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一维半导体纳米结构的第一原理研究:电子结构与器件设计

摘要第1-5页
Abstract第5-9页
第1章 绪论第9-21页
   ·引言第9-11页
   ·碳纳米管和硼氮纳米管第11-13页
     ·碳纳米管第11-13页
     ·硼氮纳米管第13页
   ·硅纳米线和硅纳米管第13-17页
     ·硅纳米线第13-16页
     ·硅纳米管第16-17页
     ·碳化硅纳米线第17页
   ·Ge(001)表面的准一维电子气第17-19页
   ·第一原理计算方法第19页
   ·研究内容第19-21页
第2章 理论方法第21-28页
   ·引言第21-22页
   ·量子多体问题第22-23页
   ·密度泛函理论第23-25页
   ·自洽场方法第25-26页
   ·场发射的动态模拟方法第26-27页
   ·小结第27-28页
第3章 单晶结构硅纳米管的电子性质第28-43页
   ·引言第28-29页
   ·均匀厚度的硅纳米管第29-36页
     ·晶体纳米管的结构模型和计算方法第29-30页
     ·纳米管的电子结构第30-36页
   ·不均匀厚度的硅纳米管第36-41页
     ·结构模型和计算方法第36页
     ·电子结构的非均匀性效应第36-37页
     ·基于非均匀性效应的新调制掺杂方法第37-39页
     ·硅纳米管的光学性质第39-41页
   ·硅锗异质结构的纳米线第41页
   ·结论第41-43页
第4章 Ge(001)表面号π~*准一维导电通道中的杂质散射第43-55页
   ·引言第43-44页
   ·STM实验测量和驻波的相移分析第44-46页
   ·密度泛函方法和近自由电子模型第46-47页
   ·表面电子性质计算和STM图像模拟第47-51页
   ·散射势场的理论计算和形成机制第51-53页
   ·原子开关的翻转势垒第53-54页
   ·结论第54-55页
第5章 硼氮纳米管的场发射特性第55-62页
   ·引言第55页
   ·计算方法:密度泛函和场发射动态模拟第55-56页
   ·Cs原子掺杂的硼氮纳米管的电子性质第56-59页
   ·Cs原子掺杂的硼氮纳米管的场发射性质第59-61页
   ·结论第61-62页
第6章 碳化硅纳米线在应力下的电子学性质第62-68页
   ·引言第62页
   ·计算方法第62页
   ·SiC纳米线的电子结构和轴向应力的影响第62-65页
   ·SiC纳米线的力学性质第65-66页
   ·ZnO表面和ZnO纳米线上的H原子吸附第66-67页
   ·结论第67-68页
第7章 总结第68-70页
参考文献第70-81页
致谢第81-82页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第82-83页

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