| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 目录 | 第10-13页 |
| 第一章 前言 | 第13-23页 |
| ·引言 | 第13页 |
| ·光刻工艺过程 | 第13-14页 |
| ·光刻胶的成膜方式 | 第14-18页 |
| ·旋转涂膜 | 第14-15页 |
| ·自组装膜(Self-assembled Membranes,SAMs) | 第15-16页 |
| ·Langmuir-Blodgett(LB)膜 | 第16-18页 |
| ·单分子膜在气液界面上的形成 | 第16-17页 |
| ·Langmuir膜的沉积 | 第17-18页 |
| ·光刻过程所应用的光源 | 第18-19页 |
| ·光致抗蚀剂 | 第19-20页 |
| ·小结及课题的提出 | 第20-23页 |
| 第二章 实验部分 | 第23-30页 |
| ·仪器与试剂 | 第23-24页 |
| ·248NM光致抗蚀剂的合成 | 第24-28页 |
| ·合成路线 | 第24-25页 |
| ·甲基丙烯酰氯的合成 | 第25页 |
| ·合成长链烷基丙烯酰胺 | 第25页 |
| ·烯丙基丙二酸二乙酯的合成 | 第25-26页 |
| ·烯丙基丙二酸的合成 | 第26页 |
| ·烯丙基丙二酰氯的合成 | 第26页 |
| ·烯丙基丙二酸二-1-金刚烷甲酯(DAdMAMA)的合成 | 第26页 |
| ·烯丙基丙二酸二环己基甲酯(DCyMAMA)的合成 | 第26-27页 |
| ·甲基丙烯酸-1-金刚烷甲酯(AdMMA)的合成 | 第27页 |
| ·甲基丙烯酸环己基甲酯(CyMMA)的合成 | 第27-28页 |
| ·甲基丙烯酸薄荷基酯(MeMMA)的合成 | 第28页 |
| ·光敏组分与成膜组分自由基共聚 | 第28页 |
| ·基片的处理 | 第28-29页 |
| ·п-A曲线和LB膜的制备 | 第29-30页 |
| 第三章 结果和讨论 | 第30-58页 |
| ·共聚物P(HDMA-DADMAMA)S[H2A]的性质研究 | 第30-37页 |
| ·共聚物p(HDMA-DAdMAMA)s的表征 | 第30页 |
| ·共聚物p(HDMA-DAdMAMA)s成膜性能 | 第30-31页 |
| ·成膜条件的选择与优化 | 第31页 |
| ·Langmuir膜的转移性能研究 | 第31-32页 |
| ·LB膜表面形态研究 | 第32-33页 |
| ·共聚物p(HDMA-DAdMAMA)s LB膜的光刻实验 | 第33-34页 |
| ·h2a20 LB膜的抗刻蚀性能研究 | 第34页 |
| ·h2a20 LB膜光刻机理研究 | 第34-37页 |
| ·h2a20 LB膜在248nm紫外灯曝光不同时间的紫外吸收(UV-vis)变化 | 第35页 |
| ·h2a20在248nm紫外灯下曝光的GPC变化 | 第35-36页 |
| ·h2a20曝光不同时间的红外分析 | 第36页 |
| ·h2a20的TG-DSC分析 | 第36-37页 |
| ·h2a20的光分解机理推测 | 第37页 |
| ·共聚物(P(DDMA-DADMAMA)S)[D2A]性质研究 | 第37-39页 |
| ·共聚物(P(DDMA-DAdMAMA)S)的表征 | 第37-38页 |
| ·共聚物d2a在空气/水界面上的行为研究 | 第38-39页 |
| ·共聚物P(HDMA-ADMMA)S[H1A]的性质 | 第39-46页 |
| ·h1a系列共聚物的表征 | 第39-40页 |
| ·共聚物在空气/水界面上的行为研究 | 第40页 |
| ·h1a成膜条件的优化与选择 | 第40-41页 |
| ·h1a40成膜性能研究 | 第41-42页 |
| ·LB膜表面形态研究 | 第42-43页 |
| ·LB膜光刻性能研究 | 第43-44页 |
| ·LB膜光分解性质分析 | 第44-45页 |
| ·248nm紫外光源照射下h1a40 LB膜的红外吸收变化 | 第44页 |
| ·h1a40曝光前后的GPC变化 | 第44-45页 |
| ·h1a40的TG-DSC图 | 第45页 |
| ·光分解机理推测 | 第45-46页 |
| ·共聚物DDMA-ADMMA[D1A]的性质研究 | 第46-47页 |
| ·共聚物p(DDMA-AdMMA)s的表征 | 第46页 |
| ·共聚物在气/液界面上的行为研究 | 第46-47页 |
| ·d1a30成膜条件的优化与选择 | 第47页 |
| ·P(HDMA-DCYMAMA)S[H2D]共聚物的性质 | 第47-54页 |
| ·共聚物p(HDMA-DCyMAMA)s的表征 | 第47-48页 |
| ·共聚物p(HDMA-DCyMAMA)s成LB膜性能 | 第48-49页 |
| ·共聚物h2d30的成膜条件的选择与优化 | 第49-50页 |
| ·LB膜表面形态研究 | 第50页 |
| ·LB膜光刻性能的研究 | 第50-51页 |
| ·光致抗蚀剂抗蚀性能研究 | 第51页 |
| ·光致抗蚀剂光分解机理研究 | 第51-53页 |
| ·248nm紫外光源照射下h2d30LB膜的紫外光谱变化 | 第51-52页 |
| ·248nm紫外光源照射下h2d30LB膜的傅里叶红外光谱(FT-IR)变化 | 第52页 |
| ·248nm紫外光源照射下h2d30LB膜的GPC变化 | 第52-53页 |
| ·h2d30的TG-DSC分析 | 第53页 |
| ·h2d30光分解机理的推测 | 第53-54页 |
| ·共聚物P(DDMA-CYMMA)S[D1D]的性质 | 第54-55页 |
| ·共聚物P(DDMA-CyMMA)s的表征 | 第54页 |
| ·d1d系列共聚物在气液界面上的行为研究 | 第54-55页 |
| ·共聚物d1d成膜条件的选择与优化 | 第55页 |
| ·共聚物P(HDMA-MEMMA)S[H1E]的性质 | 第55-58页 |
| ·h1e系列共聚物的表征 | 第56页 |
| ·h1e系列共聚物的成膜性质 | 第56页 |
| ·h1e系列四种共聚物的Es-π曲线 | 第56-58页 |
| 第四章 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 附图 | 第64-70页 |
| 硕士期间发表文章(2010-2013) | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
