| 前言 | 第14-15页 |
| 第一章 纳滤膜技术的研究进展 | 第15-60页 |
| 1.1 纳滤膜技术及纳滤膜 | 第15-20页 |
| 1.1.1 纳滤膜技术的特点 | 第15页 |
| 1.1.2 纳滤膜的种类 | 第15-19页 |
| 1.1.2.1 纳滤膜的表面分离层成分 | 第15-16页 |
| 1.1.2.2 商品化的纳滤膜产品 | 第16-17页 |
| 1.1.2.3 一些新型的纳滤膜的研制 | 第17-18页 |
| 1.1.2.4 纳滤毛细管膜 | 第18-19页 |
| 1.1.3 纳滤膜的制膜方法 | 第19-20页 |
| 1.1.3.1 紫外线照射接枝聚合 | 第19-20页 |
| 1.1.3.2 CO2 超临界法 | 第20页 |
| 1.2 纳滤膜技术的应用研究进展 | 第20-31页 |
| 1.2.1 给水生产 | 第20-25页 |
| 1.2.1.1 饮用水生产 | 第20-21页 |
| 1.2.1.2 海水软化与淡化 | 第21-25页 |
| 1.2.2 废水处理 | 第25-28页 |
| 1.2.2.1 纺织行业 | 第25-26页 |
| 1.2.2.2 电镀行业 | 第26页 |
| 1.2.2.3 核能工业 | 第26页 |
| 1.2.2.4 电子行业 | 第26页 |
| 1.2.2.5 市政工程 | 第26-27页 |
| 1.2.2.6 食品医药 | 第27页 |
| 1.2.2.7 造纸印染 | 第27-28页 |
| 1.2.3 产品分离与提纯 | 第28-31页 |
| 1.2.3.1 食品工业 | 第28-29页 |
| 1.2.3.2 制药工业 | 第29-30页 |
| 1.2.3.3 化学工业 | 第30-31页 |
| 1.3 纳滤膜过程浓差极化与膜污染机制的研究进展 | 第31-49页 |
| 1.3.1 浓差极化与膜污染 | 第31-32页 |
| 1.3.2 浓差极化理论模型 | 第32-35页 |
| 1.3.2.1 一维浓差极化模型 | 第33页 |
| 1.3.2.2 Elimelech 错流过滤模型 | 第33-34页 |
| 1.3.2.3 WZY 模型 | 第34-35页 |
| 1.3.3 纳滤膜污染 | 第35-41页 |
| 1.3.3.1 纳滤膜的污染机理 | 第35-38页 |
| 1.3.3.2 纳滤膜污染的分析鉴定方法 | 第38-39页 |
| 1.3.3.3 纳滤膜污染的分析与表征 | 第39-40页 |
| 1.3.3.4 膜与溶质和溶剂之间的相互作用 | 第40-41页 |
| 1.3.4 纳滤膜污染的影响因素 | 第41-43页 |
| 1.3.4.1 膜的性质 | 第41页 |
| 1.3.4.2 料液的性质 | 第41-43页 |
| 1.3.4.3 操作条件 | 第43页 |
| 1.3.5 控制纳滤膜污染的方法 | 第43-47页 |
| 1.3.5.1 改变物料的性质 | 第44页 |
| 1.3.5.2 膜的表面改性 | 第44页 |
| 1.3.5.3 改变操作策略 | 第44-46页 |
| 1.3.5.4 优化和改进膜组件及膜系统结构设计 | 第46-47页 |
| 1.3.6 纳滤膜污染的清洗 | 第47-49页 |
| 1.3.6.1 物理方法 | 第47页 |
| 1.3.6.2 化学方法 | 第47-49页 |
| 1.4 纳滤膜的传质机理研究进展 | 第49-58页 |
| 1.4.1 纳滤膜表面荷电特性的表征 | 第49-50页 |
| 1.4.2 纳滤膜的传质机理模型 | 第50-58页 |
| 1.4.2.1 非平衡热力学模型 | 第50-51页 |
| 1.4.2.2 孔模型 | 第51-53页 |
| 1.4.2.3 电荷模型 | 第53-55页 |
| 1.4.2.4 杂合模型 | 第55-58页 |
| 1.5 本课题的选题和主要工作内容 | 第58-60页 |
| 第二章 实验装置与测试方法的建立 | 第60-74页 |
| 2.1 实验装置 | 第60-63页 |
| 2.1.1 实验装置及流程 | 第60-62页 |
| 2.1.2 装置的清洗 | 第62-63页 |
| 2.2 克林霉素磷酸酯及其浓度的测定方法 | 第63-68页 |
| 2.2.1 克林霉素磷酸酯 | 第63-65页 |
| 2.2.2 克林霉素磷酸酯的合成 | 第65-66页 |
| 2.2.3 克林霉素磷酸酯的浓缩方法 | 第66页 |
| 2.2.4 克林霉素磷酸酯的浓度测定方法 | 第66-68页 |
| 2.2.4.1 高效液相色谱法(HPLC) | 第66-67页 |
| 2.2.4.2 旋光法 | 第67页 |
| 2.2.4.3 分光光度法 | 第67-68页 |
