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薄膜生长的蒙特卡罗模拟及实验研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
1 绪论第8-16页
    1.1 课题的背景及研究意义第8页
    1.2 薄膜制备方法概述第8-11页
        1.2.1 气相沉积法第9-10页
        1.2.2 胶体化学法第10页
        1.2.3 外延技术第10-11页
    1.3 计算模型简述第11-15页
        1.3.1 薄膜形核模型第11-13页
        1.3.2 薄膜生长的理论方法第13-15页
    1.4 本文主要工作第15-16页
2 薄膜的三维生长理论第16-23页
    2.1 薄膜的生长模式第16-19页
    2.2 薄膜生长的理论模式第19-21页
        2.2.1 亚单层薄膜生长第19-20页
        2.2.2 多层膜的生长模式第20-21页
    2.3 薄膜的层间扩散第21-22页
    2.4 本章小结第22-23页
3 薄膜生长的Monte Carlo模型第23-27页
    3.1 蒙特卡罗模拟的基本方法第23页
    3.2 薄膜生长的Monte Carlo模拟第23-24页
    3.3 薄膜生长的Monte Carlo方法第24-26页
    3.4 本章小结第26-27页
4 一元金属的蒙特卡罗模拟第27-35页
    4.1 银纳米粒子的简介第27页
    4.2 一元金属——Ag薄膜的MC模拟第27-30页
        4.2.1 计算模拟第29-30页
    4.3 结果分析第30-34页
        4.3.1 基底温度对薄膜生长的影响第31-32页
        4.3.2 沉积速率对薄膜生长的影响第32-34页
    4.4 本章小结第34-35页
5 二元合金的蒙特卡罗模拟第35-51页
    5.1 NiTi形状记忆合金薄膜简介第35-39页
    5.2 二元合金—NiTi合金薄膜的蒙特卡罗模拟第39-43页
        5.2.1 计算模拟第40-43页
    5.3 模拟结果与分析第43-50页
        5.3.1 基底温度对薄膜生长的影响第43-46页
        5.3.2 沉积速率对薄膜生长的影响第46-50页
    5.4 本章小结第50-51页
6 溅射法制备NiTi合金薄膜第51-64页
    6.1 溅射法的工作原理第51-54页
    6.2 薄膜的制备第54-55页
    6.3 实验结果与分析第55-62页
        6.3.1 沉积时间对薄膜生长影响第55-58页
        6.3.2 溅射功率对薄膜生长影响第58-59页
        6.3.3 基底温度对薄膜生长影响第59页
        6.3.4 薄膜的均匀度第59-60页
        6.3.5 薄膜表面形貌测试第60-62页
    6.4 本章小结第62-64页
结论第64-66页
参考文献第66-72页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第72-73页
致谢第73-74页

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