图案化蓝宝石衬底及硅纳米线的制备
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 纳米加工技术 | 第12-16页 |
| 1.2 纳米压印技术 | 第16-20页 |
| 1.2.1 热压纳米压印技术 | 第16-17页 |
| 1.2.2 紫外光固化纳米压印技术 | 第17-18页 |
| 1.2.3 软光刻技术 | 第18-19页 |
| 1.2.4 复合纳米压印 | 第19-20页 |
| 1.3 本论文的目的和意义以及研究的主要内容 | 第20-22页 |
| 第二章 图案化蓝宝石衬底的研究 | 第22-40页 |
| 2.1 LED的发展历史 | 第22-23页 |
| 2.2 图案化衬底结构的优点 | 第23-26页 |
| 2.3 湿法刻蚀 | 第26页 |
| 2.4 光刻以及纳米压印的方法制备图案化结构 | 第26-28页 |
| 2.4.1 光刻方法 | 第26-27页 |
| 2.4.2 纳米压印制备方法 | 第27-28页 |
| 2.5 实验进展及结论 | 第28-37页 |
| 2.5.1 实验原料与试剂 | 第28-29页 |
| 2.5.2 实验仪器与表征 | 第29页 |
| 2.5.3 湿法刻蚀 | 第29-32页 |
| 2.5.5 感应耦合等离子体刻蚀(ICP) | 第32-34页 |
| 2.5.6 感应耦合等离子刻蚀后湿法修饰 | 第34-37页 |
| 2.5.7 GaN/InGaN基LED的制备 | 第37页 |
| 2.6 LED性能的测试 | 第37-39页 |
| 2.7 本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 一维硅纳米线/管的制备 | 第40-58页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 硅纳米线的制备方法 | 第40-46页 |
| 3.2.1 VLS气-液-固方法 | 第40-41页 |
| 3.2.2 激光烧蚀法 | 第41页 |
| 3.2.3 化学气相沉积法 | 第41-42页 |
| 3.2.4 金属辅助化学刻蚀 | 第42-46页 |
| 3.3 实验部分 | 第46-54页 |
| 3.3.1 实验试剂 | 第46页 |
| 3.3.2 实验仪器 | 第46-47页 |
| 3.3.3 硅纳米孔洞制备 | 第47-49页 |
| 3.3.4 硅纳米线的制备 | 第49-54页 |
| 3.4 应用 | 第54-57页 |
| 3.4.1 锂离子电池负极 | 第54-56页 |
| 3.4.2 传感器及其他应用 | 第56-57页 |
| 3.5 本章小结 | 第57-58页 |
| 第四章 总结与展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-68页 |
| 致谢 | 第68-70页 |
| 攻读硕士学位期间论文发表 | 第70-71页 |
