| 中文摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 脱合金法制备纳米多孔金属的研究进展 | 第9-14页 |
| 1.1.1 概述 | 第9-10页 |
| 1.1.2 合金相组成对脱合金的影响 | 第10-11页 |
| 1.1.3 脱合金时间的影响 | 第11-12页 |
| 1.1.4 脱合金温度的影响 | 第12-13页 |
| 1.1.5 脱合金溶液的影响 | 第13-14页 |
| 1.2 互不固溶金属体系 | 第14-15页 |
| 1.2.1 概述 | 第14-15页 |
| 1.2.2 互不固溶金属合金的制备 | 第15页 |
| 1.3 层状金属基复合材料 | 第15-17页 |
| 1.3.1 层状金属基复合材料的概念 | 第15页 |
| 1.3.2 层状金属基材料制备方法 | 第15-16页 |
| 1.3.3 层状金属基复合材料的应用 | 第16-17页 |
| 1.4 析氢电催化材料的研究现状 | 第17-20页 |
| 1.4.1 概述 | 第17-19页 |
| 1.4.2 贵金属族电催化析氢催化剂 | 第19页 |
| 1.4.3 非贵金属族电催化析氢催化剂 | 第19-20页 |
| 1.5 研究背景及意义、研究内容和创新点 | 第20-23页 |
| 1.5.1 研究背景及意义 | 第20-21页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第21页 |
| 1.5.3 创新点 | 第21-23页 |
| 第二章 纳米多孔Mo薄膜的制备研究 | 第23-43页 |
| 2.1 引言 | 第23页 |
| 2.2 实验原料和设备 | 第23-25页 |
| 2.3 实验技术路线 | 第25页 |
| 2.4 纳米多孔Mo薄膜的制备 | 第25-28页 |
| 2.4.1 Mo箔的前处理 | 第25-26页 |
| 2.4.2 Mo箔表面直流电镀Zn | 第26-27页 |
| 2.4.3 Mo/Zn电镀试样的退火处理 | 第27-28页 |
| 2.4.4 Mo-Zn层状合金的脱合金及后处理 | 第28页 |
| 2.5 纳米多孔Mo薄膜显微结构表征 | 第28-29页 |
| 2.5.1 扫描电子显微镜（SEM） | 第28-29页 |
| 2.5.2 能谱分析（EDS） | 第29页 |
| 2.5.3 BET表面分析 | 第29页 |
| 2.6 结果与讨论 | 第29-41页 |
| 2.6.1 Zn电沉积速率的研究 | 第29-31页 |
| 2.6.2 纳米多孔Mo薄膜的微观形貌观察 | 第31-34页 |
| 2.6.3 脱合金时间对纳米多孔Mo薄膜微观形貌的影响 | 第34-36页 |
| 2.6.4 脱合金温度对纳米多孔Mo薄膜微观形貌的影响 | 第36-40页 |
| 2.6.5 不同脱合金温度下Mo原子在固液界面的扩散系数计算 | 第40-41页 |
| 2.7 本章小结 | 第41-43页 |
| 第三章 基于Mo-Zn互不固溶体系脱合金机理的分析 | 第43-56页 |
| 3.1 引言 | 第43-44页 |
| 3.2 研究手段 | 第44-45页 |
| 3.2.1 X射线衍射仪（XRD） | 第44页 |
| 3.2.2 俄歇纳米扫描仪（AES） | 第44页 |
| 3.2.3 透射电子显微镜（TEM） | 第44-45页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第45-54页 |
| 3.3.1 X射线衍射仪（XRD）分析 | 第45页 |
| 3.3.2 小角掠入射X射线衍射（GIXRD）分析 | 第45-47页 |
| 3.3.3 俄歇纳米扫描仪（AES）分析 | 第47-49页 |
| 3.3.4 透射电子显微镜（TEM）分析 | 第49-51页 |
| 3.3.5 综合分析 | 第51-54页 |
| 3.4 本章小结 | 第54-56页 |
| 第四章 纳米多孔Mo薄膜的析氢电催化表征及表面电镀Pt工艺的研究 | 第56-68页 |
| 4.1 引言 | 第56页 |
| 4.2 电化学测试方法 | 第56-57页 |
| 4.3 电化学性能测试 | 第57-60页 |
| 4.4 纳米多孔Mo薄膜表面电镀Pt工艺的研究 | 第60-67页 |
| 4.4.1 纳米多孔Mo薄膜表面直流电镀Pt | 第60-61页 |
| 4.4.2 镀Pt后纳米多孔Mo薄膜显微结构表征 | 第61页 |
| 4.4.3 结果与讨论 | 第61-67页 |
| 4.5 本章小结 | 第67-68页 |
| 第五章 全文结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-77页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
