| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-16页 |
| 第1章 绪论 | 第16-37页 |
| ·前言 | 第16-17页 |
| ·陶瓷粉体制备方法概况 | 第17-18页 |
| ·机械法 | 第17页 |
| ·合成法 | 第17-18页 |
| ·先驱体转化法 | 第18页 |
| ·有机硅先驱体法制备陶瓷材料研究概况 | 第18-28页 |
| ·有机硅先驱体转化制备陶瓷纤维研究 | 第20-23页 |
| ·有机硅先驱体转化制备陶瓷薄膜研究 | 第23页 |
| ·有机硅先驱体转化制备陶瓷粉体 | 第23-24页 |
| ·有机硅先驱体转化制备块体材料研究 | 第24-26页 |
| ·聚硅氧烷(PSO)转化制备陶瓷材料概况 | 第26-28页 |
| ·新型硅基高温陶瓷的研究概况 | 第28-36页 |
| ·SiCN 陶瓷的研究和性能 | 第28-29页 |
| ·SiBCN 陶瓷的研究和性能 | 第29-33页 |
| ·SiBON 材料的研究概况 | 第33-35页 |
| ·SiBCO 陶瓷的研究和性能 | 第35页 |
| ·其他硅基多元陶瓷的研究性能 | 第35-36页 |
| ·研究目的及主要研究内容 | 第36-37页 |
| 第2章 试验材料及研究方法 | 第37-44页 |
| ·试验用主要原材料及仪器 | 第37-38页 |
| ·SiBONC 先驱体及陶瓷的命名 | 第38页 |
| ·SiBONC 先驱体及陶瓷的制备 | 第38-39页 |
| ·先驱体的合成 | 第38页 |
| ·先驱体的裂解 | 第38页 |
| ·裂解粉末的烧结 | 第38-39页 |
| ·SiBONC 先驱体性质及成分分析 | 第39页 |
| ·红外光谱分析 | 第39页 |
| ·差热-热重分析 | 第39页 |
| ·X-射线光电子能谱分析 | 第39页 |
| ·SiBONC 陶瓷粉体的表征 | 第39-40页 |
| ·粉体的XRD 物相分析 | 第39页 |
| ·X-射线光电子能谱分析 | 第39-40页 |
| ·粉末的透射电镜分析 | 第40页 |
| ·SiBONC 陶瓷的基本性能测试 | 第40-42页 |
| ·密度的测定 | 第40页 |
| ·抗弯强度和弹性模量的测定 | 第40-41页 |
| ·断裂韧性的测定 | 第41页 |
| ·维氏硬度的测定 | 第41-42页 |
| ·SiBONC 陶瓷的组织结构分析 | 第42页 |
| ·陶瓷的XRD 物相分析 | 第42页 |
| ·X-射线光电子能谱分析 | 第42页 |
| ·表面和断口的扫描电镜分析 | 第42页 |
| ·微区元素的能谱分析 | 第42页 |
| ·陶瓷的透射电镜分析 | 第42页 |
| ·SiBONC 陶瓷的热稳定性研究 | 第42-44页 |
| ·热稳定性研究的试验设备及方法 | 第42-43页 |
| ·XRD 物相分析 | 第43页 |
| ·表面的扫描电镜分析 | 第43页 |
| ·微区元素的能谱分析 | 第43-44页 |
| 第3章 SiBONC 先驱体聚合物的合成 | 第44-63页 |
| ·SiBONC 陶瓷分子设计 | 第44-45页 |
| ·SiBONC 陶瓷微观分子结构 | 第44页 |
| ·先驱体的选择条件 | 第44-45页 |
| ·以四氯化硅为硅源先驱体的制备 | 第45-53页 |
| ·氯聚硅氧烷的形成机理及性质 | 第46-49页 |
| ·含硼化合物的合成 | 第49-50页 |
| ·溶剂的选择 | 第50页 |
| ·有机先驱体聚合物的合成 | 第50-53页 |
| ·以含氢甲基硅油为硅源的先驱体的制备 | 第53-58页 |
| ·反应物的配比及用量的确定 | 第55-56页 |
| ·含氢甲基硅油为硅源的先驱体合成 | 第56-58页 |
| ·先驱体聚合机理和分子结构的推断 | 第58-61页 |
