AlCr靶高电流脉冲电弧放电及AlCrN薄膜沉积
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 多弧离子镀原理及特点 | 第9-10页 |
| 1.3 阴极脉冲电弧离子镀研究现状 | 第10-13页 |
| 1.4 本文主要研究内容 | 第13-14页 |
| 第2章 实验材料及方法 | 第14-23页 |
| 2.1 多功能离子镀系统 | 第14-16页 |
| 2.1.1 实验设备 | 第14-15页 |
| 2.1.2 脉冲电源系统 | 第15-16页 |
| 2.2 实验材料 | 第16-17页 |
| 2.3 放电实验 | 第17-19页 |
| 2.4 实验工艺设计 | 第19-21页 |
| 2.4.1 清洗 | 第19-20页 |
| 2.4.2 沉积过渡层 | 第20页 |
| 2.4.3 AlCrN薄膜沉积 | 第20-21页 |
| 2.5 组织结构及性能分析方法 | 第21-23页 |
| 2.5.1 X射线衍射分析 | 第21页 |
| 2.5.2 扫描电子显微镜分析 | 第21页 |
| 2.5.3 压痕实验 | 第21页 |
| 2.5.4 光学显微镜观察 | 第21-22页 |
| 2.5.5 光谱分析 | 第22页 |
| 2.5.6 纳米硬度测试 | 第22-23页 |
| 第3章 AlCr靶脉冲电弧放电特性的研究 | 第23-44页 |
| 3.1 氩气条件下峰值电流的影响 | 第24-28页 |
| 3.2 氮气条件下峰值电流的影响 | 第28-32页 |
| 3.3 氩气条件下偏压的影响 | 第32-35页 |
| 3.4 氮气条件下偏压的影响 | 第35-38页 |
| 3.5 氩气条件下气压的影响 | 第38-40页 |
| 3.6 氮气条件下气压的影响 | 第40-43页 |
| 3.7 本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 AlCr靶脉冲电弧放电光谱特性的研究 | 第44-66页 |
| 4.1 氩气条件下峰值电流的影响 | 第44-49页 |
| 4.2 氮气条件下峰值电流的影响 | 第49-54页 |
| 4.3 氩气条件下偏压的影响 | 第54-56页 |
| 4.4 氮气条件下偏压的影响 | 第56-59页 |
| 4.5 氩气条件下气压的影响 | 第59-62页 |
| 4.6 氮气条件下气压的影响 | 第62-64页 |
| 4.7 本章小结 | 第64-66页 |
| 第5章 脉冲电弧制备AlCrN薄膜结构性能的研究 | 第66-78页 |
| 5.1 AlCrN薄膜的表面形貌 | 第66-69页 |
| 5.2 AlCrN薄膜的截面形貌 | 第69-72页 |
| 5.3 AlCrN薄膜XRD相结构分析 | 第72-74页 |
| 5.4 AlCrN薄膜膜基结合力 | 第74-76页 |
| 5.5 AlCrN薄膜纳米硬度 | 第76-77页 |
| 5.6 本章小结 | 第77-78页 |
| 结论 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-85页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第85-87页 |
| 致谢 | 第87页 |
