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SiC陶瓷与Al基和Sn基钎料钎焊界面结合特性的模拟计算

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第11-21页
    1.1 课题背景及研究目的第11-12页
    1.2 SiC陶瓷钎焊国内外研究现状第12-15页
        1.2.1 活性钎料第13-15页
        1.2.2 非活性钎料第15页
    1.3 金属-陶瓷界面第一性原理研究现状第15-18页
        1.3.1 Ti/SiC界面第一性原理计算第15-17页
        1.3.2 Al/SiC界面第一性原理计算第17-18页
    1.4 本文的主要研究内容和思路第18-21页
        1.4.1 论文研究思路第18-19页
        1.4.2 模拟计算方案第19-21页
第2章 模拟计算方法及试验第21-28页
    2.1 密度泛函理论第21-23页
    2.2 计算软件第23页
    2.3 表面第23-24页
    2.4 界面第24-25页
    2.5 试验部分第25-28页
        2.5.1 试验设备及装置第25-26页
        2.5.2 微观分析及性能测试第26-28页
第3章 SiC与Al基钎料界面结合特性第28-56页
    3.1 前言第28页
    3.2 Al/SiC界面结合的计算第28-40页
        3.2.1 模型与计算方法第28-30页
        3.2.2 参数选定和体相计算第30-32页
        3.2.3 表面原子层数和表面能第32-33页
        3.2.4 Al(111)/SiC(0001)界面模型第33-35页
        3.2.5 分离功与界面能第35-37页
        3.2.6 电子结构第37-39页
        3.2.7 顶位型Si封端界面的计算第39-40页
    3.3 Si/SiC界面结合的计算第40-44页
        3.3.1 参数选定和体相计算第40-42页
        3.3.2 表面原子层数和表面能第42页
        3.3.3 Si(111)/SiC(0001)界面模型第42-43页
        3.3.4 结果与讨论第43-44页
    3.4 Al-12Si与SiC界面的模拟计算第44-51页
        3.4.1 体相模型的确定第44-46页
        3.4.2 表面及界面结构的确定第46-47页
        3.4.3 电子结构分析第47-49页
        3.4.4 Al-12Si/SiC的Si终止面界面第49-51页
    3.5 界面化合物Al_4C_3的形成与抑制的探讨第51-55页
        3.5.1 Al/SiC界面化合物Al_4C_3的形成第51-52页
        3.5.2 Al/SiC界面上Al/Si原子活性的讨论第52-54页
        3.5.3 Al-12Si/SiC界面上Al_4C_3的抑制第54-55页
    3.6 本章小结第55-56页
第4章 SiC与Sn基钎料界面结合特性第56-71页
    4.1 前言第56页
    4.2 Sn/SiC界面结合的计算第56-63页
        4.2.1 模型与计算方法第56-57页
        4.2.2 参数选定和体相计算第57-58页
        4.2.3 表面原子层数和表面能第58-59页
        4.2.4 Sn(001)/SiC(0001)界面模型第59-60页
        4.2.5 分离功第60-61页
        4.2.6 电子结构分析第61-63页
    4.3 Sn-1.0Al/SiC界面结合的计算第63-69页
        4.3.1 体相模型的确定第63-64页
        4.3.2 表面及界面结构的确定第64-65页
        4.3.3 电子结构分析第65-68页
        4.3.4 C封端界面化合物的讨论第68-69页
        4.3.5 预测第69页
    4.4 本章小结第69-71页
第5章 Sn基钎料超声钎焊SiC陶瓷第71-77页
    5.1 前言第71页
    5.2 Sn基钎料第71-72页
    5.3 界面微观结构第72-74页
    5.4 接头力学性能测试第74-75页
    5.5 本章小结第75-77页
结论第77-78页
参考文献第78-83页
致谢第83页

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