摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-16页 |
第1章 绪论 | 第16-42页 |
·研究背景 | 第16-30页 |
·有机半导体晶体光电特性 | 第17-22页 |
·有机半导体激光器 | 第22-29页 |
·有机半导体中的光增益 | 第22-25页 |
·常见的激光谐振腔 | 第25-29页 |
·双光子吸收与频率上转换发射 | 第29-30页 |
·有机晶体激光的研究进展 | 第30-39页 |
·有机激光晶体材料 | 第30-35页 |
·有机晶体激光特性研究 | 第35-39页 |
·本论文研究思路 | 第39-42页 |
·主要问题分析 | 第39-40页 |
·研究目的和研究思想 | 第40页 |
·论文主要研究内容 | 第40-42页 |
第2章 高质量有机晶体材料的生长制备 | 第42-66页 |
·引言 | 第42-43页 |
·物理气相传输法制备大尺寸有机晶体 | 第43-48页 |
·物理气相传输法生长设备 | 第43-44页 |
·有机单晶的缓释调控生长 | 第44-46页 |
·有机晶体结构形貌表征 | 第46-48页 |
·掺杂的有机晶体制备 | 第48-58页 |
·掺杂的有机晶体制备 | 第49-50页 |
·掺杂晶体的光学性质和结构表征 | 第50-54页 |
·掺杂晶体主客体间的能量传递 | 第54-58页 |
·溶液法制备有机晶体 | 第58-64页 |
·溶剂扩散生长有机晶体 | 第58-62页 |
·温度梯度液相外延生长晶体 | 第62-64页 |
·本章小结 | 第64-66页 |
第3章 晶体中的双光子荧光与放大自发辐射 | 第66-104页 |
·引言 | 第66页 |
·DSA 衍生物晶体的双光子荧光和放大自发辐射 | 第66-73页 |
·DSA 衍生物晶体材料 | 第67-68页 |
·DSA 晶体材料的发光性质 | 第68-69页 |
·DSA 衍生物材料的双光子吸收特性 | 第69-71页 |
·DSA 晶体材料的放大自发辐射特性 | 第71-73页 |
·氰基取代苯乙烯齐聚物的双光子荧光和放大自发辐射 | 第73-85页 |
·材料的双光子吸收特性 | 第73-75页 |
·晶体中的吸收和荧光性质 | 第75-79页 |
·双光子激发的上转换放大自发辐射性质 | 第79-83页 |
·单光子和双光子放大自发辐射性质的比较 | 第83-85页 |
·晶体中的单光子和双光子性质的偏振特性 | 第85-92页 |
·单轴取向的晶体结构特征 | 第85-86页 |
·高度偏振的双光子荧光发射 | 第86-90页 |
·单光子和双光子吸收与晶体结构的关系 | 第90-92页 |
·晶体中放大自发辐射激发波长的依赖性质 | 第92-96页 |
·ASE 的峰位漂移现象 | 第93-94页 |
·ASE 斯托克斯位移 | 第94-95页 |
·不同激发波长下的激射阈值 | 第95-96页 |
·双光子激发的上转换荧光动力学 | 第96-102页 |
·上转换荧光动力学测试原理与系统 | 第96-98页 |
·上转换荧光动力学的激发功率依赖关系 | 第98-101页 |
·泵浦长度对上转换荧光动力学的影响 | 第101-102页 |
·本章小结 | 第102-104页 |
第4章 有机晶体的激光微纳加工与器件应用 | 第104-136页 |
·引言 | 第104页 |
·有机晶体双光束相干直接刻蚀 | 第104-112页 |
·双光束干涉加工系统 | 第104-106页 |
·双光束激光相干直接刻蚀 BSB-Me 晶体及其形貌表征 | 第106-110页 |
·结合晶体结构分析干涉加工形貌特征 | 第110-112页 |
·基于有机晶体的分布式反馈(DFB)激光器 | 第112-117页 |
·有机晶体 DFB 结构的加工与设计 | 第112-114页 |
·有机晶体 DFB 激光器性质的表征 | 第114-117页 |
·基于超薄有机晶体的柔性 DFB 激光器 | 第117-125页 |
·波导光栅 DFB 激光器结构的提出 | 第117-119页 |
·波导光栅 DFB 激光器结构的制备与性质研究 | 第119-123页 |
·柔性晶体 DFB 激光器的机械和稳定特性 | 第123-125页 |
·有机晶体微结构飞秒激光直写刻蚀加工 | 第125-128页 |
·有机晶体飞秒激光加工参数的探索 | 第125-126页 |
·有机晶体复杂图案的激光加工 | 第126-128页 |
·飞秒激光器加工有机微纳晶体结构的研究 | 第128-134页 |
·飞秒激光微纳晶体加工系统与加工参数的优化 | 第128-131页 |
·有机微纳晶体的性质表征 | 第131-133页 |
·飞秒激光器加工有机微纳晶体机理的探索 | 第133-134页 |
·本章总结 | 第134-136页 |
第5章 有机晶体回音廊激光器阵列的制备与特性研究 | 第136-154页 |
·引言 | 第136页 |
·有机晶体的微盘阵列的加工制备 | 第136-141页 |
·改进的有机晶体加工工艺 | 第136-138页 |
·有机晶体微盘阵列 | 第138-141页 |
·有机晶体的微盘光谱激射性质的表征 | 第141-152页 |
·有机晶体的微盘表征系统 | 第141-142页 |
·有机晶体的圆盘中的回音廊激射 | 第142-146页 |
·回音廊激射的微盘尺寸和厚度依赖特性 | 第146-150页 |
·溶液中晶体微腔的回音廊激射 | 第150-152页 |
·本章小结 | 第152-154页 |
第6章 熔融制备频率上转换 DBR 微腔激光器 | 第154-166页 |
·引言 | 第154页 |
·DPAVB 的热力学性质 | 第154-156页 |
·DPAVB 材料激发态动力学和双光子特性 | 第156-159页 |
·DBR 微腔制备和激射性质表征 | 第159-165页 |
·DBR 激光器的制备 | 第159-160页 |
·上转换激光激射性质表征 | 第160-164页 |
·上转换激光的超快动力学表征 | 第164-165页 |
·本章小结 | 第165-166页 |
第7章 总结与展望 | 第166-170页 |
参考文献 | 第170-190页 |
作者简介及在学期间所取得的科研成果 | 第190-194页 |
致谢 | 第194页 |