摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
引言 | 第8-9页 |
1 文献综述 | 第9-31页 |
1.1 稀土掺杂上转换发光材料的简介 | 第9页 |
1.2 上转换材料发光机理 | 第9-11页 |
1.3 上转换发光材料的构成 | 第11-13页 |
1.3.1 激活剂 | 第11-12页 |
1.3.2 敏化剂 | 第12-13页 |
1.3.3 基质材料 | 第13页 |
1.4 上转换材料的合成 | 第13-15页 |
1.5 提高上转换发光强度的方法 | 第15-16页 |
1.6 近红外染料及其分类 | 第16-30页 |
1.6.1 菁类染料 | 第17-18页 |
1.6.2 酞菁染料 | 第18-20页 |
1.6.3 偶氮类染料 | 第20-21页 |
1.6.5 芳甲烷型染料 | 第21-23页 |
1.6.6 醌型染料 | 第23-25页 |
1.6.7 金属配合物染料 | 第25-30页 |
1.7 选题依据 | 第30-31页 |
2 近红外染料的合成与表征 | 第31-36页 |
2.1 实验试剂 | 第31-32页 |
2.2 实验仪器 | 第32页 |
2.3 近红外染料的合成 | 第32-36页 |
2.3.1 无取代硫代双烯镍A的合成 | 第32-33页 |
2.3.2 甲基取代基硫代双烯镍配合物B | 第33-34页 |
2.3.3 二-[1-(4-二乙酰氨基苯基)-2-(4-二甲基苯基)-1,2-二硫代乙烯]镍配合物C | 第34-36页 |
3 结果与讨论 | 第36-58页 |
3.1 引言 | 第36页 |
3.2 合成路线的设计 | 第36-41页 |
3.2.1 传统合成方法 | 第36-37页 |
3.2.2 新合成方法 | 第37-38页 |
3.2.3 分子合成路线的设计 | 第38-41页 |
3.3 目标产物A的表征 | 第41-43页 |
3.4 目标产物B的表征 | 第43-46页 |
3.4.1 中间体1的表征 | 第43-44页 |
3.4.2 目标产物B的表征 | 第44-46页 |
3.5 目标产物C的表征 | 第46-52页 |
3.5.1 中间体3的表征 | 第46-47页 |
3.5.2 中间体4的表征 | 第47-49页 |
3.5.3 中间体5的表征 | 第49-50页 |
3.5.4 目标产物C的表征 | 第50-52页 |
3.6 光物理、电化学性质测试方法 | 第52-53页 |
3.6.1 紫外-可见光谱测试 | 第52页 |
3.6.2 光稳定性装置 | 第52-53页 |
3.7 性能测试 | 第53-58页 |
3.7.1 Uv-vis-NIR吸收光谱 | 第53-54页 |
3.7.2 取代基效应 | 第54-55页 |
3.7.3 溶剂效应 | 第55-56页 |
3.7.4 光稳定性的测试 | 第56-58页 |
结论 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-64页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第64-65页 |
致谢 | 第65-66页 |