| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 空间环境 | 第10页 |
| 1.2 免疫荧光技术 | 第10-11页 |
| 1.3 微流控技术 | 第11-13页 |
| 1.3.1 微流控芯片 | 第11-13页 |
| 1.3.2 微混合技术 | 第13页 |
| 1.4 免疫磁珠技术 | 第13-14页 |
| 1.5 γ-H2AX免疫荧光检测在急性辐射损伤评估中的应用 | 第14-16页 |
| 1.6 基于辐射生物标志物的在轨监测技术及装置 | 第16-19页 |
| 1.7 本研究的目的及意义 | 第19-20页 |
| 第2章 基于微流控芯片的免疫磁珠与细胞三维混合技术研究 | 第20-30页 |
| 2.1 三维微混合原理 | 第20-23页 |
| 2.2 三维混合装置 | 第23-24页 |
| 2.2.1 微流控芯片 | 第23页 |
| 2.2.2 磁场控制系统 | 第23-24页 |
| 2.3 实验方法和内容 | 第24-27页 |
| 2.3.1 CD4~+T淋巴细胞的培养 | 第24页 |
| 2.3.2 免疫磁珠处理 | 第24-25页 |
| 2.3.3 微流控芯片上CD4~+T淋巴细胞和免疫磁珠三维混合 | 第25-27页 |
| 2.4 结果 | 第27-29页 |
| 2.4.1 显微镜下免疫磁珠与CD4~+T淋巴细胞结合状态图 | 第27页 |
| 2.4.2 免疫磁珠大小和浓度对CD4~+T淋巴细胞与免疫磁珠结合的影响 | 第27-29页 |
| 2.5 本章小结 | 第29-30页 |
| 第3章 用于细胞自动免疫荧光标记的便携式微流控装置研究 | 第30-44页 |
| 3.1 微流控芯片细胞自动免疫荧光标记技术 | 第30-32页 |
| 3.1.1 微流控芯片设计 | 第30-31页 |
| 3.1.2 微流控芯片操作方法 | 第31-32页 |
| 3.2 细胞自动免疫荧光标记微流控装置设计与构建 | 第32-40页 |
| 3.2.1 免疫磁珠三维混合模块 | 第33-34页 |
| 3.2.2 免疫磁珠自动控制模块 | 第34页 |
| 3.2.3 步进电机及其驱动 | 第34-36页 |
| 3.2.4 装置控制程序 | 第36-37页 |
| 3.2.5 细胞自动免疫荧光标记微流控装置 | 第37-40页 |
| 3.3 细胞自动免疫荧光标记微流控装置自动运行验证 | 第40-42页 |
| 3.3.1 CD4~+T细胞的培养 | 第40页 |
| 3.3.2 免疫磁珠处理 | 第40-41页 |
| 3.3.3 CD4~+T淋巴细胞回收实验 | 第41-42页 |
| 3.4 结果 | 第42-43页 |
| 3.4.1 免疫磁珠运动过程 | 第42-43页 |
| 3.4.2 CD4~+T淋巴细胞回收率 | 第43页 |
| 3.5 本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 验证细胞自动免疫荧光标记微流控装置监测辐射损伤的灵敏度 | 第44-54页 |
| 4.1 实验材料 | 第44页 |
| 4.2 实验方法 | 第44-51页 |
| 4.2.1 试剂配制 | 第44-45页 |
| 4.2.2 免疫磁珠处理 | 第45页 |
| 4.2.3 CD4~+T淋巴细胞处理 | 第45-46页 |
| 4.2.4 UVC辐射引起CD4~+T淋巴死亡率测定 | 第46-47页 |
| 4.2.5 微流控芯片上荧光抗体剂量确定 | 第47-48页 |
| 4.2.6 CD4~+T淋巴细胞辐射剂量-效应关系测定 | 第48-51页 |
| 4.3 结果 | 第51-53页 |
| 4.3.1 UVC辐射引起CD4~+T淋巴细胞死亡情况 | 第51页 |
| 4.3.2 微流控芯片上荧光抗体剂量的确定 | 第51-52页 |
| 4.3.3 CD4~+T淋巴细胞辐射剂量-效应关系 | 第52-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 附录A 机械结构设计 | 第59-63页 |
| 附录B 旋转步进电机运动程序 | 第63-69页 |
| 附录C 芯片位置控制步进电机运动程序 | 第69-76页 |
| 附录D 永磁铁位置控制步进电机运动程序 | 第76-85页 |
| 攻读学位期间公开发表论文 | 第85-86页 |
| 国家发明专利 | 第85-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
| 作者简介 | 第87页 |
