| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·稀磁半导体 | 第10-12页 |
| ·稀磁半导体的概念 | 第10-11页 |
| ·稀磁半导体的研究进展 | 第11-12页 |
| ·ZnO 及掺杂ZnO | 第12-14页 |
| ·ZnO 的晶体结构 | 第12-13页 |
| ·掺杂ZnO 的光学特性 | 第13页 |
| ·掺杂ZnO 的电学特性 | 第13页 |
| ·掺杂ZnO 的磁学特性 | 第13-14页 |
| ·气敏特性 | 第14页 |
| ·压电特性 | 第14页 |
| ·稀磁半导体中的交换作用 | 第14页 |
| ·选题依据和研究内容 | 第14-16页 |
| ·选题依据 | 第14-15页 |
| ·研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 样品的制备及表征 | 第16-24页 |
| ·Zn_(1-x)Fe_xO 薄膜的制备——磁控溅射法 | 第17-20页 |
| ·设备简介 | 第17-18页 |
| ·溅射室的清洁 | 第18页 |
| ·衬底的清洗 | 第18页 |
| ·实验过程 | 第18-19页 |
| ·磁控溅射法制备Zn_(1-x)Fe_xO 薄膜工艺 | 第19-20页 |
| ·Zn_(1-x)Fe_xO 薄膜的制备——溶胶-凝胶法 | 第20-21页 |
| ·溶液的制备 | 第20-21页 |
| ·清洗基片 | 第21页 |
| ·溶胶-凝胶法制备Zn_(1-x)Fe_xO 薄膜工艺 | 第21页 |
| ·样品的表征 | 第21-23页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第22页 |
| ·X 射线衍射频谱XRD | 第22页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS) | 第22页 |
| ·光致激发谱（PL） | 第22-23页 |
| ·磁性的测量 | 第23页 |
| ·本章小结 | 第23-24页 |
| 第三章 溶胶-凝胶法制备Zn_(1-x)Fe_xO 薄膜实验结果分析 | 第24-33页 |
| ·XRD 分析 | 第24-26页 |
| ·SEM 表面形貌分析 | 第26-27页 |
| ·XPS 价态分析 | 第27-29页 |
| ·Zn_(1-x)Fe_xO 薄膜的PL 分析 | 第29-30页 |
| ·样品磁性分析 | 第30-31页 |
| ·薄膜的磁各向异性 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第四章 磁控溅射法制备Zn_(1-x)Fe_xO 薄膜实验结果分析 | 第33-44页 |
| ·不同掺杂量对Zn_(1-x)Fe_xO 薄膜的影响 | 第33-38页 |
| ·实验参数 | 第33页 |
| ·XRD 分析 | 第33-34页 |
| ·XPS 分析 | 第34-36页 |
| ·磁性的测量 | 第36-38页 |
| ·衬底温度对Zn_(1-x)Fe_xO 薄膜的影响 | 第38-40页 |
| ·实验参数 | 第38页 |
| ·XRD 分析 | 第38-39页 |
| ·衬底温度对Zn_(1-x)Fe_xO 薄膜磁性的影响 | 第39-40页 |
| ·退火氛围对Zn_(1-x)Fe_xO 的影响 | 第40-43页 |
| ·实验参数 | 第40页 |
| ·XRD 分析 | 第40-42页 |
| ·磁性的测量 | 第42页 |
| ·磁性产生的分析 | 第42-43页 |
| ·本章小节 | 第43-44页 |
| 第五章 结论及展望 | 第44-46页 |
| ·结论 | 第44-45页 |
| ·研究中的不足与展望 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-51页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
