薄膜生长的蒙特卡罗模拟及实验研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 课题的背景及研究意义 | 第8页 |
| 1.2 薄膜制备方法概述 | 第8-11页 |
| 1.2.1 气相沉积法 | 第9-10页 |
| 1.2.2 胶体化学法 | 第10页 |
| 1.2.3 外延技术 | 第10-11页 |
| 1.3 计算模型简述 | 第11-15页 |
| 1.3.1 薄膜形核模型 | 第11-13页 |
| 1.3.2 薄膜生长的理论方法 | 第13-15页 |
| 1.4 本文主要工作 | 第15-16页 |
| 2 薄膜的三维生长理论 | 第16-23页 |
| 2.1 薄膜的生长模式 | 第16-19页 |
| 2.2 薄膜生长的理论模式 | 第19-21页 |
| 2.2.1 亚单层薄膜生长 | 第19-20页 |
| 2.2.2 多层膜的生长模式 | 第20-21页 |
| 2.3 薄膜的层间扩散 | 第21-22页 |
| 2.4 本章小结 | 第22-23页 |
| 3 薄膜生长的Monte Carlo模型 | 第23-27页 |
| 3.1 蒙特卡罗模拟的基本方法 | 第23页 |
| 3.2 薄膜生长的Monte Carlo模拟 | 第23-24页 |
| 3.3 薄膜生长的Monte Carlo方法 | 第24-26页 |
| 3.4 本章小结 | 第26-27页 |
| 4 一元金属的蒙特卡罗模拟 | 第27-35页 |
| 4.1 银纳米粒子的简介 | 第27页 |
| 4.2 一元金属——Ag薄膜的MC模拟 | 第27-30页 |
| 4.2.1 计算模拟 | 第29-30页 |
| 4.3 结果分析 | 第30-34页 |
| 4.3.1 基底温度对薄膜生长的影响 | 第31-32页 |
| 4.3.2 沉积速率对薄膜生长的影响 | 第32-34页 |
| 4.4 本章小结 | 第34-35页 |
| 5 二元合金的蒙特卡罗模拟 | 第35-51页 |
| 5.1 NiTi形状记忆合金薄膜简介 | 第35-39页 |
| 5.2 二元合金—NiTi合金薄膜的蒙特卡罗模拟 | 第39-43页 |
| 5.2.1 计算模拟 | 第40-43页 |
| 5.3 模拟结果与分析 | 第43-50页 |
| 5.3.1 基底温度对薄膜生长的影响 | 第43-46页 |
| 5.3.2 沉积速率对薄膜生长的影响 | 第46-50页 |
| 5.4 本章小结 | 第50-51页 |
| 6 溅射法制备NiTi合金薄膜 | 第51-64页 |
| 6.1 溅射法的工作原理 | 第51-54页 |
| 6.2 薄膜的制备 | 第54-55页 |
| 6.3 实验结果与分析 | 第55-62页 |
| 6.3.1 沉积时间对薄膜生长影响 | 第55-58页 |
| 6.3.2 溅射功率对薄膜生长影响 | 第58-59页 |
| 6.3.3 基底温度对薄膜生长影响 | 第59页 |
| 6.3.4 薄膜的均匀度 | 第59-60页 |
| 6.3.5 薄膜表面形貌测试 | 第60-62页 |
| 6.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
