| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第一章 ZnO稀磁半导体的研究意义以及研究现状 | 第12-34页 |
| ·稀磁半导体的概述 | 第12-16页 |
| ·稀磁半导体研究的意义 | 第12-13页 |
| ·稀磁半导体研究的历史与现状 | 第13-15页 |
| ·稀磁半导体的理论体系 | 第15-16页 |
| ·ZnO体系的稀磁半导体材料 | 第16-29页 |
| ·ZnO的简介 | 第16-18页 |
| ·ZnO稀磁半导体的特点和研究现状 | 第18-19页 |
| ·ZnO掺Mn体系 | 第19-25页 |
| ·ZnO掺杂Co体系 | 第25-27页 |
| ·其他过渡金属的掺杂的ZnO体系 | 第27-29页 |
| ·小结 | 第29-31页 |
| 参考文献 | 第31-34页 |
| 第二章 XAFS基本理论 | 第34-57页 |
| ·XAFS简介 | 第34-35页 |
| ·EXAFS基本理论 | 第35-45页 |
| ·X射线吸收 | 第35-38页 |
| ·EXAFS基本方程的推导 | 第38-40页 |
| ·EXAFS基本方程的一些修正 | 第40-41页 |
| ·透射实验中样品的厚度计算 | 第41-42页 |
| ·荧光模式中的荧光自吸收效应 | 第42-45页 |
| ·XANES基本理论 | 第45-55页 |
| ·XANES谱中的选择定则 | 第45-46页 |
| ·配位场理论在XANES谱中的应用 | 第46-50页 |
| ·XANES谱的全多重散射计算 | 第50-55页 |
| 参考文献 | 第55-57页 |
| 第三章 溶胶-凝胶制备的Zn_(1-x)Co_xO纳米聚合物的结构和性能研究 | 第57-82页 |
| ·样品的制备 | 第57-58页 |
| ·测试手段及设备 | 第58-59页 |
| ·结果与讨论 | 第59-80页 |
| ·XRD结果和分析 | 第59-60页 |
| ·EXAFS结果和分析 | 第60-64页 |
| ·SQUID测量结果和分析 | 第64-66页 |
| ·Co K边的XANES结果和分析 | 第66-74页 |
| ·O K边的XANES结果和分析 | 第74-80页 |
| ·结论 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-82页 |
| 第四章 脉冲激光沉积制备的Co_xZn_(1-x)O薄膜 | 第82-90页 |
| ·Co_xZn_(1-x)O薄膜样品制备 | 第82页 |
| ·SQUID测量结果 | 第82-83页 |
| ·XAFS的测量与结果 | 第83-87页 |
| ·XANES分析和结果 | 第87-88页 |
| ·小结 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-90页 |
| 第五章 脉冲激光沉积制备的Mn_xZn_(1-x)O薄膜样品 | 第90-98页 |
| ·样品的制备 | 第90页 |
| ·Mn K边的XAFS测量 | 第90-91页 |
| ·Mn K边的EXAFS分析与讨论 | 第91-94页 |
| ·Mn K边XANES分析 | 第94-96页 |
| ·小结 | 第96-97页 |
| 参考文献 | 第97-98页 |
| 第六章 化学气相沉积制备的(Mn,N)共掺杂ZnO薄膜的结构和性能研究 | 第98-108页 |
| ·样品的制备 | 第98-99页 |
| ·样品的测量与分析 | 第99-104页 |
| ·XRD的测量与分析 | 第99页 |
| ·SQUID的测量与分析 | 第99-100页 |
| ·Mn和N的K边XANES的测量与分析 | 第100-104页 |
| ·小结 | 第104-106页 |
| 参考文献 | 第106-108页 |
| 第七章 磁控溅射制备的Co_(0.06)/ZnO_y薄膜的结构和性能研究 | 第108-124页 |
| ·样品的制备 | 第108页 |
| ·TEM和SQUID的测量与结果 | 第108-111页 |
| ·磁致电阻率测量 | 第111-112页 |
| ·XAFS的测量与结果 | 第112-120页 |
| ·Zn K边EXAFS结果 | 第112-113页 |
| ·Zn K边EXAFS结果 | 第113-115页 |
| ·Co K边的EXAFS研究 | 第115-118页 |
| ·Zn、Co和O K边XANES分析 | 第118-120页 |
| ·讨论 | 第120-122页 |
| 参考文献 | 第122-124页 |
| 博士期间发表的论文 | 第124-125页 |
| 致谢 | 第125页 |