| 2.3 分光光度法测定克林霉素磷酸酯 | 第68-71页 |
| 2.3.1 仪器与药品 | 第68-69页 |
| 2.3.2 测定方法 | 第69页 |
| 2.3.3 标准曲线的绘制 | 第69页 |
| 2.3.4 回收率试验 | 第69-70页 |
| 2.3.5 稳定性实验 | 第70-71页 |
| 2.4 克林霉素磷酸酯在乙醇水溶液中的溶解度测定 | 第71-73页 |
| 2.4.1 溶解度的测定方法 | 第71页 |
| 2.4.2 克林霉素磷酸酯在乙醇水溶液中的溶解度测定 | 第71-73页 |
| 2.5 本章小结 | 第73-74页 |
| 第三章 克林霉素磷酸酯乙醇水溶液纳滤浓缩实验研究 | 第74-101页 |
| 3.1 实验用膜 | 第74-76页 |
| 3.2 纳滤膜的溶剂通量测定 | 第76-79页 |
| 3.2.1 纯水通量 | 第77页 |
| 3.2.2 乙醇水溶液通量 | 第77-79页 |
| 3.3 克林霉素磷酸酯乙醇水溶液纳滤过程的影响因素 | 第79-88页 |
| 3.3.1 克林霉素磷酸酯乙醇水溶液纳滤分离过程中的通量下降 | 第79-82页 |
| 3.3.2 压力对纳滤膜截留性能的影响 | 第82-84页 |
| 3.3.3 温度对纳滤膜截留性能的影响 | 第84-86页 |
| 3.3.4 切向流速对纳滤膜性能的影响 | 第86-87页 |
| 3.3.5 进料浓度对纳滤膜截留性能的影响 | 第87-88页 |
| 3.4 克林霉素磷酸酯乙醇水溶液的纳滤浓缩 | 第88-95页 |
| 3.4.1 高浓度克林霉素磷酸酯乙醇水溶液的纳滤浓缩 | 第88-92页 |
| 3.4.1.1 高压操作 | 第88-90页 |
| 3.4.1.2 低压操作 | 第90-92页 |
| 3.4.2 低浓度克林霉素磷酸酯乙醇水溶液的纳滤浓缩 | 第92-95页 |
| 3.5 纳滤浓缩液的红外光谱分析 | 第95-96页 |
| 3.6 克林霉素磷酸酯树脂解吸液的纳滤分离 | 第96页 |
| 3.6.1 克林霉素磷酸酯树脂解吸液的预过滤 | 第96页 |
| 3.7 克林霉素磷酸酯树脂解吸液纳滤分离 | 第96-97页 |
| 3.8 纳滤膜的耐溶剂性能考察 | 第97-98页 |
| 3.9 克林霉素磷酸酯树脂解吸液纳滤浓缩的生产现场试验 | 第98-100页 |
| 3.10 本章小结 | 第100-101页 |
| 第四章 克林霉素磷酸酯纳滤过程中的传递现象研究 | 第101-129页 |
| 4.1 膜外传递的浓差极化现象 | 第101-110页 |
| 4.1.1 改进的 WZY 模型 | 第102-110页 |
| 4.1.1.1 模型的分析 | 第103-105页 |
| 4.1.1.2 实验验证 | 第105-110页 |
| 4.2 基于改进 WZY 模型的纳滤膜性能预测 | 第110-119页 |
| 4.2.1 压力和进料浓度的影响 | 第111-113页 |
| 4.2.2 温度的影响 | 第113-114页 |
| 4.2.3 进料流速的影响 | 第114-115页 |
| 4.2.4 流道缝宽的影响 | 第115-117页 |
| 4.2.5 流道长度的影响 | 第117-119页 |
| 4.3 纳滤膜的膜内传递过程 | 第119-121页 |
| 4.3.1 严格位阻孔模型的建立 | 第119-121页 |
| 4.4 纳滤膜内传递特性的预测 | 第121-128页 |
| 4.4.1 SpiegleKedem 方程的参数估算 | 第122页 |
| 4.4.2 利用遗传算法进行参数估算 | 第122-124页 |
| 4.4.2.1 遗传算法及其特点 | 第122-123页 |
| 4.4.2.2 遗传算法的求解步骤 | 第123-124页 |
| 4.4.3 膜参数的预测 | 第124-128页 |
| 4.4.3.1 葡萄糖和蔗糖标准曲线的测定 | 第125页 |
| 4.4.3.2 膜性能的测试 | 第125-126页 |
| 4.4.3.3 膜参数预测结果分析与讨论 | 第126-128页 |
| 4.5 小结 | 第128-129页 |
| 第五章 克林霉素磷酸酯纳滤分离过程中的膜污染机制与防治 | 第129-158页 |
| 5.1 静态吸附实验 | 第129-137页 |
| 5.1.1 射线光电子能谱分析 | 第130-136页 |
| 5.1.1.1 测量原理 | 第130-131页 |
| 5.1.1.2 测试仪器与方法 | 第131页 |
| 5.1.1.3 样品的 XPS 测定与分析 | 第131-136页 |
| 5.1.2 红外分析 | 第136-137页 |
| 5.2 纳滤分离实验 | 第137-141页 |
| 5.2.1 通量衰减曲线 | 第137-139页 |
