光致抗蚀干膜的制备及性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-29页 |
| ·前言 | 第11-12页 |
| ·抗蚀剂的分类 | 第12-15页 |
| ·紫外光致抗蚀剂 | 第12-13页 |
| ·电子束抗蚀剂 | 第13页 |
| ·X 射线抗蚀剂 | 第13页 |
| ·深紫外抗蚀剂 | 第13-14页 |
| ·离子束抗蚀剂 | 第14页 |
| ·多层抗蚀剂 | 第14-15页 |
| ·无机抗蚀剂 | 第15页 |
| ·光致抗蚀剂的组成 | 第15-21页 |
| ·光引发剂 | 第15-16页 |
| ·活性稀释剂 | 第16-19页 |
| ·非光反应组分 | 第19-21页 |
| ·紫外光固化机理 | 第21-22页 |
| ·光致抗蚀剂的施工工艺 | 第22-24页 |
| ·贴膜 | 第23页 |
| ·曝光、显影 | 第23-24页 |
| ·储存 | 第24页 |
| ·光致抗蚀干膜的发展 | 第24-26页 |
| ·248nm 干膜抗蚀剂 | 第24-25页 |
| ·激基体紫外抗蚀剂 | 第25-26页 |
| ·EUV 干膜抗蚀剂 | 第26页 |
| ·本课题的研究意义、内容和创新点 | 第26-29页 |
| ·本课题的研究意义 | 第26-27页 |
| ·本课题的研究内容 | 第27-28页 |
| ·本课题的创新点 | 第28-29页 |
| 第二章 光致抗蚀剂的性能研究 | 第29-45页 |
| ·前言 | 第29页 |
| ·实验部分 | 第29-33页 |
| ·实验原理 | 第29-30页 |
| ·实验材料 | 第30-31页 |
| ·实验器材 | 第31-32页 |
| ·测试表征 | 第32-33页 |
| ·干膜制备条件的确定 | 第33-36页 |
| ·涂布条件的确定 | 第33-34页 |
| ·干燥条件的确定 | 第34-36页 |
| ·实验结果与讨论 | 第36-41页 |
| ·感光性 | 第36-37页 |
| ·分辨率和粘附性 | 第37-39页 |
| ·显影性 | 第39页 |
| ·覆铜板表面处理对干膜粘附性的影响 | 第39-40页 |
| ·贴膜温度对干膜性能的影响 | 第40-41页 |
| ·结构与表征 | 第41-43页 |
| ·流变性测试 | 第41-42页 |
| ·红外光谱分析 | 第42-43页 |
| ·SEM 分析 | 第43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第三章 光致抗蚀干膜制程的 DOE 设计 | 第45-57页 |
| ·前言 | 第45页 |
| ·实验设计 | 第45-56页 |
| ·中心复合试验设计和分析 | 第45-47页 |
| ·DOE 分析 | 第47-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第四章 与市场产品性能比较 | 第57-62页 |
| ·前言 | 第57页 |
| ·性能比较 | 第57-59页 |
| ·感光性 | 第57-58页 |
| ·分辨率 | 第58-59页 |
| ·粘附性 | 第59页 |
| ·市场分析 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 附件 | 第70页 |
