涂硼稻草管中子探测器若干问题的理论模拟与实验测试
摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-9页 |
主要符号对照表 | 第9-10页 |
第1章 引言 | 第10-17页 |
·选题背景 | 第10-13页 |
·~3He 的短缺 | 第10-12页 |
·替代~3He 的中子探测器研究概况 | 第12-13页 |
·涂硼稻草管中子探测器国内外研究进展 | 第13-15页 |
·涂硼探测器的研究情况 | 第13页 |
·涂硼稻草管探测器国内外研究进展 | 第13-15页 |
·课题研究内容与论文结构安排 | 第15-17页 |
·课题研究内容及应用前景 | 第15页 |
·论文的结构安排 | 第15-17页 |
第2章 涂硼稻草管探测效率的物理分析及模拟 | 第17-35页 |
·涂硼稻草管中子探测器的物理模型 | 第17-18页 |
·中子探测原理 | 第18-19页 |
·影响中子探测效率的重要参数 | 第19-21页 |
·研究方法 | 第21-25页 |
·MCNP 蒙特模拟中子吸收 | 第22页 |
·SRIM 模拟带电粒子射程 | 第22-25页 |
·问题难点 | 第25-26页 |
·涂硼稻草管热中子探测效率研究 | 第26-34页 |
·单管探测效率 | 第26页 |
·探测器阵列效率 | 第26-29页 |
·多排稻草管阵列探测器散射率 | 第29-34页 |
·本章小结 | 第34-35页 |
第3章 涂硼稻草管能量沉积谱的模拟研究 | 第35-56页 |
·带电粒子能量损失原理 | 第35-37页 |
·中子反应能量沉积过程 | 第37-38页 |
·带电粒子路径计算模型 | 第38-39页 |
·研究方法 | 第39-47页 |
·带电粒子产生及出射 | 第39-40页 |
·基础能量沉积谱 | 第40-44页 |
·能谱插值方法 | 第44-47页 |
·模拟结果 | 第47-55页 |
·中子能量沉积谱 | 第47-53页 |
·伽马能量沉积谱 | 第53-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
第4章 涂硼稻草管的工艺实现 | 第56-65页 |
·稻草管镀膜方法 | 第56-62页 |
·电子束蒸发镀 B_4C 薄膜 | 第56-57页 |
·大面积镀 B_4C | 第57-58页 |
·B_4C 厚度测量 | 第58-59页 |
·B_4C 厚度均匀性 | 第59-62页 |
·单根稻草管的制管及封装 | 第62-64页 |
·本章小结 | 第64-65页 |
第5章 涂硼稻草管探测效率测试 | 第65-81页 |
·实验原理 | 第65-67页 |
·实验系统 | 第67-71页 |
·中子源 | 第67页 |
·~3He 管与涂硼稻草管 | 第67-68页 |
·准直器与屏蔽体设计 | 第68-71页 |
·实验结果 | 第71-79页 |
·本底测量 | 第71-72页 |
·信号测量 | 第72-74页 |
·探测效率计算 | 第74-76页 |
·中子计数修正 | 第76-79页 |
·探测效率计算修正 | 第79页 |
·本章小结 | 第79-81页 |
第6章 涂硼稻草管位置分辨测试 | 第81-93页 |
·实验系统 | 第81-84页 |
·中子源 | 第81-82页 |
·平移台及其控制系统 | 第82页 |
·待测涂硼中子探测器 | 第82-83页 |
·工作气体 | 第83-84页 |
·电子学模块 | 第84页 |
·实验结果 | 第84-91页 |
·工作气体对位置分辨的影响 | 第84-86页 |
·工作电压对位置分辨的影响 | 第86-91页 |
·稻草管探测器的一致性研究 | 第91页 |
·本章小结 | 第91-93页 |
第7章 总结与展望 | 第93-95页 |
·总结 | 第93-94页 |
·展望 | 第94-95页 |
参考文献 | 第95-97页 |
致谢 | 第97-99页 |
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第99页 |