| 5.2.2 XPS 分析 | 第139-141页 |
| 5.3 膜表面形态分析 | 第141-145页 |
| 5.3.1 结晶的影响 | 第142-143页 |
| 5.3.2 扫描电镜分析 | 第143-144页 |
| 5.3.3 红外光谱分析 | 第144-145页 |
| 5.4 膜面结晶的预防 | 第145-146页 |
| 5.4.1 切向流速 | 第145页 |
| 5.4.2 操作温度 | 第145-146页 |
| 5.4.3 操作压力 | 第146页 |
| 5.4.4 液相主体浓度 | 第146页 |
| 5.4.5 晶种 | 第146页 |
| 5.4.6 溶剂比 | 第146页 |
| 5.5 膜的清洗 | 第146-153页 |
| 5.5.1 高速流和气液两相流冲洗 | 第147-148页 |
| 5.5.2 热水冲洗 | 第148-153页 |
| 5.5.2.1 纳滤分离过程中的膜清洗 | 第148-151页 |
| 5.5.2.2 纳滤浓缩过程中的膜清洗 | 第151-153页 |
| 5.6 克林霉素磷酸酯乙醇水溶液纳滤分离过程中的临界通量 | 第153-156页 |
| 5.7 膜污染机制与防治的总结 | 第156-157页 |
| 5.8 本章小结 | 第157-158页 |
| 第六章 工业试验装置的运行结果与经济分析 | 第158-173页 |
| 6.1 克林霉素磷酸酯的纳滤浓缩工业试验装置的设计 | 第158-162页 |
| 6.1.1 设计要求 | 第158页 |
| 6.1.2 设计过程 | 第158-159页 |
| 6.1.3 装置流程 | 第159-161页 |
| 6.1.4 装置运行 | 第161页 |
| 6.1.5 系统的清洗与维护 | 第161-162页 |
| 6.2 克林霉素磷酸酯树脂解吸液纳滤浓缩工业试验装置运行结果 | 第162-165页 |
| 6.2.1 初期运行结果 | 第162-164页 |
| 6.2.2 长期运行后的性能 | 第164-165页 |
| 6.3 纳滤浓缩工艺的经济分析[236,237] | 第165-172页 |
| 6.3.1 基础数据 | 第165-167页 |
| 6.3.1.1 实施进度 | 第165-167页 |
| 6.3.1.2 总投资估算及资金来源 | 第167页 |
| 6.3.1.3 工资及福利费估算 | 第167页 |
| 6.3.2 经济分析[242,243] | 第167-170页 |
| 6.3.2.1 年收入和年销售税金及附加估算 | 第167-168页 |
| 6.3.2.2 产品成本估算 | 第168-169页 |
| 6.3.2.3 利润总额及分配 | 第169页 |
| 6.3.2.4 财务盈利能力分析 | 第169-170页 |
| 6.3.2.5 项目清偿能力分析 | 第170页 |
| 6.3.2.6 不确定性分析 | 第170页 |
| 6.3.3 综合效益分析 | 第170-172页 |
| 6.3.3.1 间接经济效益 | 第170页 |
| 6.3.3.2 社会效益及环境效益 | 第170-172页 |
| 6.3.4 评价结论 | 第172页 |
| 6.4 本章小结 | 第172-173页 |
| 第七章 本文研究方法与结果的普遍性意义分析 | 第173-183页 |
| 7.1 各种药物生产过程分析 | 第173-179页 |
| 7.1.1 中药 | 第173-175页 |
| 7.1.2 化学合成药物 | 第175-176页 |
| 7.1.3 生物合成药物 | 第176-179页 |
| 7.2 本论文研究方法与结果在制药行业中的可能应用 | 第179-181页 |
| 7.2.1 纳滤分离与浓缩 | 第179-180页 |
| 7.2.2 纳滤分离过程理论 | 第180页 |
| 7.2.3 膜污染与清洗 | 第180-181页 |
| 7.2.4 经济分析 | 第181页 |
| 7.3 进一步工作展望 | 第181-183页 |
| 第八章 结论 | 第183-185页 |
| 参考文献 | 第185-204页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第204-205页 |
| 附录 1 数据采集系统的核心语句 | 第205-206页 |
| 附录 2 符号说明 | 第206-213页 |
| 附录 3 Elimelech 浓差极化式的推导 | 第213-217页 |
| 附录 4 平行平板错流过滤模型的推导过程 | 第217-224页 |
| 附录 5 孔模型的推导 | 第224-231页 |
| 附录 6 经济分析报表 | 第231-237页 |
| 致 谢 | 第237页 |
