| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第9-10页 |
| 1.2 低压压敏电阻研究现状 | 第10-13页 |
| 1.2.1 ZnO低压压敏电阻 | 第10-11页 |
| 1.2.2 压敏薄膜 | 第11页 |
| 1.2.3 SrTiO_3基低压压敏电阻 | 第11-12页 |
| 1.2.4 TiO_2基低压压敏电阻 | 第12-13页 |
| 1.3 掺杂对TiO_2基压敏陶瓷的影响 | 第13-17页 |
| 1.3.1 施主掺杂 | 第14-15页 |
| 1.3.2 受主掺杂 | 第15-16页 |
| 1.3.3 烧结助剂掺杂 | 第16-17页 |
| 1.4 本文的研究目的和意义 | 第17页 |
| 1.5 本文的研究内容 | 第17-19页 |
| 第2章 研究内容与方法 | 第19-24页 |
| 2.1 实验原料及设备 | 第19-20页 |
| 2.2 实验步骤 | 第20-21页 |
| 2.3 实验测试方法及表征 | 第21-24页 |
| 第3章 Fe_2O_3掺杂对TiO_2-Ta_2O_5基压敏陶瓷性能的影响 | 第24-33页 |
| 3.1 引言 | 第24页 |
| 3.2 实验方法 | 第24-25页 |
| 3.3 Fe_2O_3掺杂水平对样品相组成影响 | 第25-26页 |
| 3.4 Fe_2O_3掺杂水平对样品微观结构与烧结性能的影响 | 第26-30页 |
| 3.5 Fe_2O_3掺杂水平对样品电学性能的影响 | 第30-32页 |
| 3.6 本章小结 | 第32-33页 |
| 第4章 Fe_2O_3掺杂对TiO_2-Nb_2O_5-Cr2O_3基压敏陶瓷性能的影响 | 第33-44页 |
| 4.1 引言 | 第33页 |
| 4.2 实验方法 | 第33-34页 |
| 4.3 Fe_2O_3掺杂水平对样品微观结构与烧结性能的影响 | 第34-40页 |
| 4.4 Fe_2O_3掺杂水平对样品相组成的影响 | 第40-41页 |
| 4.5 Fe_2O_3掺杂水平对样品电学性能的影响 | 第41-43页 |
| 4.6 本章小结 | 第43-44页 |
| 第5章 ZrO_2掺杂对TiO_2-Nb_2O_5-Cr2O_3基压敏陶瓷性能的影响 | 第44-56页 |
| 5.1 引言 | 第44-45页 |
| 5.2 实验方法 | 第45页 |
| 5.3 ZrO_2掺杂水平对样品微观结构与烧结性能的影响 | 第45-51页 |
| 5.4 ZrO_2掺杂水平对样品相组成的影响 | 第51-52页 |
| 5.5 ZrO_2掺杂水平对样品电学性能的影响 | 第52-55页 |
| 5.6 本章小结 | 第55-56页 |
| 第6章 结论 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 个人简历 | 第64-65页 |
| 在学期间研究成果 | 第65页 |
