| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 主要缩写词的中英文对照表 | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| ·有机电致发光器件 | 第9-11页 |
| ·单层结构 | 第9页 |
| ·双层结构 | 第9页 |
| ·三层结构 | 第9-10页 |
| ·多层结构 | 第10页 |
| ·发光原理 | 第10-11页 |
| ·有机电致发光材料 | 第11-16页 |
| ·载流子传输材料 | 第11-13页 |
| ·有机发光材料 | 第13-16页 |
| ·研究意义 | 第16-17页 |
| 第二章 实验部分 | 第17-32页 |
| ·试剂与仪器 | 第17-18页 |
| ·主要原料及试剂 | 第17-18页 |
| ·分析及测试仪器 | 第18页 |
| ·合成路线 | 第18-21页 |
| ·中间体及目标化合物的合成 | 第21-32页 |
| ·甲苯的精制 | 第21-22页 |
| ·二(4'-甲基苯基)-二甲基硅烷的合成 | 第22页 |
| ·二(4'-甲酸苯基)-二甲基硅烷的合成 | 第22-23页 |
| ·二(4'-甲酸甲酯基苯基)-二甲基硅烷的合成 | 第23页 |
| ·二(4'-甲酰肼基苯基)-二甲基硅烷的合成 | 第23-24页 |
| ·6-羟基2萘甲酸乙酯的合成 | 第24页 |
| ·6-烷氧基2萘甲酸乙酯的合成 | 第24-25页 |
| ·4'-羟基4联苯甲酸甲酯的合成 | 第25页 |
| ·4'-烷氧基4联苯甲酸的合成 | 第25页 |
| ·4-烷氧基苯甲醛的合成 | 第25-26页 |
| ·目标物化合物Si-N-OXD的合成 | 第26-27页 |
| ·目标物化合物Si-N-OXD 1-3 的合成 | 第27-28页 |
| ·目标物化合物Si-BP-OXD 1-3 的合成 | 第28-30页 |
| ·目标物化合物Si-Hydrazone1-3 的合成 | 第30-32页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第32-60页 |
| ·目标化合物合成路线的探讨 | 第32页 |
| ·重要中间体化合物的结构表征 | 第32-37页 |
| ·二(4'-甲酸甲酯基苯基)-二甲基硅烷的核磁共振谱图分析 | 第32-34页 |
| ·二(4'-甲酰肼基苯基)-二甲基硅烷的核磁共振谱图分析 | 第34-35页 |
| ·二(4'-甲酰肼基苯基)-二甲基硅烷的单晶培养与结构测定 | 第35-37页 |
| ·目标化合物Si-N-OXD系列的结构及性能表征 | 第37-44页 |
| ·目标化合物Si-N-OXD系列的核磁共振谱图分析 | 第37-41页 |
| ·目标化合物Si-N-OXD系列的紫外-可见吸收光谱分析 | 第41-42页 |
| ·目标化合物Si-N-OXD系列的荧光光谱分析 | 第42-43页 |
| ·目标化合物Si-N-OXD系列的荧光量子产率测定 | 第43页 |
| ·目标化合物Si-N-OXD系列的热稳定性研究 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44页 |
| ·目标化合物Si-BP-OXD 1-3 的结构及性能表征 | 第44-51页 |
| ·目标化合物Si-BP-OXD 1-3 的核磁共振谱图分析 | 第44-48页 |
| ·目标化合物Si-BP-OXD 1-3 的紫外-可见吸收光谱分析 | 第48-49页 |
| ·目标化合物Si-BP-OXD 1-3 的荧光光谱分析 | 第49-50页 |
| ·目标化合物Si-BP-OXD 1-3 的荧光量子产率测定 | 第50-51页 |
| ·目标化合物Si-BP-OXD 1-3 的热稳定性研究 | 第51页 |
| ·小结 | 第51页 |
| ·目标化合物Si-Hydrazone 1-3 的结构及性能表征 | 第51-60页 |
| ·目标化合物Si-Hydrazone 1-3 的核磁共振谱图分析 | 第51-55页 |
| ·目标化合物Si-Hydrazone 1-3 的紫外-可见吸收光谱分析 | 第55-56页 |
| ·目标化合物Si-Hydrazone 1-3 的荧光光谱分析 | 第56-57页 |
| ·目标化合物Si-Hydrazone 1-3 的荧光量子产率测定 | 第57-58页 |
| ·目标化合物Si-Hydrazone 1-3 的热稳定性研究 | 第58-59页 |
| ·小结 | 第59-60页 |
| 第四章 结论 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 作者简介 | 第66页 |
| 攻读硕士学位期间研究成果 | 第66页 |
