| 引言 | 第1-9页 |
| 第一章 ZnO薄膜研究现状和进展 | 第9-14页 |
| ·ZnO材料研究现状和未来趋势 | 第9-10页 |
| ·氧化锌薄膜的应用前景 | 第10-12页 |
| ·制作紫外光探测器 | 第10页 |
| ·可与GaN互作缓冲层 | 第10-11页 |
| ·用于光电器件的单片集成 | 第11页 |
| ·制作表面声波器件 | 第11-12页 |
| ·本论文研究内容 | 第12-13页 |
| 参考文献 | 第13-14页 |
| 第二章 ZnO薄膜的基本性质和制备方法 | 第14-25页 |
| ·ZnO薄膜的基本性质 | 第14-19页 |
| ·ZnO薄膜的晶体结构和晶体形貌 | 第14-15页 |
| ·ZnO薄膜的光电性质 | 第15-16页 |
| ·ZnO薄膜的磁学性质 | 第16-17页 |
| ·ZnO薄膜的气敏性质 | 第17-18页 |
| ·ZnO薄膜的压敏性质 | 第18-19页 |
| ·ZnO薄膜的压电性质 | 第19页 |
| ·ZnO薄膜的制备 | 第19-23页 |
| ·锌膜氧化法 | 第20页 |
| ·溅射法 | 第20-21页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第21页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第21-22页 |
| ·喷射热分解法 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-25页 |
| 第三章 Zn_(0.85-x)Co_(0.075)Fe_(0.075)Cu_xO薄膜样品制备与测试 | 第25-38页 |
| ·实验设备简述 | 第25-26页 |
| ·电子束溅射仪 | 第25页 |
| ·蒸发源类型 | 第25-26页 |
| ·样品制备过程 | 第26-27页 |
| ·靶材制备 | 第26-27页 |
| ·基片清洗 | 第27页 |
| ·真空镀膜 | 第27页 |
| ·制备工艺影响成膜质量的因素 | 第27-29页 |
| ·样品的测试 | 第29-36页 |
| ·结构测试 | 第29-32页 |
| ·形貌测试 | 第32-34页 |
| ·磁性测量 | 第34-36页 |
| ·光致发光谱测量 | 第36页 |
| ·薄膜样品编号 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-38页 |
| 第四章 Zn_(0.85-x)Co_(0.075)Fe_(0.075)Cu_xO薄膜结构与形貌分析 | 第38-50页 |
| ·结构分析和研究 | 第38-46页 |
| ·不同衬底类型对薄膜结晶状况的影响 | 第38-39页 |
| ·不同衬底温度对薄膜结晶状况的影响 | 第39-40页 |
| ·衬底温度对薄膜晶粒尺寸和衍射峰的影响 | 第40-42页 |
| ·氧分压比K对薄膜结晶状况的影响 | 第42-43页 |
| ·退火温度对薄膜结晶状况的影响 | 第43-45页 |
| ·Cu掺杂含量对薄膜结晶状况的影响 | 第45页 |
| ·沉积速率对薄膜结晶状况的影响 | 第45-46页 |
| ·形貌分析和研究 | 第46-49页 |
| ·不同衬底类型的薄膜形貌分析和研究 | 第46-47页 |
| ·硅衬底不同温度的薄膜形貌分析和研究 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 第五章 Zn_(0.85-x)Co_(0.075)Fe_(0.075)Cu_xO薄膜磁性能与光学性质研究 | 第50-61页 |
| ·磁性分析和研究 | 第50-54页 |
| ·稀磁半导体 | 第50-51页 |
| ·外磁场平行于膜面和垂直于膜面的磁性分析 | 第51-52页 |
| ·不同Cu含量磁性能分析 | 第52-54页 |
| ·光致发光特性分析和研究 | 第54-59页 |
| ·紫光光致发光特性分析和研究 | 第54-55页 |
| ·光致发光谱蓝移分析和研究 | 第55-57页 |
| ·红光光致发光性质特性和研究 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-61页 |
| 第六章 结论 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文目录 | 第63页 |
