新型硅正、硅负离子化合物的合成及性能研究

致谢	第1-5页
摘要	第5-6页
Abstract	第6-8页
第一章 序言	第8-20页
·引言	第8-20页
·R3Si~+固相中稳定性	第8-10页
·R3Si~+溶液中稳定性	第10-11页
·阴离子的类型及反应	第11-12页
·合成硅正离子的方法	第12-16页
·参考文献	第16-20页
第二章 新型硅正离子的合成及研究	第20-50页
·引言	第20-22页
·阴离子的类型	第20-21页
·三苯碳四(全氟苯基)硼烷盐衍生物	第21页
·碳硼烷阴离子	第21-22页
·结果与讨论	第22-35页
·实验及谱图	第35-48页
·参考文献	第48-50页
第三章 新型硅负离子的合成及活性研究	第50-74页
·引言	第50-56页
·硅与碱金属的取代反应	第50页
·硅与碱金属的加成反应	第50-51页
·硅钾双负离子的活性反应	第51-53页
·本文的立题依据	第53-56页
·结果与讨论	第56-63页
·小结	第62-63页
·实验及谱图	第63-72页
·实验条件，方法及所用仪器设备	第63-64页
·化合物的合成	第64-72页
·参考文献	第72-74页
第四章 新型锡配体的合成研究	第74-86页
·引言	第74-77页
·结果与讨论	第77-81页
·实验谱图	第81-85页
·参考文献	第85-86页
个人简介及硕士期间工作成果	第86页