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甲硫氨酸对铜合金在NaCl溶液中的缓蚀性能研究

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-7页
第一章 绪论第11-25页
    1.1 引言第11页
    1.2 铜的腐蚀形态及机理第11-13页
    1.3 缓蚀剂的分类及作用机理第13-14页
    1.4 铜缓蚀剂研究进展第14-17页
        1.4.1 唑类化合物第14-15页
        1.4.2 嘌呤及其衍生物第15-16页
        1.4.3 植物提取物和天然食物第16页
        1.4.4 药类化合物,离子液体,羧酸及其他化合物第16-17页
    1.5 氨基酸类缓蚀剂研究进展第17-19页
    1.6 选题意义及主要研究内容第19-21页
    参考文献第21-25页
第二章 实验方法及原理第25-29页
    2.1 实验设备及试剂第25-26页
        2.1.1 实验设备第25页
        2.1.2 实验试剂及材料第25-26页
    2.2 测试方法第26-28页
        2.2.1 电化学测试第26-27页
        2.2.2 表面分析技术第27-28页
    参考文献第28-29页
第三章 甲硫氨酸对Cu-10 wt.% Ni合金缓蚀行为及缓蚀机理第29-45页
    3.1 前言第29-30页
    3.2 实验方法第30-31页
        3.2.1 实验材料和设备第30页
        3.2.2 电化学测试第30-31页
        3.2.3 扫描电镜及能谱第31页
        3.2.4 傅立叶变换红外光谱第31页
    3.3 实验结果与讨论第31-40页
        3.3.1 电化学阻抗测试第31-35页
        3.3.2 动电位极化曲线第35-36页
        3.3.3 循环伏安法第36-37页
        3.3.4 表面腐蚀形貌扫描第37-38页
        3.3.5 傅里叶变换红外光谱第38-39页
        3.3.6 横截面腐蚀形貌扫描第39-40页
    3.4 缓蚀机理讨论第40-41页
    3.5 本章小结第41-42页
    参考文献第42-45页
第四章 甲硫氨酸与硅酸钠复配对Cu-10 wt.% Ni合金的缓蚀行为第45-59页
    4.1 前言第45页
    4.2 实验方法第45页
    4.3 实验结果与讨论第45-53页
        4.3.1 电化学阻抗测试第46-48页
        4.3.2 动电位极化曲线第48-49页
        4.3.3 循环伏安法第49-50页
        4.3.4 表面腐蚀形貌扫描第50-51页
        4.3.5 傅里叶变换红外光谱第51-52页
        4.3.6 横截面腐蚀形貌扫描第52-53页
    4.4 缓蚀机理讨论第53-55页
    4.5 本章小结第55-56页
    参考文献第56-59页
第五章 甲硫氨酸与磷酸钠复配对Cu-10 wt.% Ni合金的缓蚀行为第59-71页
    5.1 前言第59页
    5.2 实验方法第59-60页
    5.3 实验结果与讨论第60-67页
        5.3.1 电化学阻抗测试第60-63页
        5.3.2 动电位极化曲线第63-64页
        5.3.3 表面腐蚀形貌扫描第64-67页
        5.3.4 傅里叶变换红外光谱第67页
    5.4 缓蚀机理讨论第67-68页
    5.5 本章小结第68-69页
    参考文献第69-71页
第六章 结论与展望第71-73页
    6.1 主要结论第71-72页
    6.2 展望第72-73页
致谢第73-75页
攻读硕士期间发表论文第75页

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