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化学气相沉积法制备碳纳米管阵列的进一步研究及其应用基础研究

摘要第1-4页
ABSTRACT第4-6页
目录第6-10页
第一章 文献综述第10-25页
   ·碳纳米管简介第10页
   ·碳纳米管制备方法第10-12页
     ·电弧放电法第11页
     ·等离子体法第11页
     ·激光蒸发法第11-12页
     ·化学气相沉积法第12页
   ·碳纳米管生长机理第12-13页
     ·顶部生长机理第12页
     ·底部生长机理第12-13页
   ·碳纳米管阵列简介第13-14页
   ·碳纳米管阵列制备方法第14-16页
     ·模板法第14页
     ·化学气相沉积法第14-16页
   ·影响碳纳米管阵列生长的因素第16-18页
     ·碳源第16-17页
     ·反应温度第17页
     ·催化剂第17-18页
     ·气体流速第18页
   ·碳纳米管阵列生长机理第18页
   ·碳纳米管阵列的应用第18-21页
     ·场发射器件第19页
     ·电极材料第19-20页
     ·传感器第20页
     ·超级电容器第20页
     ·复合材料第20-21页
     ·超双疏性质第21页
     ·红外探测第21页
   ·模拟计算第21-22页
     ·巨正则蒙特卡罗(GCMC)模拟计算第21-22页
     ·CNTAs阴极的结构设计与屏蔽效应的模拟第22页
     ·多尺度量子化学方法模拟第22页
   ·安全问题第22-24页
   ·存在问题及发展方向第24页
   ·本课题主要研究内容及意义第24-25页
第二章 实验第25-31页
   ·实验试剂第25页
   ·实验仪器第25-26页
   ·实验方法第26-27页
     ·配置反应溶液第26页
     ·CVD反应第26-27页
     ·悬浮液稳定性第27页
     ·电导率的测定第27页
   ·反应产物表征第27-31页
     ·扫描电子显微镜(SEM)第27-28页
     ·透射电子显微镜(TEM)第28-29页
     ·高分辨透射电子显微镜(HRTEM)第29页
     ·拉曼光谱(Raman)第29页
     ·X-射线衍射(XRD)第29-30页
     ·热分析(TGA-DSC)第30-31页
第三章 CVD法制备碳纳米管阵列反应的重复性及石英反应管直径的影响第31-49页
   ·CVD法制备CNTAs反应的重复性第31-38页
     ·SEM表征结果与讨论第31-34页
     ·TEM表征结果与讨论第34-38页
     ·TGA-DSC表征结果与讨论第38页
   ·石英反应管直径的影响第38-44页
     ·SEM表征结果与讨论第40-42页
     ·TEM表征结果与讨论第42-44页
   ·XRD表征结果与讨论第44-45页
   ·Raman表征结果与讨论第45-48页
   ·小结第48-49页
第四章 CVD法制备碳纳米管阵列反应的再现性第49-57页
   ·SEM表征结果与讨论第49-51页
   ·TEM 表征结果与讨论第51-54页
   ·TGA-DSC表征结果与讨论第54-55页
   ·XRD表征结果与讨论第55-56页
   ·小结第56-57页
第五章 反应温度与溶剂的影响以及CNTAs生长机理的探讨第57-69页
   ·反应温度的影响第57-59页
     ·反应温度对CNTAs收率和质量的影响第57-58页
     ·反应温度对CNTAs形貌与质量的影响第58页
     ·关于反应温度影响的讨论第58-59页
   ·溶剂的影响第59-66页
     ·SEM表征结果与讨论第59-60页
     ·TEM表征结果与讨论第60页
     ·Raman表征结果与讨论第60-64页
     ·XRD表征结果与讨论第64-65页
     ·TGA-DSC表征结果与讨论第65-66页
     ·关于溶剂影响的讨论第66页
   ·CNTAs生长机理的探讨第66-67页
   ·小结第67-69页
第六章 CNTAs悬浮液的稳定性及其电导率测量第69-74页
   ·CNTAs悬浮液的稳定性第69-72页
   ·CNTAs悬浮液的电导率测量第72页
   ·小结第72-74页
第七章 结论第74-75页
参考文献第75-82页
发表论文和参加科研情况说明第82-83页
附录:论文中的英文缩写与其全称及中文对照表第83-84页
致谢第84页

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