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多层晶片阳极键合界面结构及力学性能研究

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-7页
第一章 绪论第10-20页
    1.1 课题研究背景第10页
    1.2 阳极键合简介第10-17页
        1.2.1 阳极键合机理第11-12页
        1.2.2 阳极键合电流第12页
        1.2.3 阳极键合材料第12-13页
        1.2.4 阳极键合质量影响因素第13-15页
        1.2.5 阳极键合研究进展第15-17页
    1.3 玻璃与金属板的连接研究现状第17-19页
        1.3.1 活性钎焊连接第17-18页
        1.3.2 超声波辅助钎焊连接第18页
        1.3.3 电场辅助钎焊连接第18-19页
    1.4 本文研究的目的和主要内容第19-20页
第二章 实验方法和设备第20-25页
    2.1 实验材料第20页
    2.2 实验主要设备第20-22页
        2.2.1 高频感应加热设备第20页
        2.2.2 阳极键合装置第20-22页
    2.3 分析方法第22-25页
        2.3.1 界面微观形貌第22页
        2.3.2 界面元素分布第22-23页
        2.3.3 界面键合率测定第23-24页
        2.3.4 力学性能测试第24-25页
第三章 Si-glass-Si阳极键合界面及力学性能研究第25-34页
    3.1 引言第25页
    3.2 实验过程第25-26页
    3.3 实验结果与分析第26-33页
        3.3.1 键合界面微观结构第26-27页
        3.3.2 Si-glass-Si键合电流第27-30页
        3.3.3 Si-glass-Si界面形貌第30-31页
        3.3.4 Si-glass-Si力学性能第31-33页
    3.4 本章小结第33-34页
第四章 Al-glass-Al/Si阳极键合界面及力学性能研究第34-48页
    4.1 引言第34页
    4.2 实验材料第34页
    4.3 实验流程第34-35页
    4.4 实验结果与分析第35-46页
        4.4.1 Al-glass-Al界面元素分布第35-36页
        4.4.2 Al-glass-Al键合电流第36-38页
        4.4.3 Al-glass-Al界面微观形貌第38-39页
        4.4.4 Al-glass-Al界面键合率第39-41页
        4.4.5 Al-glass-Si键合电流第41-43页
        4.4.6 Al-glass-Si界面微观形貌第43-44页
        4.4.7 力学性能第44-46页
    4.5 本章小结第46-48页
第五章 Glass-Ni低温钎焊连接界面及力学性能研究第48-59页
    5.1 引言第48页
    5.2 Ni-glass电场辅助钎焊连接第48-52页
        5.2.1 Sn-2Al复合钎料的制备第48-50页
        5.2.2 电场辅助钎焊法制备Ni-glass试样第50-52页
    5.3 Ni-glass低温钎焊连接第52-58页
        5.3.1 Sn-9Zn复合钎料的制备第52-53页
        5.3.2 glass-Al-solder-Ni钎焊试验第53-54页
        5.3.3 glass-Al-solder-Ni界面微观结构第54-57页
        5.3.4 glass-Al-solder-Ni力学性能第57-58页
    5.4 本章小节第58-59页
第六章 结论与展望第59-61页
    6.1 结论第59页
    6.2 展望第59-61页
参考文献第61-66页
致谢第66-67页
攻读学位期间发表的学术论文目录第67页

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