| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第一章 文献综述 | 第11-31页 |
| ·引言 | 第11-13页 |
| ·合成甲醇的工业发展概况 | 第12-13页 |
| ·我国甲醇工业发展概况 | 第13页 |
| ·甲醇合成反应器 | 第13-16页 |
| ·固定床甲醇合成反应器 | 第13-14页 |
| ·浆态床合成甲醇反应器 | 第14-16页 |
| ·甲醇合成催化剂的研究进展 | 第16-25页 |
| ·甲醇合成催化剂的种类 | 第16-19页 |
| ·助剂对铜基甲醇合成催化剂的影响 | 第19-21页 |
| ·浆态床合成甲醇催化剂 | 第21-25页 |
| ·微波技术在催化剂制备中的应用 | 第25-28页 |
| ·在非负载催化剂和载体制备中的应用 | 第25-27页 |
| ·在负载型催化剂制备中的应用 | 第27-28页 |
| ·本论文的研究背景意义及内容 | 第28-31页 |
| ·研究背景和意义 | 第28-30页 |
| ·研究内容 | 第30-31页 |
| 第二章 实验部分 | 第31-39页 |
| ·原料及化学试剂 | 第31页 |
| ·实验设备 | 第31-32页 |
| ·浆态床反应装置 | 第32-33页 |
| ·催化剂的制备 | 第33-34页 |
| ·催化剂的活性评价 | 第34-35页 |
| ·计算方法与分析 | 第35-36页 |
| ·催化剂表征 | 第36-39页 |
| ·X-射线衍射(XRD) | 第36页 |
| ·程序升温还原(H2-TPR) | 第36-37页 |
| ·热重分析(TG-DTG) | 第37页 |
| ·扫描电镜(SEM) | 第37页 |
| ·比表面积和孔结构(BET) | 第37页 |
| ·红外吸收光谱(FTIR) | 第37页 |
| ·透射电镜(TEM) | 第37页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第37-39页 |
| 第三章 微波辐射老化制备CuO/ZnO/Al_2O_3催化剂及其性能研究 | 第39-55页 |
| ·微波辐射下Cu/Zn比对CuO/ZnO/Al_2O_3催化剂性能的影响 | 第39-48页 |
| ·实验部分 | 第39-40页 |
| ·结果与讨论 | 第40-48页 |
| ·小结 | 第48页 |
| ·微波辐射下沉淀方式对CuO/ZnO/Al_2O_3催化剂性能的影响 | 第48-55页 |
| ·实验部分 | 第48-49页 |
| ·结果与讨论 | 第49-53页 |
| ·小结 | 第53-55页 |
| 第四章 助剂Zr对CuO/ZnO/Al_2O_3催化剂性能的影响 | 第55-67页 |
| ·实验部分 | 第55-56页 |
| ·结果与讨论 | 第56-65页 |
| ·催化剂活性及稳定性测试 | 第56-57页 |
| ·前驱体的XRD表征 | 第57-58页 |
| ·前驱体的FTIR表征 | 第58-59页 |
| ·前驱体的DTG表征 | 第59-60页 |
| ·催化剂的XRD表征 | 第60-62页 |
| ·催化剂的XPS表征 | 第62-63页 |
| ·催化剂的TPR表征 | 第63-64页 |
| ·催化剂的CO-TPD表征 | 第64-65页 |
| ·小结 | 第65-67页 |
| 第五章 溶剂及微波辐射对CuO/ZnO/Al_2O_3催化剂CO_2+H_2合成甲醇性能的影响 | 第67-77页 |
| ·实验部分 | 第67-68页 |
| ·结果与讨论 | 第68-75页 |
| ·催化剂前驱体XRD表征 | 第68-69页 |
| ·催化剂前驱体DTG表征 | 第69-70页 |
| ·催化剂及其前驱体SEM表征 | 第70-71页 |
| ·催化剂XRD和BET表征 | 第71-72页 |
| ·催化剂H_2-TPR表征 | 第72-73页 |
| ·催化剂XPS和AES表征 | 第73-75页 |
| ·催化剂催化合成甲醇性能测试 | 第75页 |
| ·小结 | 第75-77页 |
| 第六章 总结和建议 | 第77-79页 |
| ·结论 | 第77-78页 |
| ·建议 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-87页 |
| 致谢 | 第87-89页 |
| 发表论文 | 第89页 |
