摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-23页 |
·引言 | 第9页 |
·MPC合成工艺简介 | 第9-16页 |
·苯胺氧化羰基化法 | 第10页 |
·氨基甲酸酯法 | 第10-11页 |
·Hofmann重排法 | 第11-12页 |
·二苯基脲醇解法 | 第12页 |
·硝基苯还原羰基化法 | 第12-13页 |
·苯基脲醇解法 | 第13页 |
·尿素法 | 第13-14页 |
·碳酸二甲酯胺解法 | 第14-15页 |
·碳酸二甲酯法和二苯基脲法的耦合法(简称反应耦合法) | 第15页 |
·CO_2一步合成MPC | 第15-16页 |
·CO_2一步合成MPC的研究现状 | 第16-20页 |
·原料以及目的产物 | 第16-17页 |
·CO_2一步合成MPC的研究进展 | 第17-20页 |
·CeO_2的性质与制备 | 第20-22页 |
·CeO_2的结构和性质 | 第20页 |
·CeO_2的合成方法 | 第20-22页 |
·本文的研究内容 | 第22-23页 |
·本论文解决的关键问题 | 第22页 |
·本论文的主要研究内容 | 第22-23页 |
第二章 实验部分 | 第23-33页 |
·化学原料与试剂 | 第23-24页 |
·化学试剂 | 第23-24页 |
·实验仪器 | 第24页 |
·实验仪器 | 第24页 |
·催化剂的制备 | 第24-26页 |
·CeO_2-ZrO_2催化剂的制备 | 第24-25页 |
·K_2O- CeO_2催化剂的制备 | 第25页 |
·ZrO_2/SiO_2催化剂的制备 | 第25页 |
·脱水剂CaCl_2/4A的制备 | 第25-26页 |
·催化剂的表征 | 第26页 |
·X射线衍射分析(XRD) | 第26页 |
·CO_2程序升温脱附(CO_2-TPD) | 第26页 |
·催化剂的活性评价 | 第26-27页 |
·产物分析及计算方法 | 第27-28页 |
·产物的定性分析 | 第27页 |
·产物的定量分析 | 第27-28页 |
·试剂的准备 | 第28页 |
·数据处理 | 第28-29页 |
·标准曲线的建立 | 第29-33页 |
第三章 CeO_2-ZrO_2+4A分子筛的催化体系中苯氨基甲酸甲酯的一步合成 | 第33-49页 |
·前言 | 第33-34页 |
·催化剂的筛选 | 第34-35页 |
·反应路线的确定 | 第35-36页 |
·以 4A分子筛为脱水剂对MPC合成反应的影响 | 第36-37页 |
·脱水剂对合成MPC的影响 | 第36页 |
·脱水剂用量对MPC合成反应的影响 | 第36-37页 |
·催化剂制备条件的影响 | 第37-41页 |
·n_(Ce):n_(Zr)对催化剂的催化效果影响 | 第37-39页 |
·焙烧温度对催化剂的催化效果的影响 | 第39-41页 |
·反应条件的优化 | 第41-44页 |
·反应温度对反应的影响 | 第41-42页 |
·反应初始压力对反应的影响 | 第42页 |
·反应时间对反应的影响 | 第42-43页 |
·甲醇与苯胺的摩尔比对合成MPC的影响 | 第43-44页 |
·脱水剂的改进 | 第44-46页 |
·不同脱水剂对MPC合成反应的影响 | 第44-45页 |
·不同质量比所做的CaCl_2/4A的脱水效果 | 第45-46页 |
·焙烧温度对脱水剂的影响 | 第46页 |
·小结 | 第46-49页 |
第四章 K_2O-CeO_2+CaCl_2/4A的催化体系中苯氨基甲酸甲酯的一步合成 | 第49-61页 |
·引言 | 第49页 |
·CeO_2改性对DMC合成的影响 | 第49-51页 |
·K_2O-CeO_2+ZrO_2/SiO_2催化合成MPC | 第51-52页 |
·铈钾摩尔比(n_(Ce):n_K)对K_2O-CeO_2催化性能的影响 | 第52-54页 |
·催化剂焙烧温度对合成MPC的影响 | 第54-57页 |
·催化剂用量对合成MPC的影响 | 第57-58页 |
·锆硅用量优化 | 第58页 |
·小结 | 第58-61页 |
第五章 结论 | 第61-63页 |
参考文献 | 第63-69页 |
攻读学位期间所取得的相关科研成果 | 第69-71页 |
致谢 | 第71-72页 |