立方AlN薄膜的激光分子束外延生长及其表面演变的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-30页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·氮化铝(AlN)的结构及其特点 | 第12-15页 |
| ·LMBE制备薄膜的生长机理 | 第15-25页 |
| ·薄膜沉积过程 | 第16-17页 |
| ·薄膜的生长模式 | 第17-18页 |
| ·影响薄膜质量的因素 | 第18-25页 |
| ·缓冲层与AlN薄膜的外延生长 | 第25-27页 |
| ·AlN薄膜的光电性能研究 | 第27-29页 |
| ·本论文的研究依据、研究内容以及课题来源 | 第29-30页 |
| 第二章 实验材料和测试方法 | 第30-33页 |
| ·实验材料 | 第30页 |
| ·衬底清洗工艺 | 第30-31页 |
| ·激光分子束外延立方AlN薄膜的工艺 | 第31-32页 |
| ·薄膜测试与分析技术 | 第32-33页 |
| 第三章 衬底温度和脉冲能量对立方AlN薄膜的影响 | 第33-44页 |
| ·衬底温度对AlN薄膜的影响 | 第33-39页 |
| ·衬底温度对AlN薄膜晶体结构的影响 | 第33-35页 |
| ·红外分析 | 第35-37页 |
| ·衬底温度对AlN薄膜表面形貌的影响 | 第37-39页 |
| ·脉冲能量对立方AlN薄膜的影响 | 第39-43页 |
| ·脉冲能量对立方AlN薄膜结晶的影响 | 第39-41页 |
| ·激光能量对表面质量的影响 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 沉积气压和激光频率对立方AlN薄膜的影响 | 第44-61页 |
| ·沉积气压对立方AlN薄膜的影响 | 第44-49页 |
| ·沉积气压对立方AlN薄膜结晶质量的影响 | 第44-47页 |
| ·沉积气压对立方AlN薄膜表面质量的影响 | 第47-49页 |
| ·激光频率对立方AlN薄膜的影响 | 第49-53页 |
| ·激光频率对立方AlN薄膜结晶的影响 | 第49-52页 |
| ·激光频率对立方AlN薄膜表面质量的影响 | 第52-53页 |
| ·c-AlN薄膜的性能研究 | 第53-60页 |
| ·AlN薄膜晶体结构的表征 | 第53-56页 |
| ·c-AlN的性能研究 | 第56-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第五章 立方AlN薄膜的表面演变分析 | 第61-71页 |
| ·MgO(100)衬底的表面形貌分析 | 第61-63页 |
| ·立方AlN薄膜的表面演变 | 第63-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 第六章 结论 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第81页 |
