第120-122页 |
致谢 | 第122-124页 |
附件 | 第124页 |