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硅基阻挡杂质带红外探测器研制及其光电特性研究

致谢第1-6页
中文摘要第6-8页
Abstract第8-13页
第一章 绪论第13-25页
 §1.1 红外天文学发展概述第13-15页
 §1.2 天文用红外探测器概述第15-19页
 §1.3 阻挡杂质带红外探测器概述第19-23页
     ·非本征红外探测器第19-21页
     ·非本征红外探测器的升级第21-23页
 §1.4 本论文的研究目的和主要内容第23-25页
第二章 阻挡杂质带探测器器件物理基础第25-41页
 §2.1 BIB器件结构第25-26页
 §2.2 BIB器件物理模型第26-40页
     ·BIB器件中载流子的统计分布第26-29页
     ·BIB器件的电场分布第29-33页
     ·光照时BIB器件工作原理第33-40页
 §2.3 本章小结第40-41页
第三章离子注入型阻挡杂质带探测器第41-57页
 §3.1 离子注入第41-42页
 §3.2 器件制备工艺第42-45页
 §3.3 器件性能参数测试与分析第45-49页
     ·黑体响应率第45-47页
     ·暗电流第47-48页
     ·探测率第48-49页
 §3.4 光电流谱第49-56页
     ·傅里叶红外光谱仪第49-50页
     ·光电流响应谱测量原理第50-52页
     ·微弱信号提取技巧第52-53页
     ·光电流谱指认第53-56页
 §3.5 本章小结第56-57页
第四章外延型阻挡杂质带红外探测器第57-73页
 §4.1 硅的外延第57-58页
 §4.2 材料生长第58-59页
 §4.3 器件工艺第59-60页
 §4.4 器件测试与分析第60-68页
     ·黑体响应率及噪声第60-61页
     ·光电流响应谱第61-63页
     ·暗电流第63-65页
     ·探测率第65-68页
 §4.5 补偿杂质浓度的提取第68-72页
 §4.6 本章小结第72-73页
第五章阻挡杂质带探测器中的界面势垒效应第73-87页
 §5.1 器件结构和测试手段第73-74页
 §5.2 界面势垒的证明第74-78页
     ·界面势垒的提出第74-76页
     ·界面势垒的实验证据第76-78页
 §5.3 双激发工作模型第78-81页
 §5.4 拓展模式的隧穿特性和热离化特性第81-83页
 §5.5 界面势垒效应对器件性能的影响第83-85页
 §5.6 本章小结第85-87页
第六章总结与展望第87-91页
 §6.1 本论文工作总结第87-88页
 §6.2 不足与展望第88-91页
     ·工作中的不足第88-89页
     ·展望第89-91页
参考文献第91-101页
作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果第101-102页

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