摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-20页 |
1.1 课题研究背景及意义 | 第10-15页 |
1.1.1 LED灯的应用及发展现状 | 第10页 |
1.1.2 LED灯的组成结构及衬底材料分析 | 第10-12页 |
1.1.3 蓝宝石晶体结构 | 第12-13页 |
1.1.4 蓝宝石衬底的工艺流程 | 第13-14页 |
1.1.5 双面研磨加工原理及作用 | 第14页 |
1.1.6 蓝宝石衬底加工中存在的问题 | 第14-15页 |
1.1.7 研究目的及意义 | 第15页 |
1.2 国内外研究现状 | 第15-17页 |
1.2.1 蓝宝石衬底双面研磨中研磨盘材质影响方面的研究 | 第15页 |
1.2.2 蓝宝石衬底双面研磨中材料去除机理方面的研究 | 第15-16页 |
1.2.3 蓝宝石衬底双面研磨中工艺参数影响方面的研究 | 第16页 |
1.2.4 蓝宝石衬底形貌以及损伤检测方面的研究 | 第16-17页 |
1.3 课题来源与研究内容 | 第17-20页 |
1.3.1 课题来源 | 第17页 |
1.3.2 研究内容 | 第17页 |
1.3.3 论文的组成部分 | 第17-20页 |
第2章 双面研磨实验的设计 | 第20-28页 |
2.1 实验设备及过程 | 第20-22页 |
2.1.1 实验设备 | 第20页 |
2.1.2 实验过程 | 第20-22页 |
2.2 实验方案 | 第22-24页 |
2.2.1 不同的移除量对面形精度影响的研究 | 第23页 |
2.2.2 研磨工艺参数影响研究 | 第23-24页 |
2.2.3 粗磨循环次数影响研究 | 第24页 |
2.3 实验检测设备 | 第24-27页 |
2.3.1 面形精度及表面粗糙度检测 | 第24-25页 |
2.3.2 研磨表面形貌与亚表面损伤的检测 | 第25-27页 |
2.4 本章小结 | 第27-28页 |
第3章 研磨对蓝宝石晶片面形精度影响研究 | 第28-52页 |
3.1 面形精度定义 | 第28-29页 |
3.2 研磨移除量对面形精度影响的实验结果 | 第29-32页 |
3.3 研磨工艺参数对面形精度影响的实验研究 | 第32-41页 |
3.3.1 研磨压力对面形精度影响的实验研究 | 第32-34页 |
3.3.2 研磨转速对面形精度实验研究 | 第34-37页 |
3.3.3 研磨浓度对面形精度影响的实验研究 | 第37-39页 |
3.3.4 研磨液循环次数对面形精度影响的实验研究 | 第39-41页 |
3.4 研磨工艺参数对材料去除率影响的实验研究 | 第41-44页 |
3.4.1 研磨工艺参数对材料去除率计算方法 | 第41-42页 |
3.4.2 研磨工艺参数对材料去除率计算结果 | 第42-44页 |
3.5 退火前后研磨工艺参数对面形精度影响的实验研究 | 第44-51页 |
3.5.1 蓝宝石研磨晶片退火实验过程 | 第44-45页 |
3.5.2 退火前后研磨压力对面形精度影响的实验研究 | 第45-47页 |
3.5.3 退火前后研磨转速对面形精度影响的实验研究 | 第47-49页 |
3.5.4 退火前后研磨浓度对面形精度影响的实验研究 | 第49-51页 |
3.6 本章小结 | 第51-52页 |
第4章 研磨对表面形貌及亚表面损伤影响研究 | 第52-64页 |
4.1 研磨工艺参数对表面粗糙度Ra的影响研究 | 第52-56页 |
4.1.0 表面粗糙度Ra检测流程 | 第52-53页 |
4.1.1 研磨移除量对表面粗糙度Ra影响的实验研究 | 第53页 |
4.1.2 研磨压力对表面粗糙度Ra影响的实验研究 | 第53-54页 |
4.1.3 研磨转速对表面粗糙度Ra影响的实验研究 | 第54-55页 |
4.1.4 研磨液浓度对表面粗糙度Ra影响的实验研究 | 第55-56页 |
4.2 不同工序的表面形貌影响 | 第56-58页 |
4.2.1 线切的表面形貌 | 第56页 |
4.2.2 粗磨的表面形貌 | 第56-57页 |
4.2.3 精磨的表面形貌 | 第57-58页 |
4.3 蓝宝石衬底双面研磨加工中亚表面损伤研究 | 第58-62页 |
4.3.1 蓝宝石晶片双面研磨后亚表面损伤检测方法 | 第58-59页 |
4.3.2 蓝宝石晶片双面研磨后亚表面损伤检测流程 | 第59-60页 |
4.3.3 蓝宝石晶片双面研磨后亚表面损伤检测研究 | 第60-62页 |
4.4 本章小结 | 第62-64页 |
第5章 蓝宝石衬底双面研磨中工艺参数的优化 | 第64-71页 |
5.1 实验过程及条件 | 第64-65页 |
5.2 实验结果 | 第65-68页 |
5.2.1 原工艺与优化工艺对面形精度影响的实验研究 | 第65-67页 |
5.2.2 原工艺与优化工艺对粗糙度Ra及亚表面损伤的实验研究 | 第67-68页 |
5.3 优化前后晶片面形精度与表面质量综合分析 | 第68页 |
5.4 加工成本与生产效率综合分析 | 第68-70页 |
5.4.1 生产成本分析 | 第68-69页 |
5.4.2 生产效率分析 | 第69-70页 |
5.5 本章小结 | 第70-71页 |
第6章 结论与展望 | 第71-72页 |
6.1 结论 | 第71页 |
6.2 展望 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-75页 |
致谢 | 第75-76页 |
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第76页 |