| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-25页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·光催化分解水的途径 | 第10-12页 |
| ·光催化分解水反应机理 | 第12-13页 |
| ·提高WO_3光催化性能的途径 | 第13-20页 |
| ·改善催化剂的粒径 | 第13-14页 |
| ·催化剂表面光敏化 | 第14-15页 |
| ·过渡金属掺杂 | 第15-17页 |
| ·非金属掺杂 | 第17-18页 |
| ·表面贵金属沉积 | 第18页 |
| ·复合半导体 | 第18-19页 |
| ·强酸修饰 | 第19-20页 |
| ·加入电子给体或受体 | 第20页 |
| ·外场效应的影响 | 第20页 |
| ·可见光催化分解水制O_2、制H_2 | 第20-22页 |
| ·实际太阳照射下的光催化分解水 | 第22-23页 |
| ·本论文的选题意义和研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 实验部分 | 第25-30页 |
| ·催化剂的合成路线 | 第25页 |
| ·主要试剂和仪器 | 第25-27页 |
| ·光催化剂的表征 | 第27-28页 |
| ·X-射线粉末衍射测试(XRD) | 第27页 |
| ·UV-VIS漫反射分析(DRS) | 第27页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS) | 第27页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第27页 |
| ·光致发光光谱(PL) | 第27页 |
| ·气相色谱分析 | 第27-28页 |
| ·光催化活性评价装置 | 第28-30页 |
| ·紫外光光催化活性评价 | 第28页 |
| ·可见光光催化活性评价 | 第28-30页 |
| 第三章 稀土元素掺杂对WO_3光解水制氧活性的影响 | 第30-53页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·催化剂的制备 | 第30-31页 |
| ·催化剂的表征 | 第31-44页 |
| ·样品的XRD与SEM表征 | 第31-35页 |
| ·紫外-可见漫反射光谱 | 第35-37页 |
| ·X-射线光电子能谱 | 第37-43页 |
| ·光致发光光谱 | 第43-44页 |
| ·光催化活性 | 第44-52页 |
| ·气相色谱仪检测光催化反应产物结果 | 第44-45页 |
| ·合成温度对可见光催化活性的影响 | 第45-47页 |
| ·掺杂浓度对可见光催化活性的影响 | 第47-48页 |
| ·不同稀土金属掺杂对光催化活性的研究 | 第48-50页 |
| ·不同稀土掺杂后光催化活性差异的理论分析 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 N、S、C、F掺杂WO_3光催化剂的制备及性能研究 | 第53-76页 |
| ·引言 | 第53页 |
| ·催化剂的制备 | 第53-54页 |
| ·结果与讨论 | 第54-68页 |
| ·XRD与SEM分析 | 第54-57页 |
| ·UV-Vis漫反射分析 | 第57-59页 |
| ·XPS分析 | 第59-62页 |
| ·气相色谱仪检测光催化反应产物结果 | 第62-63页 |
| ·光催化活性评价 | 第63-68页 |
| ·S、C、N、F掺杂WO_3光催化剂的密度泛函理论计算 | 第68-74页 |
| ·WO_3晶胞计算模型与计算方法 | 第68-69页 |
| ·WO_3晶体计算结果与讨论 | 第69-70页 |
| ·C、N、S、F掺杂WO_3晶体计算结果与讨论 | 第70-74页 |
| ·本章小结 | 第74-76页 |
| 第五章 结论及创新点 | 第76-78页 |
| ·结论 | 第76-77页 |
| ·本论文的创新点 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 攻读硕士学位期间主要的研究成果 | 第86页 |