| ·小结 | 第61-63页 |
| 第4章 SiBONC 先驱体聚合物的裂解及粉体表征 | 第63-83页 |
| ·从四氯化硅合成的先驱体的裂解过程和产物结构 | 第63-72页 |
| ·SiBONC 先驱体粉末裂解工艺 | 第63-67页 |
| ·SiBONC 先驱体粉末的XPS 分析 | 第67-70页 |
| ·SiBONC 陶瓷粉体透射电镜分析 | 第70-71页 |
| ·SiBONC 陶瓷粉体的TG-DTA 分析 | 第71-72页 |
| ·以HPSO 为硅源的先驱体的裂解过程和产物结构 | 第72-78页 |
| ·SiBONC 先驱体的裂解过程 | 第72-77页 |
| ·SiBONC 陶瓷粉体的透射电镜分析 | 第77-78页 |
| ·SiBONC 陶瓷粉体的成分分析 | 第78页 |
| ·裂解机理 | 第78-81页 |
| ·小结 | 第81-83页 |
| 第5章 SiBONC 陶瓷的组织结构及性能 | 第83-105页 |
| ·SiBONC 陶瓷的化学结构分析 | 第83-90页 |
| ·SiBONC 陶瓷的红外光谱分析 | 第83-85页 |
| ·SiBONC 陶瓷的XRD 分析 | 第85-87页 |
| ·SiBONC 陶瓷的XPS 分析 | 第87-90页 |
| ·SiBONC 陶瓷的显微组织 | 第90-99页 |
| ·SiBONC 陶瓷表面的扫描电镜分析 | 第90-93页 |
| ·SiBONC 陶瓷断口形貌的扫描电镜分析 | 第93-94页 |
| ·SiBONC 陶瓷的透射电镜分析 | 第94-99页 |
| ·SiBONC 陶瓷的力学性能 | 第99-102页 |
| ·维氏硬度和弹性模量 | 第100-101页 |
| ·抗弯强度和断裂韧性 | 第101-102页 |
| ·SiBONC 陶瓷中纳米纤维的生成机理分析 | 第102-104页 |
| ·小结 | 第104-105页 |
| 第6章 SiBONC 陶瓷的高温稳定性 | 第105-119页 |
| ·SiBONC 陶瓷的结构和力学性能的稳定性 | 第105-112页 |
| ·材料块体热处理后的力学性能及质量损失 | 第105-106页 |
| ·材料化学结构变化 | 第106-111页 |
| ·SiBONC 陶瓷热处理前后微观组织的变化 | 第111-112页 |
| ·SiBONC 陶瓷的析晶机理及高温热分解机理 | 第112-117页 |
| ·SiBONC 陶瓷的析晶机理 | 第112-115页 |
| ·SiBONC 陶瓷的分解机理 | 第115-117页 |
| ·小结 | 第117-119页 |
| 第7章 SiBONC 陶瓷中自生长SiC 纳米线的初步研究 | 第119-133页 |
| ·碳化硅纳米线的制备工艺 | 第119-121页 |
| ·碳化硅纳米线的光谱分析 | 第121-122页 |
| ·碳化硅纳米线的XRD 分析 | 第121页 |
| ·碳化硅纳米线的红外光谱分析 | 第121-122页 |
| ·碳化硅纳米线的电镜分析 | 第122-130页 |
| ·碳化硅纳米线的扫描电镜分析 | 第122-126页 |
| ·碳化硅纳米线的透射电镜分析 | 第126-128页 |
| ·碳化硅纳米线的高分辨电镜分析 | 第128-130页 |
| ·碳化硅纳米线的生长机理 | 第130-132页 |
| ·小结 | 第132-133页 |
| 结论 | 第133-135页 |
| 参考文献 | 第135-148页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及专利 | 第148-150页 |
| 哈尔滨工业大学博士学位论文原创性声明 | 第150页 |
| 哈尔滨工业大学博士学位论文使用授权书 | 第150-152页 |
| 致谢 | 第152-153页 |
| 个人简历 | 第153页 |