| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 导电纳米材料修饰神经电极 | 第10-13页 |
| 1.2.1 碳纳米管修饰 | 第10-11页 |
| 1.2.2 导电聚合物修饰 | 第11-12页 |
| 1.2.3 碳纳米管/导电聚合物复合修饰 | 第12-13页 |
| 1.3 细胞-基材界面图案化 | 第13-16页 |
| 1.3.1 制备技术 | 第13-14页 |
| 1.3.2 常见微米结构 | 第14-16页 |
| 1.4 本文的研究思路和内容 | 第16-18页 |
| 2 取向PLA纤维的制备 | 第18-27页 |
| 2.1 理论背景 | 第18-19页 |
| 2.2 实验部分 | 第19-20页 |
| 2.2.1 原料与仪器设备 | 第19页 |
| 2.2.2 实验步骤 | 第19-20页 |
| 2.2.3 测试表征 | 第20页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第20-25页 |
| 2.3.1 溶液浓度对纤维形态的影响 | 第20页 |
| 2.3.2 溶剂对纤维形态的影响 | 第20-22页 |
| 2.3.3 纺丝电压对纤维形态的影响 | 第22-23页 |
| 2.3.4 接收距离对纤维形态的影响 | 第23-24页 |
| 2.3.5 取向PLA纤维的形貌分析 | 第24-25页 |
| 2.4 本章小结 | 第25-27页 |
| 3 具有凹槽结构的碳纳米管修饰涂层的制备 | 第27-41页 |
| 3.1 理论背景 | 第27-28页 |
| 3.2 实验部分 | 第28-30页 |
| 3.2.1 原料与仪器设备 | 第28-29页 |
| 3.2.2 实验步骤 | 第29-30页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第30-40页 |
| 3.3.1 XPS分析 | 第30-31页 |
| 3.3.2 SWNTs浓度的标定 | 第31-32页 |
| 3.3.3 滴涂法与电泳沉积法制备的SWNT涂层性能对比 | 第32-34页 |
| 3.3.4 SWNT涂层质量对修饰电极阻抗的影响 | 第34-35页 |
| 3.3.5 凹槽结构的构建及其影响因素 | 第35-39页 |
| 3.3.6 表观形貌分析 | 第39-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 4 具有凹槽结构的碳纳米管/导电聚合物修饰涂层的制备 | 第41-58页 |
| 4.1 理论背景 | 第41-42页 |
| 4.2 实验部分 | 第42-44页 |
| 4.2.1 原料与仪器设备 | 第42页 |
| 4.2.2 实验步骤 | 第42-44页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第44-57页 |
| 4.3.1 聚合时间对复合电极阻抗的影响 | 第44-46页 |
| 4.3.2 复合电极稳定性分析 | 第46-48页 |
| 4.3.3 涂层形貌分析 | 第48-49页 |
| 4.3.4 红外光谱分析表征 | 第49-50页 |
| 4.3.5 拉曼光谱分析表征 | 第50-51页 |
| 4.3.6 不同扫速分析 | 第51-53页 |
| 4.3.7 电路拟合 | 第53-55页 |
| 4.3.8 细胞培养 | 第55-57页 |
| 4.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 5 结论 | 第58-60页 |
| 5.1 本文主要结论 | 第58-59页 |
| 5.2 本文特色 | 第59页 |
| 5.3 尚待进一步研究的问题 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-72页 |
| 附录 | 第72页 |