摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-7页 |
第一章 绪论 | 第11-25页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 铜的腐蚀形态及机理 | 第11-13页 |
1.3 缓蚀剂的分类及作用机理 | 第13-14页 |
1.4 铜缓蚀剂研究进展 | 第14-17页 |
1.4.1 唑类化合物 | 第14-15页 |
1.4.2 嘌呤及其衍生物 | 第15-16页 |
1.4.3 植物提取物和天然食物 | 第16页 |
1.4.4 药类化合物,离子液体,羧酸及其他化合物 | 第16-17页 |
1.5 氨基酸类缓蚀剂研究进展 | 第17-19页 |
1.6 选题意义及主要研究内容 | 第19-21页 |
参考文献 | 第21-25页 |
第二章 实验方法及原理 | 第25-29页 |
2.1 实验设备及试剂 | 第25-26页 |
2.1.1 实验设备 | 第25页 |
2.1.2 实验试剂及材料 | 第25-26页 |
2.2 测试方法 | 第26-28页 |
2.2.1 电化学测试 | 第26-27页 |
2.2.2 表面分析技术 | 第27-28页 |
参考文献 | 第28-29页 |
第三章 甲硫氨酸对Cu-10 wt.% Ni合金缓蚀行为及缓蚀机理 | 第29-45页 |
3.1 前言 | 第29-30页 |
3.2 实验方法 | 第30-31页 |
3.2.1 实验材料和设备 | 第30页 |
3.2.2 电化学测试 | 第30-31页 |
3.2.3 扫描电镜及能谱 | 第31页 |
3.2.4 傅立叶变换红外光谱 | 第31页 |
3.3 实验结果与讨论 | 第31-40页 |
3.3.1 电化学阻抗测试 | 第31-35页 |
3.3.2 动电位极化曲线 | 第35-36页 |
3.3.3 循环伏安法 | 第36-37页 |
3.3.4 表面腐蚀形貌扫描 | 第37-38页 |
3.3.5 傅里叶变换红外光谱 | 第38-39页 |
3.3.6 横截面腐蚀形貌扫描 | 第39-40页 |
3.4 缓蚀机理讨论 | 第40-41页 |
3.5 本章小结 | 第41-42页 |
参考文献 | 第42-45页 |
第四章 甲硫氨酸与硅酸钠复配对Cu-10 wt.% Ni合金的缓蚀行为 | 第45-59页 |
4.1 前言 | 第45页 |
4.2 实验方法 | 第45页 |
4.3 实验结果与讨论 | 第45-53页 |
4.3.1 电化学阻抗测试 | 第46-48页 |
4.3.2 动电位极化曲线 | 第48-49页 |
4.3.3 循环伏安法 | 第49-50页 |
4.3.4 表面腐蚀形貌扫描 | 第50-51页 |
4.3.5 傅里叶变换红外光谱 | 第51-52页 |
4.3.6 横截面腐蚀形貌扫描 | 第52-53页 |
4.4 缓蚀机理讨论 | 第53-55页 |
4.5 本章小结 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-59页 |
第五章 甲硫氨酸与磷酸钠复配对Cu-10 wt.% Ni合金的缓蚀行为 | 第59-71页 |
5.1 前言 | 第59页 |
5.2 实验方法 | 第59-60页 |
5.3 实验结果与讨论 | 第60-67页 |
5.3.1 电化学阻抗测试 | 第60-63页 |
5.3.2 动电位极化曲线 | 第63-64页 |
5.3.3 表面腐蚀形貌扫描 | 第64-67页 |
5.3.4 傅里叶变换红外光谱 | 第67页 |
5.4 缓蚀机理讨论 | 第67-68页 |
5.5 本章小结 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-71页 |
第六章 结论与展望 | 第71-73页 |
6.1 主要结论 | 第71-72页 |
6.2 展望 | 第72-73页 |
致谢 | 第73-75页 |
攻读硕士期间发表论文 | 第75页 |