| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 课题背景 | 第9页 |
| 1.2 电子束熔丝沉积原理 | 第9-10页 |
| 1.3 国内外研究现状分析 | 第10-16页 |
| 1.3.1 电子束熔丝沉积设备研究现状 | 第10-11页 |
| 1.3.2 电子束熔丝沉积工艺研究现状 | 第11-16页 |
| 1.4 本文主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 试验材料、设备及方法 | 第18-25页 |
| 2.1 试验材料 | 第18页 |
| 2.2 试验设备 | 第18-21页 |
| 2.2.1 电子束熔丝沉积设备 | 第18-21页 |
| 2.2.2 分析设备 | 第21页 |
| 2.3 试验方法 | 第21-25页 |
| 2.3.1 沉积工艺试验方法 | 第21页 |
| 2.3.2 沉积过程温度场数值分析方法 | 第21-25页 |
| 第3章 单层电子束熔丝沉积工艺及组织研究 | 第25-37页 |
| 3.1 单层电子束熔丝沉积工艺参数及成形分析 | 第25-27页 |
| 3.2 单层成形系数与沉积工艺回归分析 | 第27-31页 |
| 3.2.1 回归模型建立 | 第27-28页 |
| 3.2.2 回归模型检验 | 第28页 |
| 3.2.3 回归结果分析 | 第28-31页 |
| 3.3 单层沉积过程热过程及组织分析 | 第31-36页 |
| 3.3.1 单层沉积过程热过程分析 | 第31-33页 |
| 3.3.2 单层沉积过程组织分析 | 第33-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 多层电子束熔丝沉积组织及熔丝状态研究 | 第37-50页 |
| 4.1 多层电子束熔丝沉积热过程分析 | 第37-38页 |
| 4.1.1 多层沉积体模型建立 | 第37页 |
| 4.1.2 多层沉积过程温度场分析 | 第37-38页 |
| 4.2 多层电子束熔丝沉积体成形及组织分析 | 第38-45页 |
| 4.2.1 多层沉积体成形分析 | 第38-39页 |
| 4.2.2 多层沉积体组织分析 | 第39-45页 |
| 4.3 多层沉积体力学性能分析 | 第45页 |
| 4.4 熔丝状态对连续电子束熔丝沉积过程稳定性研究 | 第45-48页 |
| 4.4.1 熔丝模型建立及参数选择 | 第45-46页 |
| 4.4.2 熔丝受热变形分析及对沉积过程稳定性影响讨论 | 第46-48页 |
| 4.5 本章小结 | 第48-50页 |
| 第5章 熔池边界稳定性研究 | 第50-61页 |
| 5.1 沉积层形成过程 | 第50-51页 |
| 5.2 熔池边界受力模型建立 | 第51-56页 |
| 5.2.1 熔池边界受力分析 | 第51-52页 |
| 5.2.2 熔池边界受力平衡方程表达 | 第52-56页 |
| 5.3 熔池边界稳定性分析 | 第56-59页 |
| 5.3.1 液-气界面处各力分布情况 | 第57-58页 |
| 5.3.2 熔池边界稳定性讨论 | 第58-59页 |
| 5.4 本章小结 | 第59-61页 |
| 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 致谢 | 第67页 |